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公开(公告)号：TWI408771B
公开(公告)日：2013-09-11
申请号：TW098104723
申请日：2009-02-13
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
Inventor： 巴特勒 漢斯 , BUTLER, HANS
IPC: H01L21/683 , H01L21/027 , G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70758 , G03F7/707 , G03F7/70725 , G03F7/70775
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公开(公告)号：TWI407263B
公开(公告)日：2013-09-01
申请号：TW097149928
申请日：2008-12-19
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
Inventor： 彼得 葛瑞德斯 威哈幕斯 布辛克 , BUSSINK, PETER GERHARDUS WILHELMUS , 安司特亞 賈庫伯 安昔塔 博英瑪 , BRUINSMA, ANASTASIUS JACOBUS ANICETUS , 漢德克斯 喬漢斯 瑪利亞 梅捷 , MEIJER, HENDRICUS JOHANNES MARIA
CPC classification number: G03F9/7034 , G03F9/7003
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公开(公告)号：TWI406104B
公开(公告)日：2013-08-21
申请号：TW098117541
申请日：2009-05-26
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
Inventor： 史古登 馬克 , SCHOLTEN, MARK , 凱列恩 傑卡布 , KLEIJN, JACOB , 里布爾 史提芬 克里斯提恩 昆塔斯 , LIBOUREL, STEPHAN CHRISTIAAN QUINTUS , 由比克 馬克 彼卓斯 , UBBINK, MARK PETRUS
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/70716 , G03F7/7095 , Y10T428/30
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公开(公告)号：TW201334632A
公开(公告)日：2013-08-16
申请号：TW102101865
申请日：2013-01-17
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
Inventor： 迪卡蔓 喬漢 夫德克 , DIJKSMAN, JOHAN FREDERIK , 哈爾特曼斯 羅蘭德 強納斯 , HULTERMANS, RONALD JOHANNES , 坎班 丹東尼斯 帝朵勒 懷慕斯 , KEMPEN, ANTONIUS THEODORUS WILHELMUS , 巴帝 瑞敏 , BADIE, RAMIN
CPC classification number: H05G2/006 , G03F7/70033 , G03F7/70908 , G03F7/70916 , H05G2/005
Abstract: 本發明提供用於促進一燃料液滴串流產生器之起動之方法及裝置。在一起動階段期間，將該燃料液滴串流產生器定位成使得該等燃料液滴被向下發射，藉以，重力輔助建立該串流。使用一觀測系統來監視該等液滴，且一旦該串流經判定為具有所要特性，則該串流產生器移動至穩態使用之一第二位置，在該第二位置中在一水平方向上發射該液滴串流。
Abstract in simplified Chinese: 本发明提供用于促进一燃料液滴串流产生器之起动之方法及设备。在一起动阶段期间，将该燃料液滴串流产生器定位成使得该等燃料液滴被向下发射，借以，重力辅助创建该串流。使用一观测系统来监视该等液滴，且一旦该串流经判定为具有所要特性，则该串流产生器移动至稳态使用之一第二位置，在该第二位置中在一水平方向上发射该液滴串流。
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公开(公告)号：TW201331723A
公开(公告)日：2013-08-01
申请号：TW101147225
申请日：2012-12-13
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
Inventor： 巴特勒 漢斯 , BUTLER, HANS , 柏利克 阿諾 詹 , BLEEKER, ARNO JAN , 漢納斯 皮耶特 雷納特 瑪利亞 , HENNUS, PIETER RENAAT MARIA , 霍克斯 馬丁諾司 亨德瑞克 亨瑞克斯 , HOEKS, MARTINUS HENDRICUS HENRICUS , 侯 史文 安東尹 喬漢 , HOL, SVEN ANTOIN JOHAN , 凡 德 蕭特 海曼 克萊斯 , VAN DER SCHOOT, HARMEN KLAAS , 斯萊克 博納德 安東尼斯 , SLAGHEKKE, BERNARDUS ANTONIUS , 提那曼斯 派翠西斯 阿若瑟斯 約克伯 , TINNEMANS, PATRICIUS ALOYSIUS JACOBUS , 范 德 威斯特 馬克 威海瑪 馬里亞 , VAN DER WIJST, MARC WILHELMUS MARIA , 薩爾 柯恩 賈可布 喬哈奈 馬瑞亞 , ZAAL, KOEN JACOBUS JOHANNES MARIA , 凱迪 李歐朵魯斯 佩特魯斯 瑪麗亞 , CADEE, THEODORUS PETRUS MARIA , 畢瑞恩斯 洛德 安東尼斯 凱薩琳娜 瑪利亞 , BEERENS, RUUD ANTONIUS CATHARINA MARIA , 費雪 歐拉夫 馬迪尼司 喬塞福爾斯 , FISCHER, OLOF MARTINUS JOSEPHUS , 安真南 威赫目斯 漢瑞克斯 賽多魯司 馬力雅 , AANGENENT, WILHELMUS HENRICUS THEODORUS MARIA , 波許 尼爾 喬漢尼斯 馬利亞 , BOSCH, NIELS JOHANNES MARIA
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/70258 , G03F7/70275 , G03F7/70366 , G03F7/70391 , G03F7/704 , G03F7/70558 , G03F7/70816 , G03F7/709
Abstract: 一種曝光裝置，其包括：一投影系統，其經組態以將複數個輻射光束投影至一目標上；一可移動框架，其至少可圍繞一軸線而旋轉；及一致動器系統，其經組態以使該可移動框架位移至遠離對應於該可移動框架之幾何中心之一軸線的一軸線且致使該框架圍繞通過該框架之質心之一軸線而旋轉。
Abstract in simplified Chinese: 一种曝光设备，其包括：一投影系统，其经组态以将复数个辐射光束投影至一目标上；一可移动框架，其至少可围绕一轴线而旋转；及一致动器系统，其经组态以使该可移动框架位移至远离对应于该可移动框架之几何中心之一轴线的一轴线且致使该框架围绕通过该框架之质心之一轴线而旋转。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：TWI402633B
公开(公告)日：2013-07-21
申请号：TW098141009
申请日：2009-12-01
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
Inventor： 巴賽曼 喬納斯 喬可巴斯 麥修斯 , BASELMANS, JOHANNES JACOBUS MATHEUS , 嘉斯伯 喬漢斯 克里斯丁 馬利亞 , JASPER, JOHANNES CHRISTIAAN MARIA
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/705 , G03F7/70591 , G03F7/706 , G03F7/70891
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公开(公告)号：TWI402630B
公开(公告)日：2013-07-21
申请号：TW097143237
申请日：2008-11-07
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
Inventor： 漢佐克斯 吉斯柏特斯 史奇默 , SCHIMMEL, HENDRIKUS, GIJSBERTUS , 賈克 爾德理安 魯道夫 凡 因培 , VAN EMPEL, TJARKO ADRIAAN RUDOLF , 吉瑞德斯 哈柏特斯 彼佐斯 瑪利亞 史溫克斯 , SWINKELS, GERARDUS HUBERTUS PETRUS MARIA , 馬克 安東尼斯 瑪利雅 哈斯特 , HAAST, MARC ANTONIUS MARIA , 德曼翠 拉貝史吉 , LABETSKI, DZMITRY , 喬漢斯 瑪里 弗里克 , FRERIKS, JOHANNES MARIA , 尤里 喬哈奈 賈瑞爾 凡 迪 威弗 , VAN DE VIJVER, YURI JOHANNES GABRIEL , 溫迪林 喬漢娜 瑪莉亞 維斯提格 , VERSTEEG, WENDELIN JOHANNA MARIA , 彼得 葛拉德斯 瓊克斯 , JONKERS, PETER GERARDUS
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/70916 , G03F7/70841 , G03F7/70908
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公开(公告)号：TW201330702A
公开(公告)日：2013-07-16
申请号：TW101140902
申请日：2012-11-02
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
Inventor： 康能 馬丁納司 賈寇柏斯 , COENEN, MARTINUS JACOBUS
CPC classification number: G03F7/70341 , G03F7/70033 , G03F7/70058 , H05G2/005 , H05G2/008
Abstract: 在一放電產生電漿源中，使用一傳輸線使一對電極充電。在一實施例中，可使用對稱地連接至該等電極之一對傳輸線。在一實施例中，該等傳輸線之阻抗或該等傳輸線之總阻抗等於放電之阻抗。使用一傳輸線會在較一致之電位差的情況下提供較長放電脈衝。
Abstract in simplified Chinese: 在一放电产生等离子源中，使用一传输线使一对电极充电。在一实施例中，可使用对称地连接至该等电极之一对传输线。在一实施例中，该等传输线之阻抗或该等传输线之总阻抗等于放电之阻抗。使用一传输线会在较一致之电位差的情况下提供较长放电脉冲。
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公开(公告)号：TW201329648A
公开(公告)日：2013-07-16
申请号：TW101142517
申请日：2012-11-14
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
Inventor： 吉列森 諾德 詹 , GILISSEN, NOUD JAN , 古伯斯 馬汀斯 安尼斯 威廉 , CUIJPERS, MARTINUS AGNES WILLEM , 菲恩 曼諾 , FIEN, MENNO , 史哲班 安可 喬瑟夫 柯那勒斯 , SIJBEN, ANKO JOZEF CORNELUS , 史密茲 馬汀 法蘭斯 派瑞 , SMEETS, MARTIN FRANS PIERRE
IPC: G03F7/20
CPC classification number: H01L21/6875 , G03F7/09 , G03F7/707 , H01L21/68735 , H01L21/68742
Abstract: 一種用於一物件之支撐件，其具有：一支撐表面，其經組態以支撐該物件；其中該支撐表面包括一主要部件及一可移動部件，該支撐表面之該可移動部件可在一收縮位置與一延伸位置之間移動，在該收縮位置中，該支撐表面之該可移動部件經調適成與該支撐表面之該主要部件實質上處於同一平面，在該延伸位置中，該支撐表面之該可移動部件自該支撐表面之該主要部件之該平面突起。
Abstract in simplified Chinese: 一种用于一对象之支撑件，其具有：一支撑表面，其经组态以支撑该对象；其中该支撑表面包括一主要部件及一可移动部件，该支撑表面之该可移动部件可在一收缩位置与一延伸位置之间移动，在该收缩位置中，该支撑表面之该可移动部件经调适成与该支撑表面之该主要部件实质上处于同一平面，在该延伸位置中，该支撑表面之该可移动部件自该支撑表面之该主要部件之该平面突起。
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公开(公告)号：TWI400580B
公开(公告)日：2013-07-01
申请号：TW098126603
申请日：2009-08-06
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
Inventor： 門諾克 李奧迪 艾力柯維奇 , SJMAENOK, LEONID AIZIKOVITCH , 斑尼 維頂 維根維齊 , BANINE, VADIM YEVGENYEVICH , 莫斯 喬漢斯 哈博特 喬瑟菲那 , MOORS, JOHANNES HUBERTUS JOSEPHINA , 葛魯許柯夫 丹尼斯 亞歷山卓維奇 , GLUSHKOV, DENIS ALEXANDROVICH , 亞庫尼 安德瑞 米哈洛維奇 , YAKUNIN, ANDREY MIKHAILOVICH
CPC classification number: G03F7/70958 , G03F7/70191 , G03F7/702 , G03F7/70308 , G03F7/70575 , G03F7/70916
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