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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：TW201334632A
公开(公告)日：2013-08-16
申请号：TW102101865
申请日：2013-01-17
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
Inventor： 迪卡蔓 喬漢 夫德克 , DIJKSMAN, JOHAN FREDERIK , 哈爾特曼斯 羅蘭德 強納斯 , HULTERMANS, RONALD JOHANNES , 坎班 丹東尼斯 帝朵勒 懷慕斯 , KEMPEN, ANTONIUS THEODORUS WILHELMUS , 巴帝 瑞敏 , BADIE, RAMIN
CPC classification number: H05G2/006 , G03F7/70033 , G03F7/70908 , G03F7/70916 , H05G2/005
Abstract: 本發明提供用於促進一燃料液滴串流產生器之起動之方法及裝置。在一起動階段期間，將該燃料液滴串流產生器定位成使得該等燃料液滴被向下發射，藉以，重力輔助建立該串流。使用一觀測系統來監視該等液滴，且一旦該串流經判定為具有所要特性，則該串流產生器移動至穩態使用之一第二位置，在該第二位置中在一水平方向上發射該液滴串流。
Abstract in simplified Chinese: 本发明提供用于促进一燃料液滴串流产生器之起动之方法及设备。在一起动阶段期间，将该燃料液滴串流产生器定位成使得该等燃料液滴被向下发射，借以，重力辅助创建该串流。使用一观测系统来监视该等液滴，且一旦该串流经判定为具有所要特性，则该串流产生器移动至稳态使用之一第二位置，在该第二位置中在一水平方向上发射该液滴串流。
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公开(公告)号：TWI602031B
公开(公告)日：2017-10-11
申请号：TW102137204
申请日：2013-10-15
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
Inventor： 凡 葛瑞柏克 亨得瑞克 羅伯特 馬連 , VAN GREEVENBROEK, HENDRIKUS ROBERTUS MARIE , 巴帝 瑞敏 , BADIE, RAMIN , 白尼 凡丁 葉弗真葉米希 , BANINE, VADIM YEVGENYEVICH , 迪卡蔓 喬漢 夫德克 , DIJKSMAN, JOHAN FREDERIK , 坎班 丹東尼斯 帝朵勒 懷慕斯 , KEMPEN, ANTONIUS THEODORUS WILHELMUS , 亞庫寧 安卓 米克哈洛維奇 , YAKUNIN, ANDREI MIKHAILOVICH , 溫克斯 可恩 葛哈得思 , WINKELS, KOEN GERHARDUS
CPC classification number: G03F7/70033 , H05G2/003 , H05G2/006 , H05G2/008
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公开(公告)号：TW201416808A
公开(公告)日：2014-05-01
申请号：TW102137204
申请日：2013-10-15
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
Inventor： 凡 葛瑞柏克 亨得瑞克 羅伯特 馬連 , VAN GREEVENBROEK, HENDRIKUS ROBERTUS MARIE , 巴帝 瑞敏 , BADIE, RAMIN , 白尼 凡丁 葉弗真葉米希 , BANINE, VADIM YEVGENYEVICH , 迪卡蔓 喬漢 夫德克 , DIJKSMAN, JOHAN FREDERIK , 坎班 丹東尼斯 帝朵勒 懷慕斯 , KEMPEN, ANTONIUS THEODORUS WILHELMUS , 亞庫寧 安卓 米克哈洛維奇 , YAKUNIN, ANDREI MIKHAILOVICH , 溫克斯 可恩 葛哈得思 , WINKELS, KOEN GERHARDUS
CPC classification number: G03F7/70033 , H05G2/003 , H05G2/006 , H05G2/008
Abstract: 一種用於產生極紫外線(EUV)輻射之輻射源(例如，LPP--雷射產生電漿源)，其具有至少兩個燃料粒子串流，該至少兩個燃料粒子串流具有不同軌跡。每一串流經引導以穿越聚焦於一電漿形成區處之一激發(雷射)光束之路徑，但該等軌跡在該電漿形成區處隔開，且該等串流經相控成使得在任何時間在該電漿形成區中僅一個串流具有一燃料粒子，且使得當來自一個串流之一燃料粒子正在該電漿產生區處產生電漿及EUV輻射時，其他燃料粒子足夠地隔開以便實質上不受到該電漿影響。配置准許可針對一特定燃料粒子大小而達成之輻射強度潛在地加倍。
Abstract in simplified Chinese: 一种用于产生极紫外线(EUV)辐射之辐射源(例如，LPP--激光产生等离子源)，其具有至少两个燃料粒子串流，该至少两个燃料粒子串流具有不同轨迹。每一串流经引导以穿越聚焦于一等离子形成区处之一激发(激光)光束之路径，但该等轨迹在该等离子形成区处隔开，且该等串流经相控成使得在任何时间在该等离子形成区中仅一个串流具有一燃料粒子，且使得当来自一个串流之一燃料粒子正在该等离子产生区处产生等离子及EUV辐射时，其他燃料粒子足够地隔开以便实质上不受到该等离子影响。配置准许可针对一特定燃料粒子大小而达成之辐射强度潜在地加倍。
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公开(公告)号：TWI584697B
公开(公告)日：2017-05-21
申请号：TW102101865
申请日：2013-01-17
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
Inventor： 迪卡蔓 喬漢 夫德克 , DIJKSMAN, JOHAN FREDERIK , 哈爾特曼斯 羅蘭德 強納斯 , HULTERMANS, RONALD JOHANNES , 坎班 丹東尼斯 帝朵勒 懷慕斯 , KEMPEN, ANTONIUS THEODORUS WILHELMUS , 巴帝 瑞敏 , BADIE, RAMIN
CPC classification number: H05G2/006 , G03F7/70033 , G03F7/70908 , G03F7/70916 , H05G2/005
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公开(公告)号：TW201403254A
公开(公告)日：2014-01-16
申请号：TW102122035
申请日：2013-06-20
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
Inventor： 瑞潘 米歇爾 , RIEPEN, MICHEL , 強森 漢斯 , JANSEN, HANS , 添 凱特 尼可拉斯 , TEN KATE, NICOLAAS , 保羅桑 丹尼斯 喬瑟夫 馬力亞 , PAULUSSEN, DENNIS JOZEF MARIA , 史奇默 漢佐克斯 吉斯柏特斯 , SCHIMMEL, HENDRIKUS GIJSBERTUS , 拉倍特司其 狄密特瑞 , LABETSKI, DZMITRY , 卡泰恩司 亨利克斯 裘塞夫 , CASTELIJNS, HENRICUS JOZEF , 梅斯特羅姆 威爾柏 杰恩 , MESTROM, WILBERT JAN , 巴帝 瑞敏 , BADIE, RAMIN , 肯賓格 威 羅納得 , KAMPINGA, WIM RONALD , 紐溫肯波 珍 歐齊 , NIEUWENKAMP, JAN OKKE , 布玲克 傑可 , BRINKERT, JACOB , 維戈 布萊恩 維濃 , VIRGO, BRIAN VERNON , 傑力森 瑞納 席爾多樂司 馬丁納司 , JILISEN, REINIER THEODORUS MARTINUS , 瑞傑瑪 亞伯特 彼特 , RIJPMA, ALBERT PIETER , 法蘭肯 瓊恩斯 克利斯坦 李奧納德斯 , FRANKEN, JOHANNES CHRISTIAAN LEONARDUS , 凡 普汀 彼得 威漢姆 亨利克 , VAN PUTTEN, PETER WILHELM HENDRIK , 凡 得 史卓登 吉瑞特 , VAN DER STRAATEN, GERRIT
CPC classification number: G03F7/70983 , F15D1/0065 , G03F7/70033 , G03F7/70916 , G21K1/06 , G21K5/08 , H05G2/005 , H05G2/008 , Y10T137/206
Abstract: 一種輻射源，其包含經組態以將燃料遞送至供該燃料發射EUV輻射之一部位之一燃料源。該輻射源進一步包含具備複數個凹槽之一固定燃料碎屑接收表面。該等凹槽具有經配置以在重力之影響下在一或多個所要方向上引導液體燃料流之定向。
Abstract in simplified Chinese: 一种辐射源，其包含经组态以将燃料递送至供该燃料发射EUV辐射之一部位之一燃料源。该辐射源进一步包含具备复数个凹槽之一固定燃料碎屑接收表面。该等凹槽具有经配置以在重力之影响下在一或多个所要方向上引导液体燃料流之定向。
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