公开(公告)号：TWI402630B

公开(公告)日：2013-07-21

申请号：TW097143237

申请日：2008-11-07

Applicant: ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 漢佐克斯 吉斯柏特斯 史奇默 ,  SCHIMMEL, HENDRIKUS, GIJSBERTUS ,  賈克 爾德理安 魯道夫 凡 因培 ,  VAN EMPEL, TJARKO ADRIAAN RUDOLF ,  吉瑞德斯 哈柏特斯 彼佐斯 瑪利亞 史溫克斯 ,  SWINKELS, GERARDUS HUBERTUS PETRUS MARIA ,  馬克 安東尼斯 瑪利雅 哈斯特 ,  HAAST, MARC ANTONIUS MARIA ,  德曼翠 拉貝史吉 ,  LABETSKI, DZMITRY ,  喬漢斯 瑪里 弗里克 ,  FRERIKS, JOHANNES MARIA ,  尤里 喬哈奈 賈瑞爾 凡 迪 威弗 ,  VAN DE VIJVER, YURI JOHANNES GABRIEL ,  溫迪林 喬漢娜 瑪莉亞 維斯提格 ,  VERSTEEG, WENDELIN JOHANNA MARIA ,  彼得 葛拉德斯 瓊克斯 ,  JONKERS, PETER GERARDUS

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/70916 ,  G03F7/70841 ,  G03F7/70908

公开(公告)号：TW201316841A

公开(公告)日：2013-04-16

申请号：TW101131056

申请日：2012-08-27

Applicant: ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 史奇默 漢佐克斯 吉斯柏特斯 ,  SCHIMMEL, HENDRIKUS GIJSBERTUS ,  迪卡蔓 喬漢 夫德克 ,  DIJKSMAN, JOHAN FREDERIK ,  拉倍特司其 狄密特瑞 ,  LABETSKI, DZMITRY

IPC: H05G2/00 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70033 ,  H05G2/003 ,  H05G2/005 ,  H05G2/006

Abstract: 本發明提供用於增進一串流中之燃料小滴之聚結的方法及裝置，該串流係藉由供微影裝置中使用之一輻射源小滴串流產生器產生。本發明描述各種實例，其中將一調變電壓源施加至發射器，使得可控制該等小滴之電特性。此情形引起該串流中之小滴之加速及減速，其造成該等小滴合併且增進聚結。

Abstract in simplified Chinese: 本发明提供用于增进一串流中之燃料小滴之聚结的方法及设备，该串流系借由供微影设备中使用之一辐射源小滴串流产生器产生。本发明描述各种实例，其中将一调制电压源施加至发射器，使得可控制该等小滴之电特性。此情形引起该串流中之小滴之加速及减速，其造成该等小滴合并且增进聚结。

公开(公告)号：TWI506379B

公开(公告)日：2015-11-01

申请号：TW099132719

申请日：2010-09-27

Applicant: ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 路普司撮 愛瑞克 羅依洛夫 ,  LOOPSTRA, ERIK ROELOF ,  巴尼 瓦地姆 耶夫根葉夫契 ,  BANINE, VADIM YEVGENYEVICH ,  斯溫科斯 吉拉爾杜斯 優柏圖司 佩圖斯 瑪麗亞 ,  SWINKELS, GERARDUS HUBERTUS PETRUS MARIA ,  佩克得爾 史文 ,  PEKELDER, SVEN ,  拉倍特司其 狄密特瑞 ,  LABETSKI, DZMITRY ,  史坦姆 烏維 布魯諾 海尼 ,  STAMM, UWE BRUNO HEINI ,  帕特羅 威廉N ,  PARTLO, WILLIAM N.

IPC: G03F7/20 ,  H05G2/00 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/70933 ,  G03F7/70033 ,  G03F7/70175 ,  G03F7/70808 ,  G03F7/70908 ,  G03F7/70916 ,  G03F7/70925 ,  H05G2/003 ,  H05G2/005

公开(公告)号：TWI586223B

公开(公告)日：2017-06-01

申请号：TW101131056

申请日：2012-08-27

Applicant: ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 史奇默 漢佐克斯 吉斯柏特斯 ,  SCHIMMEL, HENDRIKUS GIJSBERTUS ,  迪卡蔓 喬漢 夫德克 ,  DIJKSMAN, JOHAN FREDERIK ,  拉倍特司其 狄密特瑞 ,  LABETSKI, DZMITRY

IPC: H05G2/00 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70033 ,  H05G2/003 ,  H05G2/005 ,  H05G2/006

公开(公告)号：TWI394012B

公开(公告)日：2013-04-21

申请号：TW097135652

申请日：2008-09-17

Applicant: ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 尤里 喬哈奈 賈瑞爾 凡 迪 威弗 ,  VAN DE VIJVER, YURI JOHANNES GABRIEL ,  賈克 爾德理安 魯道夫 凡 因培 ,  VAN EMPEL, TJARKO ADRIAAN RUDOLF ,  珍 伯納德 波萊奇莫斯 凡 沙特 ,  VAN SCHOOT, JAN BERNARD PLECHELMUS ,  吉瑞德斯 哈柏特斯 彼佐斯 瑪利亞 史溫克斯 ,  SWINKELS, GERARDUS, HUBERTUS, PETRUS, MARIA ,  漢佐克斯 吉斯柏特斯 史奇妙 ,  SCHIMMEL, HENDRIKUS, GIJSBERTUS ,  德曼翠 拉貝史吉 ,  LABETSKI, DZMITRY

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70033 ,  B82Y10/00 ,  G03F7/70841 ,  G03F7/70908 ,  G03F7/70916 ,  G03F7/70933 ,  H05G2/003 ,  H05G2/008

公开(公告)号：TWI534553B

公开(公告)日：2016-05-21

申请号：TW100113588

申请日：2011-04-19

Applicant: ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 拉倍特司其 狄密特瑞 ,  LABETSKI, DZMITRY ,  洛卜史塔 艾瑞克 羅勒夫 ,  LOOPSTRA, ERIK ROELOF ,  坎班 丹東尼斯 帝朵勒 懷慕斯 ,  KEMPEN, ANTONIUS THEODORUS WILHELMUS

IPC: G03F7/20 ,  H05G2/00

CPC classification number: G02B5/08 ,  G03F7/20 ,  G03F7/70033 ,  G03F7/70175 ,  G03F7/70808 ,  G03F7/70841 ,  G03F7/70908 ,  G03F7/70916 ,  G03F7/70933 ,  G21K5/04

公开(公告)号：TW201403254A

公开(公告)日：2014-01-16

申请号：TW102122035

申请日：2013-06-20

Applicant: ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 瑞潘 米歇爾 ,  RIEPEN, MICHEL ,  強森 漢斯 ,  JANSEN, HANS ,  添 凱特 尼可拉斯 ,  TEN KATE, NICOLAAS ,  保羅桑 丹尼斯 喬瑟夫 馬力亞 ,  PAULUSSEN, DENNIS JOZEF MARIA ,  史奇默 漢佐克斯 吉斯柏特斯 ,  SCHIMMEL, HENDRIKUS GIJSBERTUS ,  拉倍特司其 狄密特瑞 ,  LABETSKI, DZMITRY ,  卡泰恩司 亨利克斯 裘塞夫 ,  CASTELIJNS, HENRICUS JOZEF ,  梅斯特羅姆 威爾柏 杰恩 ,  MESTROM, WILBERT JAN ,  巴帝 瑞敏 ,  BADIE, RAMIN ,  肯賓格 威 羅納得 ,  KAMPINGA, WIM RONALD ,  紐溫肯波 珍 歐齊 ,  NIEUWENKAMP, JAN OKKE ,  布玲克 傑可 ,  BRINKERT, JACOB ,  維戈 布萊恩 維濃 ,  VIRGO, BRIAN VERNON ,  傑力森 瑞納 席爾多樂司 馬丁納司 ,  JILISEN, REINIER THEODORUS MARTINUS ,  瑞傑瑪 亞伯特 彼特 ,  RIJPMA, ALBERT PIETER ,  法蘭肯 瓊恩斯 克利斯坦 李奧納德斯 ,  FRANKEN, JOHANNES CHRISTIAAN LEONARDUS ,  凡 普汀 彼得 威漢姆 亨利克 ,  VAN PUTTEN, PETER WILHELM HENDRIK ,  凡 得 史卓登 吉瑞特 ,  VAN DER STRAATEN, GERRIT

IPC: G03F7/20 ,  H05G2/00

CPC classification number: G03F7/70983 ,  F15D1/0065 ,  G03F7/70033 ,  G03F7/70916 ,  G21K1/06 ,  G21K5/08 ,  H05G2/005 ,  H05G2/008 ,  Y10T137/206

Abstract: 一種輻射源，其包含經組態以將燃料遞送至供該燃料發射EUV輻射之一部位之一燃料源。該輻射源進一步包含具備複數個凹槽之一固定燃料碎屑接收表面。該等凹槽具有經配置以在重力之影響下在一或多個所要方向上引導液體燃料流之定向。

Abstract in simplified Chinese: 一种辐射源，其包含经组态以将燃料递送至供该燃料发射EUV辐射之一部位之一燃料源。该辐射源进一步包含具备复数个凹槽之一固定燃料碎屑接收表面。该等凹槽具有经配置以在重力之影响下在一或多个所要方向上引导液体燃料流之定向。