Abstract:
본 발명은 공진공동 내측의 전기장의 대칭성이 유지되는 전자빔 발생장치에 대한 것이다. 이를 위하여 내측에 공진공동이 마련된 원통형의 하우징과, 하우징에 전자기파를 입사시키기 위하여 하우징의 외주부에 결합되며 커플링홀을 통하여 공진공동과 연통되는 웨이브가이드와, 하우징의 외주부상에서 웨이브가이드의 반대편에 결합되고 제1펌핑홀을 통하여 공진공동과 연통되는 제1펌핑포트를 포함하며, 레이저빔이 내측으로 입사되는 입사홀과 레이저빔에 의하여 발생되는 전자빔이 외측으로 배출되는 배출홀이 하우징의 중심축방향의 일면에만 마련된 것을 특징으로 한다.
Abstract:
The invention relates to an electron beam generator for generating an electron beam, comprising an electron source and an extractor. The combination of electron source and extractor in use forms a negative lens, wherein said extractor has a positive voltage with respect to the source. The extractor and the electron source are positioned such that, in use, a space charge limited region is present between them. In an embodiment, the extractor is a planar extractor. In another embodiment, the source is a thermionic source.. The generator may comprise an illumination system for collimating the electron beam.
Abstract:
본 발명은 임의의 간격을 두고 대향 배치되는 제1 및 제2 기판과; 제1 기판 상에서 절연층을 사이에 두고 위치하는 캐소드 전극들 및 게이트 전극들과; 제1 기판 상에 설정된 화소 영역에 대응하여 캐소드 전극의 일측 가장자리에 위치하는 전자 방출원들과; 제1 기판과 제2 기판 사이에 배치되고, 각각의 전자 방출원에 대응하여 전자빔 통과를 위한 개구부들을 형성하는 그리드 기판을 포함하는 전계 방출 표시장치에 있어서, 그리드 기판의 개구부와 전자 방출원의 위치 관계를 최적으로 설정하여 화면 휘도와 색재현성을 높이는 구성을 제공한다.
Abstract:
PURPOSE: A cathode-ray tube having an electron gun in a coated tube neck is provided, which does not require electrodes having separate passage holes for electron beams and has an electron gun generating three electron beams that converge on a single spot on a screen by themselves. CONSTITUTION: A cathode-ray tube(10) includes a main lens composed of a tube-type focus electrode, and a conductive coating portion formed on the inner side of a tube neck. The conductive coating portion is extended from the focus electrode toward the screen of the cathode-ray tube. The outlet of the focus electrode is not flat but curved, and the focus electrode has a passage-hole plate at the center area between the inlet and outlet of the focus electrode. The passage-hole plate has an oval central beam passage hole for conversing and focusing external and central electron beams and a semi-oval external beam passage hole. The focus electrode is placed at the center of the tube neck(14) and partially surrounded by the conductive coating portion.
Abstract:
본발명은펄스전자빔을방출하는 RF 전자총과선형가속기시스템및 이를이용한펄스전자빔생성방법으로서, 전자총에의한펄스전자빔생성방법에있어서, 소정시간에공진기의음극에서방출된전자가상기공진기의양극에도달하는데, 상기공진기의내부에인가되는 AC 전기장의주기의정수배의시간만큼걸리도록하는크기를갖는 DC 전기장을상기공진기의음극과양극사이에인가하는단계; 및상기소정시간에방출된전자보다늦게방출된전자의속도가상기소정시간에방출된전자의속도보다빠르도록하고, 상기소정시간에방출된전자보다일찍방출된전자의속도가상기소정시간에방출된전자의속도보다늦도록하는크기를갖는상기 AC 전기장을상기공진기내부로인가하는단계를포함하는것을특징으로하는펄스전자빔생성방법과이를구현시킬수 있는 RF 전자총및 상기 RF 전자총을이용하는선형가속기시스템이며, 이와같은본 발명에의하면음극과양극사이의거리, DC 전기장의세기, AC 전기장의세기와주파수를적절히조절하여높은주파수에서도펄스전자빔이만들어지면서또한음극과양극사이갭을통과하여자유공간을진행하는전자빔이스스로뭉치도록하는 RF 전자총을제공할수 있으며, 상기 RF 전자총을이용하여보다간단한구조의선형가속기시스템을구현할수 있다.
Abstract:
본 발명은: 복수의 전자 빔릿들(5a, 5b)을 발생하는 빔릿 발생기; 전자 빔릿의 세기를 변조하는 복수의 변조기들을 포함하고, 상기 복수의 전자 빔릿들을 제공받는 변조 어레이; 변조 어레이에 연결되고, 변조기를 개별적으로 제어하는 제어기; 각각의 변조기에 조작적으로 연결되고, 각각의 변조기에 대한 제어 신호를 개별적으로 조절하는 조절기; 정전기적 렌즈들의 어레이(7)를 포함하고, 각각의 렌즈는 상기 변조 어레이를 지나서 투과된 해당 개별적 빔릿의 초점을 300 nm보다 작은 단면에 맞추는 집속 전자 광 시스템; 및 집속 전자 광 시스템의 제1 초점면에서 패턴이 전사되는 노출 표면을 구비한 표적을 홀드하는 표적 홀더를 포함하는, 표적의 표면상에 패턴을 전사하는 전자 빔 노출 장치에 관한 것이다.
Abstract:
본 발명은: 복수의 전자 빔릿들(5a, 5b)을 발생하는 빔릿 발생기; 전자 빔릿의 세기를 변조하는 복수의 변조기들을 포함하고, 상기 복수의 전자 빔릿들을 제공받는 변조 어레이; 변조 어레이에 연결되고, 변조기를 개별적으로 제어하는 제어기; 각각의 변조기에 조작적으로 연결되고, 각각의 변조기에 대한 제어 신호를 개별적으로 조절하는 조절기; 정전기적 렌즈들의 어레이(7)를 포함하고, 각각의 렌즈는 상기 변조 어레이를 지나서 투과된 해당 개별적 빔릿의 초점을 300 nm보다 작은 단면에 맞추는 집속 전자 광 시스템; 및 집속 전자 광 시스템의 제1 초점면에서 패턴이 전사되는 노출 표면을 구비한 표적을 홀드하는 표적 홀더를 포함하는, 표적의 표면상에 패턴을 전사하는 전자 빔 노출 장치에 관한 것이다.
Abstract:
본 발명은: 복수의 전자 빔릿들(5a, 5b)을 발생하는 빔릿 발생기; 전자 빔릿의 세기를 변조하는 복수의 변조기들을 포함하고, 상기 복수의 전자 빔릿들을 제공받는 변조 어레이; 변조 어레이에 연결되고, 변조기를 개별적으로 제어하는 제어기; 각각의 변조기에 조작적으로 연결되고, 각각의 변조기에 대한 제어 신호를 개별적으로 조절하는 조절기; 정전기적 렌즈들의 어레이(7)를 포함하고, 각각의 렌즈는 상기 변조 어레이를 지나서 투과된 해당 개별적 빔릿의 초점을 300 nm보다 작은 단면에 맞추는 집속 전자 광 시스템; 및 집속 전자 광 시스템의 제1 초점면에서 패턴이 전사되는 노출 표면을 구비한 표적을 홀드하는 표적 홀더를 포함하는, 표적의 표면상에 패턴을 전사하는 전자 빔 노출 장치에 관한 것이다.