公开(公告)号：WO2017103162A1

公开(公告)日：2017-06-22

申请号：PCT/EP2016/081515

申请日：2016-12-16

Applicant: HERAEUS QUARZGLAS GMBH & CO. KG

Inventor： OTTER, Matthias ,  LEHMANN, Walter ,  HÜNERMANN, Michael ,  NIELSEN, Nils Christian ,  WHIPPEY, Nigel Robert ,  GROMANN, Boris ,  KPEBANE, Abdoul-Gafar

IPC: C03B20/00 ,  C03C3/06 ,  C03B37/012 ,  C03B5/06 ,  C03B19/10 ,  C03B17/04

CPC classification number: C03B20/00 ,  C03B5/06 ,  C03B17/04 ,  C03B19/106 ,  C03B37/01211 ,  C03C1/026 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/02 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/32

Abstract: Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen eines Quarzglaskörpers beinhaltend die Verfahrensschritte i.) Bereitstellen eines Siliziumdioxidgranulats, ii.) Bilden einer Glasschmelze aus dem Siliziumdioxidgranulat in einem Ofen und iii.) Bilden eines Quarzglaskörpers aus zumindest einem Teil der Glasschmelze, wobei der Ofen einen stehenden Sintertiegel beinhaltet. Die Erfindung betrifft weiterhin einen Quarzglaskörper, der durch dieses Verfahren erhältlich ist. Weiterhin betrifft die Erfindung einen Lichtleiter, ein Leuchtmittel und einen Formkörper, die jeweils durch Weiterverarbeiten des Quarzglaskörpers erhältlich sind.

Abstract translation:

本发明涉及一种用于制造石英玻璃＆OUML;包括如下工艺步骤：i）提供一Siliziumdioxidgranulats rpers，ii）形成在玻璃从Siliziumdioxidgranulat在烘箱中熔化和iii）形成的石英玻璃与OUML; ... Rpers 来自熔融玻璃的至少一部分，其中炉包括立式烧结坩埚。 本发明还涉及一种石英玻璃＆OUML;主体，可以通过此方法获得BEAR是ltlich。 此外，本发明涉及一种光导，发光装置和模制体，其每一个都可以通过进一步处理石英玻璃体

公开(公告)号：WO2017103155A1

公开(公告)日：2017-06-22

申请号：PCT/EP2016/081505

申请日：2016-12-16

Applicant: HERAEUS QUARZGLAS GMBH & CO. KG

Inventor： HEINZ FABIAN, Heinz ,  HOFMANN, Achim ,  HÜNERMANN, Michael ,  OTTER, Matthias ,  KAYSER, Thomas

IPC: C03B19/06 ,  C03B20/00 ,  C03B19/10

CPC classification number: C03B19/066 ,  C03B19/108 ,  C03B19/1095 ,  C03B2201/03 ,  C03B2201/04 ,  C03C1/02 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/32

Abstract: Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen eines Quarzglaskörpers beinhaltend die Verfahrensschritte i.) Bereitstellen eines Siliziumdioxidgranulats aus einem pyrogenen Siliziumdioxidpulver, ii.) Bilden einer Glasschmelze aus dem Siliziumdioxidgranulat und iii.) Bilden eines Quarzglaskörpers aus zumindest einem Teil der Glasschmelze, wobei der Quarzglasköper einen OH-Gehalt von weniger als 10 ppm, einen Chlorgehalt von weniger als 60 ppm und einen Aluminiumgehalt von weniger als 200 ppb aufweist. Die Erfindung betrifft weiterhin einen Quarzglaskörper, der durch dieses Verfahren erhältlich ist. Weiterhin betrifft die Erfindung einen Formkörper und ein Gebilde, die jeweils durch Weiterverarbeiten des Quarzglaskörpers erhältlich sind.

Abstract translation:

本发明涉及一种用于制造石英玻璃＆OUML; ...包括如下工艺步骤i）提供热解二氧化硅粉末的Siliziumdioxidgranulats Rpers，ii）形成在玻璃从Siliziumdioxidgranulat熔化和iii）形成的石英玻璃＆ouml; 从熔融玻璃，石英玻璃及oUML的至少一部分rpers;包括由小于10ppm，小于60ppm的氯含量和小于200ppb的铝含量的OH含量。 本发明还涉及一种石英玻璃＆OUML;主体，可以通过此方法获得BEAR是ltlich。 此外，本发明涉及一种模制体和结构，每个模制体和结构均可通过进一步处理石英玻璃体获得，

公开(公告)号：WO2017103123A2

公开(公告)日：2017-06-22

申请号：PCT/EP2016/081448

申请日：2016-12-16

Applicant: HERAEUS QUARZGLAS GMBH & CO. KG

Inventor： WHIPPEY, Nigel Robert ,  GROMANN, Boris ,  SÖHN, Matthias

IPC: C03B20/00 ,  C03C3/06 ,  C03B37/012 ,  F27D7/02

CPC classification number: C03B20/00 ,  C03B5/06 ,  C03B17/04 ,  C03B19/108 ,  C03B37/01211 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/23 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/26 ,  C03C2201/32 ,  C03C2201/50 ,  C03C2203/40

Abstract: Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen eines Quarzglaskörpers beinhaltend die Verfahrensschritte i.) Bereitstellen von Siliziumdioxidpartikeln, ii.) Bilden einer Glasschmelze aus den Siliziumdioxidpartikeln in einem Ofen und iii.) Bilden eines Quarzglaskörpers aus zumindest einem Teil der Glasschmelze, wobei der Ofen einen Gasauslass aufweist, durch den Gas dem Ofen entnommen wird, wobei der Taupunkt des Gases beim Austritt aus dem Ofen durch den Gasauslass weniger als 0°C beträgt. Die Erfindung betrifft weiterhin einen Quarzglaskörper, der durch dieses Verfahren erhältlich ist. Weiterhin betrifft die Erfindung einen Lichtleiter, ein Leuchtmittel und einen Formkörper, die jeweils durch Weiterverarbeiten des Quarzglaskörpers erhältlich sind.

Abstract translation:

本发明涉及一种用于制造石英玻璃＆OUML;包括如下工艺步骤：i）提供二氧化硅rpers，ⅱ）在烘箱中形成从二氧化硅粒子的熔融玻璃和iii）形成的石英玻璃与OUML; ... Rpers 是从熔融玻璃的至少一部分上，具有由气体到炉中取出的气体出口处的炉中，在从通过气体出口炉子出口的气体的露点是关于BEAR GT小于0℃。 本发明还涉及一种石英玻璃＆OUML;主体，可以通过此方法获得BEAR是ltlich。 此外，本发明涉及一种光导，发光装置和模制体，其每一个都可以通过进一步处理石英玻璃体

公开(公告)号：WO2017103114A2

公开(公告)日：2017-06-22

申请号：PCT/EP2016/081437

申请日：2016-12-16

Applicant: HERAEUS QUARZGLAS GMBH & CO. KG

Inventor： OTTER, Matthias ,  LEHMANN, Walter ,  HÜNERMANN, Michael ,  NIELSEN, Nils Christian ,  WHIPPEY, Nigel Robert ,  GROMANN, Boris ,  KPEBANE, Abdoul-Gafar

IPC: C03B20/00 ,  C03C3/06 ,  C03B37/012

CPC classification number: C03B37/01211 ,  C03B5/06 ,  C03B17/04 ,  C03B19/106 ,  C03B20/00 ,  C03C1/022 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/26 ,  C03C2201/32 ,  C03C2203/10

Abstract: Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen eines Quarzglaskörpers beinhaltend die Verfahrensschritte i.) Bereitstellen eines Siliziumdioxidgranulats, ii.) Bilden einer Glasschmelze aus dem Siliziumdioxidgranulat in einem Ofen und iii.) Bilden eines Quarzglaskörpers aus zumindest einem Teil der Glasschmelze, wobei der Ofen einen hängenden Sintertiegel beinhaltet. Die Erfindung betrifft weiterhin einen Quarzglaskörper, der durch dieses Verfahren erhältlich ist. Weiterhin betrifft die Erfindung einen Lichtleiter, ein Leuchtmittel und einen Formkörper, die jeweils durch Weiterverarbeiten des Quarzglaskörpers erhältlich sind.

Abstract translation:

本发明涉及一种用于制造石英玻璃＆OUML;包括如下工艺步骤：i）提供一Siliziumdioxidgranulats rpers，ii）形成在玻璃从Siliziumdioxidgranulat在烘箱中熔化和iii）形成的石英玻璃与OUML; ... Rpers 至少一部分玻璃熔体，该炉包括烧结坩埚。 本发明还涉及通过该方法可获得的石英玻璃体。 此外，本发明涉及一种光导，发光装置和模制体，其每一个都可以通过进一步处理石英玻璃体

公开(公告)号：WO2017003982A2

公开(公告)日：2017-01-05

申请号：PCT/US2016/039711

申请日：2016-06-28

Applicant: CORNING INCORPORATED

Inventor： BOOKBINDER, Dana Craig ,  LI, Ming-Jun ,  MATTHEWS, Hazel Benton III ,  MISHRA, Snigdharaj Kumar ,  TANDON, Pushkar

IPC: G02B6/036 ,  G02B6/02 ,  C03B37/012

CPC classification number: G02B6/02019 ,  C03B37/01211 ,  C03B37/018 ,  C03B37/01846 ,  C03B2201/08 ,  C03B2201/12 ,  C03B2203/22 ,  C03C3/06 ,  C03C13/045 ,  C03C13/046 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/12 ,  C03C2213/00 ,  G02B6/02009 ,  G02B6/02238 ,  G02B6/02395 ,  G02B6/03627 ,  G02B6/0365

Abstract: An optical fiber with large effective area, low bending loss and low attenuation. The optical fiber includes a core, an inner cladding region, and an outer cladding region. The core region includes a spatially uniform updopant to minimize low Rayleigh scattering and a relative refractive index and radius configured to provide large effective area. The inner cladding region features a large trench volume to minimize bending loss. The core may be doped with Cl and the inner cladding region may be doped with F.

Abstract translation: 光纤有效面积大，弯曲损耗低，衰减小。 光纤包括芯，内包层区和外包层区。 核心区域包括空间均匀的上升物质，以最小化瑞利散射的低和被配置成提供大的有效面积的相对折射率和半径。 内包层区域具有大的沟槽体积以最小化弯曲损耗。 芯可以用Cl掺杂，并且内包层区可以掺杂有F.

公开(公告)号：WO2016164513A1

公开(公告)日：2016-10-13

申请号：PCT/US2016/026325

申请日：2016-04-07

Applicant: CORNING INCORPORATED

Inventor： BOOKBINDER, Dana Craig ,  LI, Ming-Jun ,  TANDON, Pushkar

IPC: C03C3/06 ,  C03C3/076 ,  C03C13/04 ,  C03B37/027

CPC classification number: G02B6/03694 ,  C03B37/018 ,  C03B37/027 ,  C03B2201/20 ,  C03B2201/24 ,  C03B2201/31 ,  C03B2203/222 ,  C03B2203/23 ,  C03B2203/24 ,  C03C3/06 ,  C03C3/076 ,  C03C13/045 ,  C03C13/046 ,  C03C25/1055 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/24 ,  C03C2201/31 ,  G02B6/02395 ,  G02B6/0281 ,  G02B6/03627 ,  G02B6/03644

Abstract: A single mode optical fiber having a core made from silica and less than or equal to about 11 weight% germania and having a maximum relative refractive index Δ 1MAX . The optical fiber also has an inner cladding surrounding the core and having a minimum relative refractive index Δ 2MIN , a first outer cladding surrounding the inner cladding and a second outer cladding surrounding the first outer cladding. The viscosity at 1650°C of the second outer cladding minus the viscosity at 1650°C of the first outer cladding is greater than 0.1e 7 Poise, and Δ 1MAX > Δ 2MIN . The single mode optical fiber may also have an outer cladding surrounding the inner cladding made from silica or SiON. The first outer cladding has a maximum relative refractive index Δ 3MAX , and Δ 3MAX > Δ 2MIN .

Abstract translation: 一种单模光纤，其具有由二氧化硅制成并且小于或等于约11重量％的锗并且具有最大相对折射率Δ1MAX的芯。 光纤还具有围绕芯的内包层，并且具有最小相对折射率Δ2MIN，围绕内包层的第一外包层和围绕第一外包层的第二外包层。 第二外包层的1650℃下的粘度减去第一外包层的1650℃下的粘度大于0.1e7 Poise，Δ1MAX>Δ2MIN。 单模光纤还可以具有围绕由二氧化硅或SiON制成的内包层的外包层。 第一外包层具有最大相对折射率Δ3MAX和Δ3MAX>Δ2MIN。

公开(公告)号：WO2014128148A3

公开(公告)日：2014-11-27

申请号：PCT/EP2014053199

申请日：2014-02-19

Applicant: HERAEUS QUARZGLAS ,  SHINETSU QUARTZ PROD

Inventor： KUEHN BODO

IPC: C03C4/00 ,  C03B19/01 ,  C03B19/14 ,  C03B20/00 ,  C03B32/00 ,  C03C3/06 ,  G02B1/00 ,  G02B1/02

CPC classification number: C03C3/06 ,  C03B19/1453 ,  C03B32/00 ,  C03B32/02 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/21 ,  C03B2201/23 ,  C03B2201/24 ,  C03C4/04 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/24 ,  C03C2203/54 ,  C03C2204/00 ,  G02B1/00 ,  G02B1/02 ,  Y02P40/57

Abstract: The invention relates to an optical component made of synthetic quartz glass for use in an ArF excimer laser lithography process with an applied wavelength of 193 nm, comprising a glass structure substantially free of oxygen defect sites, a hydrogen content ranging from 0.1 x 1016 molecules/cm3 to 1.0 x 1018 molecules/cm3, an SiH group content of less than 2 x 1017 molecules/cm3, and a hydroxyl group content ranging from 0.1 to 100 wt. ppm, said glass structure having a fictive temperature of less than 1070 °C. The aim of the invention is to allow a reliable prediction of the compacting behavior when using UV laser radiation with the applied wavelength on the basis of a measurement of the compacting behavior using a measured wavelength of 633 nm. This is achieved by an optical component design in which the component undergoes a laser-induced change in the refractive index in response to irradiation by means of a radiation with a wavelength of 193 nm using 5x109 pulses with a pulse width of 125 ns and a respective energy density of 500 µJ/cm2 at a pulse repetition frequency of 2000 Hz, said change totaling a first measured value M193nm when measured using the applied wavelength of 193 nm and totaling a second measured value M633nm when measured using a measured wavelength of 633 nm, wherein M193nm/M633nm

Abstract translation: 本发明涉及一种用于在ArF准分子激光光刻法使用具有193nm的波长使用的光合成的石英玻璃部件，用玻璃结构基本没有氧缺陷，在0.1×1016分子/立方厘米至1的范围内的氢含量 0×1018分子/厘米3，SiH基团的含量小于2×1017摩尔/厘米3，并且具有羟基的0.1重量和100ppm之间的范围内，其中所述玻璃结构的含量为少的假想温度 具有1070℃ 为了在633测量波长为使得能够与所使用的波长的紫外激光辐射使用时，压实行为的可靠预测从Kompaktierungsverhaltens的测量开始，该光学装置的结构，提出了，这是对照射的193纳米与5×10 9的波长的辐射 用的125毫微秒的脉冲宽度和各500μJ/ cm 2的能量密度和2000Hz的与折射率的激光诱导的变化的脉冲重复频率的脉冲进行反应，所述量在测量用的193nm的第一测量值M193nm和测量与633nm的测定波长使用波长 第二测量值M633nm的产率，其中：M193nm / M633nm <1.7。

公开(公告)号：WO2014178361A1

公开(公告)日：2014-11-06

申请号：PCT/JP2014/061819

申请日：2014-04-28

Applicant: 住友電気工業株式会社

Inventor： 田村　欣章 ,  春名　徹也 ,  平野　正晃

IPC: C03C13/04 ,  G02B6/00 ,  G02B6/036

CPC classification number: C03C15/00 ,  C03C3/06 ,  C03C13/045 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/50 ,  C03C2203/40 ,  G02B6/03611

Abstract: 　低損失の光ファイバとなることができる光ファイバ母材を提供する。光ファイバ母材は、カリウム濃度が５０atomic ppm以上である直径ｄ１のカリウム含有領域を含み外直径ｄ２が４×ｄ１以上８×ｄ１以下であるコア部と、コア部を囲みコア部の屈折率より小さい屈折率を有するクラッド部と、を備える。

Abstract translation: 提供了可以形成为低损耗光纤的光纤预制件。 该光纤预制件具有芯部，其包含钾浓度为50原子ppm以上且具有d1的直径（d2）为4×d1〜8的含钾区域 ×D1; 以及围绕芯部的包层部，其折射率比芯部更小。

公开(公告)号：WO2002098809A1

公开(公告)日：2002-12-12

申请号：PCT/US2002/013901

申请日：2002-05-02

Applicant: 3M INNOVATIVE PROPERTIES COMPANY

Inventor： ANDERSON, Mark, T. ,  SCHARDT, Craig, R. ,  ONSTOTT, James, R. ,  DONALDS, Lawrence, J. ,  CHIARELI, Alessandra, O.

IPC: C03C3/06

CPC classification number: G02B6/02009 ,  C03B37/01807 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/28 ,  C03B2201/36 ,  C03B2203/22 ,  C03C3/06 ,  C03C13/046 ,  C03C23/0095 ,  C03C25/104 ,  C03C25/1065 ,  C03C25/608 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/3417 ,  C03C2201/3476 ,  C03C2201/36 ,  C03C2203/52 ,  G02B6/02285 ,  G02B6/03627 ,  G02B6/03633 ,  G02B6/0365 ,  G02B6/03655 ,  G02B6/03694 ,  G02B6/2551 ,  H01S3/06708 ,  H01S3/06716 ,  H01S3/06729 ,  H01S3/06754

Abstract: An optical article including a core; at least one cladding layer; and a narrow fluorine reservoir between the core and the cladding layer. The fluorine reservoir has a higher concentration of fluorine than either the cladding layer or the core. One particular embodiment includes a core including a halide-doped silicate glass that comprises approximately the following in cation-plus-halide mole percent 0.25-5 mol% Al 2 O 3 , 0.05-1.5 mol% La 2 O 3 , 0.0005-0.75 mol% Er 2 O 3 , 0.5-6 mol% F, 0-1 mol% Cl.

Abstract translation: 一种包括芯的光学制品; 至少一层包层; 以及在芯和包层之间的窄氟储存器。 氟储存器具有比包覆层或芯层更高的氟浓度。 一个具体实施方案包括包含卤化物掺杂的硅酸盐玻璃的核，其在阳离子加 - 卤化物摩尔百分比为0.25-5摩尔％Al 2 O 3，0.05-1.5摩尔％La 2 O 3，0.0005-0.75摩尔％Er 2 O 3，0.5-6 mol％F，0-1mol％Cl。

公开(公告)号：KR1020150138170A

公开(公告)日：2015-12-09

申请号：KR1020157022805

申请日：2014-02-19

Applicant: 헤래우스 크바르츠글라스 게엠베하 & 컴파니 케이지

Inventor： 퀸보도

IPC: C03C4/00 ,  G02B1/02 ,  C03C3/06

CPC classification number: C03C3/06 ,  C03B19/1453 ,  C03B32/00 ,  C03B32/02 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/21 ,  C03B2201/23 ,  C03B2201/24 ,  C03C4/04 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/24 ,  C03C2203/54 ,  C03C2204/00 ,  G02B1/00 ,  G02B1/02 ,  Y02P40/57

Abstract: 본발명은, 193 nm 의적용파장을갖는 ArF 엑시머레이저리소그래피프로세스에서의사용을위한합성석영유리로만들어지며, 실질적으로산소결함사이트가없는유리구조, 0.1 x 10molecule/cm내지 1.0 x 10molecule/cm범위의수소함량, 2 x 10molecule/cm미만의 SiH 기의함량, 및 0.1 과 100 wt. ppm 사이의범위의히드록실기의함량을포함하고, 상기유리구조가 1070℃미만의가상온도를갖는, 광학컴포넌트에관한것이다. 본발명의목적은 633 nm 의측정파장을이용하여압축거동의측정에기초한적용파장으로 UV 레이저방사선을이용할때 압축거동의신뢰적인예측을허용하는것이다. 이것은, 컴포넌트가, 펄스폭이 125 ns 이고 2000 Hz 의펄스반복주파수에서각각의에너지밀도가 500 μJ/cm인 5x10개펄스들을이용하여 193 nm 의파장을갖는방사선에의한조사에응답하여레이저유도굴절률변화를겪고, 상기변화는, 193 nm 의적용파장을이용한측정시제 1 측정값 M의합계를내고, 633 nm 의측정파장을이용하여측정시제 2 측정값 M의합계를내고, 여기서 M/M