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公开(公告)号：EP0592094A2
公开(公告)日：1994-04-13
申请号：EP93306702.7
申请日：1993-08-24
Applicant: International Business Machines Corporation
Inventor： Fan, Long-Shen , Zappe, Hans Helmut
CPC classification number: G03F7/11 , B81B2201/035 , B81B2201/037 , B81C99/0085 , G03F7/00 , H02N1/008
Abstract: In the fabrication of a free-standing miniaturized structure in a range of about 10 to 20 µm thick, a method based on a sacrificial system includes the steps of selecting a substrate material, depositing on the substrate material a sacrificial layer 58 of material and patterning the sacrificial layer to define a shape. A photoresist layer 62 of material is deposited on the sacrificial layer and patterned by contrast-enhanced photolithography to form a photoresist mould. Upon the mould there is plated a metallic layer 68 of material. The electroplated structure conforms to the resist profile and can have a thickness many times that of conventional polysilicon microstructures. The photoresist mould and the sacrificial layer are thereafter dissolved using etchants to form a free standing metallic structure in a range of about 10 to 20 µm thick, with vertical to lateral aspect ratios of 9:1 to 10:1 or more.
Abstract translation: 在制造约10至20μm厚的自立式小型化结构中，基于牺牲系统的方法包括以下步骤：选择衬底材料，在衬底材料上沉积材料的牺牲层58并图案化 牺牲层来定义一个形状。 将材料的光致抗蚀剂层62沉积在牺牲层上并且通过对比增强的光刻来图案化以形成光刻胶模具。 在模具上镀上一层金属材料层68。 电镀结构符合抗蚀剂轮廓并且可以具有传统多晶硅微结构的多倍。 之后使用蚀刻剂溶解光致抗蚀剂模具和牺牲层以形成约10至20μm厚的独立式金属结构，垂直横向长宽比为9：1至10：1或更大。
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公开(公告)号：JP2017053854A
公开(公告)日：2017-03-16
申请号：JP2016173427
申请日：2016-09-06
Applicant: ニヴァロックス−ファー ソシエテ アノニム
Inventor： デュボワ,フィリップ
CPC classification number: G04B31/08 , B81C1/00674 , G04B15/14 , B81B2201/035
Abstract: 【課題】シリコン系マイクロメカニカル時計部品を潤滑するための方法を提供する。 【解決手段】少なくとも1つの表面を有するシリコン系基板1を備えるマイクロメカニカル時計部品であって、マイクロメカニカル時計部品の表面の少なくとも一部は、マイクロメカニカル時計部品の外側表面において外向きに開口する、減摩剤5を含む細孔を有する。又、シリコン系基板1から開始される、マイクロメカニカル時計部品を製造するための方法であって、シリコン系基板1は少なくとも1つの表面を有し、表面の少なくとも一部は減摩剤5で潤滑される方法は、以下のステップをこの順で含む:a)上記シリコン系基板1の表面の一部の表面上に細孔を形成するステップ;b)細孔内に減摩剤5を堆積させるステップ。 【選択図】図5
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公开(公告)号：JP2017053852A
公开(公告)日：2017-03-16
申请号：JP2016173423
申请日：2016-09-06
Applicant: ニヴァロックス−ファー ソシエテ アノニム
Inventor： デュボワ,フィリップ
CPC classification number: G04B15/14 , B81B3/007 , B81C1/0038 , B81C1/00539 , B81C1/00547 , G04D3/0069 , B81B2201/035 , B81C1/00714 , B81C1/00992 , B81C2201/0115 , C09K13/00 , C09K13/08 , C23C14/0611 , C23C14/0652 , C23C14/10 , C23C14/12 , C23C16/0254 , C23C16/45525 , C25F3/02 , C25F3/12
Abstract: 【課題】シリコン上に好適な材料の厚い層を迅速に堆積させることができる、シリコン系マイクロメカニカル時計部品を製造するための方法を提供する。 【解決手段】マイクロメカニカル時計部品を製造するための方法は、a)上記シリコン系基板1の表面の少なくとも一部の表面に、所定の深さの細孔2を形成するステップ、b)ダイヤモンド、ダイヤモンド様炭素(DLC)、酸化ケイ素、窒化ケイ素、セラミック、ポリマー及びこれらの混合物から選択された材料で、細孔2全体を充填し、細孔2内に、細孔2の深さと少なくとも等しい厚さの上記材料の層を形成するステップを有する。 【選択図】図3
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公开(公告)号：JP2017009609A
公开(公告)日：2017-01-12
申请号：JP2016122395
申请日：2016-06-21
Applicant: ニヴァロックス−ファー ソシエテ アノニム
Inventor： アレクス・ガンデルマン , アンドレ・パン
CPC classification number: B81C1/00619 , B81C1/00103 , G04D99/00 , B81B2201/035 , B81B2203/0384 , B81C2201/0112 , B81C2201/0132 , B81C2201/0138 , B81C2201/014 , B81C2201/0188 , B81C2201/0198
Abstract: 【課題】材料のウェハを微小機械加工することによって形成される構成部品の摩擦を改善できる、新たなタイプの微小機械構成部品および新たなタイプの制作方法を提案する。 【解決手段】本発明は、少なくとも1つの削減された接触表面を有する、シリコン系構成部品に関し、上記接触表面は、垂直な側壁の「Bosch」エッチングによる、少なくとも1つの傾斜した側壁のエッチングステップによって形成され、特にシリコン系ウェハの微小機械加工によって形成された構成部品の摩擦を改善する。 【選択図】図11
Abstract translation: 材料的晶片可以提高通过微机械加工形成的摩擦部件，提出了一种微机械的部件和新类型的新类型的制造方法。 本发明具有至少一个减小的接触表面涉及基于硅的部件，所述接触面，由“博世”通过蚀刻至少一个倾斜的侧壁的步骤刻蚀垂直侧壁 它被形成，特别是通过改善微机械加工的硅晶片形成的摩擦部件。 .The 11
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公开(公告)号：JP5873894B2
公开(公告)日：2016-03-01
申请号：JP2014109958
申请日：2014-05-28
Applicant: ロレックス・ソシエテ・アノニム , ROLEX SA
Inventor： ソーシー, クレマン
CPC classification number: C25D1/003 , B81C99/0085 , C25D1/20 , G03F7/00 , B81B2201/035 , B81C2201/032
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：JP5596426B2
公开(公告)日：2014-09-24
申请号：JP2010131758
申请日：2010-06-09
Applicant: ニヴァロックス−ファー ソシエテ アノニム
Inventor： ピエール・クージン , ジャン−フィリップ・ティーボー
CPC classification number: B81C99/008 , B81B3/0075 , B81B2201/035 , B81C1/00031 , B81C1/00087 , B81C1/00119 , B81C2201/0132 , B81C2201/032 , C25D1/003 , C25D1/20 , C25D5/022 , G04B13/022 , G04B13/026 , G04D3/0069
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公开(公告)号：JP5443220B2
公开(公告)日：2014-03-19
申请号：JP2010057503
申请日：2010-03-15
Applicant: ニヴァロックス−ファー ソシエテ アノニム
Inventor： ピエール・クージン , クレア・ゴルフィー , ジャン−フィリップ・ティーボー
CPC classification number: C25D1/10 , B81B2201/035 , B81C99/009 , C25D17/00
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公开(公告)号：JP5378898B2
公开(公告)日：2013-12-25
申请号：JP2009163495
申请日：2009-07-10
Applicant: ザ・スウォッチ・グループ・リサーチ・アンド・ディベロップメント・リミテッド
Inventor： ルドルフ・ディンガー , ティエリ・ラベネル
CPC classification number: B81C99/008 , B81B2201/035 , B81C1/00674 , B81C2201/112 , G04B13/02 , G04D3/0069 , Y10T29/49579
Abstract: The method involves providing a substrate (53) made of a micro-machinable material, etching a pattern with help of photolithography, where the pattern includes a part through the substrate. The etched substrate is mounted on a support so as to leave top and bottom surfaces of the substrate. A coating of better tribological quality than the micro-machinable material is deposited on an outer surface of the part of the pattern. The part of the pattern is released from the substrate. The micro-machinable material is chosen from among group comprising crystalline silicon, crystalline silica and crystalline alumina.
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公开(公告)号：JP2010019844A
公开(公告)日：2010-01-28
申请号：JP2009163498
申请日：2009-07-10
Inventor： DINGER RUDOLF , RAVENEL THIERRY
CPC classification number: G04D3/0069 , B81B2201/035 , B81C3/008 , B81C99/008 , G04B13/02 , Y10T29/49579 , Y10T29/49581
Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method capable of pre-assembling simply and surely a part which makes it avoid to touch a functional portion of the part, so as to establish a state in which the part can be mounted any time in a device such as a timepiece without touching the part. SOLUTION: The invention relates to the method for manufacturing of the mechanical part including a step providing a substrate 53 made of micro-machinable material, and a step etching, with help of photo-lithography, a pattern that includes the mechanical part over the entire substrate 53. Furthermore, the method includes a step assembling a clip 91 on the mechanical part so that the mechanical part is ready to be mounted without being touched the portion made of micro-machinable material, and a step releasing the mechanical part from the substrate 53 so as to mount the mechanical part in the device such as a timepiece movement. COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT
Abstract translation: 要解决的问题：提供一种能够简单且可靠地预先组装一部分的方法，其使得避免接触部件的功能部分，从而建立可以随时安装部件的状态 在诸如钟表的装置中，而不接触该部件。 解决方案：本发明涉及机械部件的制造方法，包括提供由微加工材料制成的基板53的步骤，以及借助于光刻法的步骤蚀刻包括机械部件的图案 此外，该方法包括将夹子91组装在机械部件上的步骤，使得机械部件准备好安装而不会被微机械加工材料制成的部分接触，并且将机械部件 从基板53将机械部件安装在装置中，例如钟表运动。 版权所有（C）2010，JPO＆INPIT
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220.发明专利Manufacturing method of single-layered or multilayered metal structure in liga technique and structure obtained thereby 有权LIGA技术中单层或多层金属结构的制造方法及其获得的结构
公开(公告)号：JP2007247067A
公开(公告)日：2007-09-27
申请号：JP2007067204
申请日：2007-03-15
Applicant: Doniar Sa , ドニアール・ソシエテ・アノニム
Inventor： SAUCY CLEMENT
CPC classification number: C25D1/003 , B81B2201/035 , B81C99/0085 , B81C2201/032 , C25D1/20 , G03F7/00
Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method of manufacturing a single-layered or multilayered metal structure using a LIGA technique. SOLUTION: In this method, a photoresist layer is placed on a flat metal substrate, a photoresist mold is prepared by irradiation, electron bombardment or ion bombardment, a metal or alloy is electroplated in the mold, the electrocast metal structure is separated from the substrate, the photoresist is cut off from the metal structure, and the metal substrate is used as an agent involved in formation of at least one surface of the metal structure other than a surface formed by the flat surface of the substrate. COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT
Abstract translation: 要解决的问题：提供使用LIGA技术制造单层或多层金属结构的方法。 解决方案：在该方法中，将光致抗蚀剂层放置在平坦的金属基板上，通过照射，电子轰击或离子轰击制备光致抗蚀剂模具，将金属或合金电镀在模具中，将电铸金属结构分离 从基板切断光致抗蚀剂与金属结构的切断，金属基板被用作形成金属结构的至少一个表面而不是由基板的平坦表面形成的表面的试剂。 版权所有（C）2007，JPO＆INPIT
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