公开(公告)号：TWI383267B

公开(公告)日：2013-01-21

申请号：TW097104091

申请日：2008-02-01

Applicant: ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 馬克 康士坦 喬翰尼斯 貝根 ,  BAGGEN, MARK CONSTANT JOHANNES ,  比特斯 馬里斯 克里斯汀 馬里亞 凡 登 比吉勒 ,  VAN DEN BIGGELAAR, PETRUS MARINUS CHRISTIANUS MARIA ,  鄒殷廷 ,  TSO, YIN TIM ,  馬瑟爾 法蘭可伊斯 希爾傑 ,  HEERTJES, MARCEL FRANCOIS ,  雷米丁 拉薩爾 卡米迪 ,  KAMIDI, RAMIDIN IZAIR ,  丹尼斯 安卓亞斯 比特斯 修伯提那 豪班 ,  HOUBEN, DENNIS ANDREAS PETRUS HUBERTINA ,  貝根 康斯坦特 保羅 馬利 喬瑟夫 ,  BAGGEN, CONSTANT PAUL MARIE JOZEF ,  馬力那斯 傑寇伯斯 傑拉德斯 凡 登 莫倫葛拉夫 ,  VAN DE MOLENGRAFT, MARINUS JACOBUS GERARDUS

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC classification number: G05B5/01 ,  G03F7/70725 ,  G05B13/0265

公开(公告)号：TW201304614A

公开(公告)日：2013-01-16

申请号：TW101116256

申请日：2012-05-07

Applicant: ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 康能 馬丁納司 賈寇柏斯 ,  COENEN, MARTINUS JACOBUS

IPC: H05G2/00 ,  G03F7/20

CPC classification number: H05G2/008 ,  G03F7/70033 ,  G03F7/70991 ,  H04L25/0278 ,  H05G2/003

Abstract: 一種用於向一微影照明源提供HV電力之電源供應器，其包含：一HV電源，其經配置以提供該HV電力；一HV電力傳輸線，其經配置以傳輸來自該電源之該HV能量；及一或多個RF終端，其設置於該傳輸線之一輸入末端或該傳輸線之一輸出末端中之一或多者上。該一或多個RF終端使該傳輸線終止以縮減該傳輸線之該末端處的RF能量之反射。

Abstract in simplified Chinese: 一种用于向一微影照明源提供HV电力之电源供应器，其包含：一HV电源，其经配置以提供该HV电力；一HV电力传输线，其经配置以传输来自该电源之该HV能量；及一或多个RF终端，其设置于该传输线之一输入末端或该传输线之一输出末端中之一或多者上。该一或多个RF终端使该传输线终止以缩减该传输线之该末端处的RF能量之反射。

公开(公告)号：TW201303528A

公开(公告)日：2013-01-16

申请号：TW101116396

申请日：2012-05-08

Applicant: ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 巴特勒 漢斯 ,  BUTLER, HANS ,  費爾莫默朗 約翰內斯 佩特魯斯 馬丁努斯 伯納德斯 ,  VERMEULEN, JOHANNES PETRUS MARTINUS BERNARDUS

IPC: G03F9/02 ,  G05B19/18

CPC classification number: G03F7/70725 ,  G03F7/70716 ,  G05B19/418 ,  H02P25/06 ,  Y02P90/04

Abstract: 一種用於控制一多載物台系統之方法，該多載物台系統包括：一定子，其平行於一第一方向而延伸；一第一載物台及一第二載物台，其相對於該定子可移動；該等載物台具備一磁體系統以產生一磁場，且該定子具備線圈以與該等磁場相互作用以相對於該定子來定位該等載物台，該方法包含：判定該等載物台之位置；選擇能夠具有分別與該第一載物台及該第二載物台之該磁場之一不可忽略相互作用的線圈之一第一子集及一第二子集；啟動兩個子集之該等線圈，其中啟動該等線圈包括判定為兩個子集之部件之該等線圈；及排除為兩個子集之部件之一線圈以免於啟動。

Abstract in simplified Chinese: 一种用于控制一多载物台系统之方法，该多载物台系统包括：一定子，其平行于一第一方向而延伸；一第一载物台及一第二载物台，其相对于该定子可移动；该等载物台具备一磁体系统以产生一磁场，且该定子具备线圈以与该等磁场相互作用以相对于该定子来定位该等载物台，该方法包含：判定该等载物台之位置；选择能够具有分别与该第一载物台及该第二载物台之该磁场之一不可忽略相互作用的线圈之一第一子集及一第二子集；启动两个子集之该等线圈，其中启动该等线圈包括判定为两个子集之部件之该等线圈；及排除为两个子集之部件之一线圈以免于启动。

公开(公告)号：TW201300964A

公开(公告)日：2013-01-01

申请号：TW101108510

申请日：2012-03-13

Applicant: ASML控股公司 ,  ASML HOLDING N.V. ,  ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 沃格 赫曼 ,  VOGEL, HERMAN ,  勾森 傑若恩 杰若德 ,  GOSEN, JEROEN GERARD ,  帕休斯 巴特 迪南 ,  PAARHUIS, BART DINAND ,  凡 波克特 法蘭克 喬漢斯 賈柏斯 ,  VAN BOXTEL, FRANK JOHANNES JACOBUS ,  李景高 ,  LI, JINGGAO

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/70908 ,  G03F7/70866

Abstract: 在一實施例中，一種裝置具有：一圖案化元件支撐件，其包括具有一第一流動限定表面之一第一平面器件；一第二平面器件，其包括面對該第一流動限定表面之一第二流動限定表面；一支撐件驅動器，其用以沿著某一方向相對於該第二平面器件線性地移動該支撐件，其中該第一流動限定表面及/或該第二流動限定表面具有在該第一流動限定表面與該第二流動限定表面之間的一或多個突出物及/或凹部，且其中該第一流動限定表面及/或該第二流動限定表面上之該突出物及/或凹部經配置以在垂直於流動之該第一流動限定表面及/或該第二流動限定表面之每單位寬度提供一流動阻力，相比於抵制垂直於該某一方向之流動之該流動阻力，抵制平行於該某一方向之流動之該流動阻力較低。該等流動限定表面可將氣流引導至產生熱之一驅動器部件上。

Abstract in simplified Chinese: 在一实施例中，一种设备具有：一图案化组件支撑件，其包括具有一第一流动限定表面之一第一平面器件；一第二平面器件，其包括面对该第一流动限定表面之一第二流动限定表面；一支撑件驱动器，其用以沿着某一方向相对于该第二平面器件线性地移动该支撑件，其中该第一流动限定表面及/或该第二流动限定表面具有在该第一流动限定表面与该第二流动限定表面之间的一或多个突出物及/或凹部，且其中该第一流动限定表面及/或该第二流动限定表面上之该突出物及/或凹部经配置以在垂直于流动之该第一流动限定表面及/或该第二流动限定表面之每单位宽度提供一流动阻力，相比于抵制垂直于该某一方向之流动之该流动阻力，抵制平行于该某一方向之流动之该流动阻力较低。该等流动限定表面可将气流引导至产生热之一驱动器部件上。

公开(公告)号：TW200938965A

公开(公告)日：2009-09-16

申请号：TW098103918

申请日：2009-02-06

Applicant: ASML荷蘭公司 ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 貝利 大衛 瓦倫 BURRY, DAVID WARREN ,  布林克夫 拉夫 BRINKHOF, RALPH ,  史達爾 法蘭克 STAALS, FRANK ,  法蘭肯 羅伯 FRANKEN, ROBERT ,  克普 艾瑞克 約翰 KOOP, ERIK JOHAN

IPC: G03F ,  G06F

CPC classification number: G03B27/32 ,  G03B27/68 ,  G03F7/70516

Abstract: 本發明係關於一種用於在一微影曝光過程中判定一基板上之一目標場之曝光設定的方法,其包含藉由在相對於一校準場之位置之一第二方向及第三方向上的複數個校準位置處判定該校準場在一第一方向上之該位置來提供校準資料。該方法亦包含藉由在該第二方向及該第三方向上建立該目標場之該基板上之該位置且藉由在相對於該曝光場在該第二方向及該第三方向上之該位置的至少一量測位置處量測該曝光場在該第一方向上之該位置來提供生產資料。該方法進一步包含執行該至少一第一相對量測位置與該複數個相對校準位置之間的一比較,及基於該曝光場在該第一方向上之該經量測位置及該校準資料而使用該比較來判定曝光設定,其中該校準資料與不同於該至少一相對量測位置之至少一相對校準位置相關。

Abstract in simplified Chinese: 本发明系关于一种用于在一微影曝光过程中判定一基板上之一目标场之曝光设置的方法,其包含借由在相对于一校准场之位置之一第二方向及第三方向上的复数个校准位置处判定该校准场在一第一方向上之该位置来提供校准数据。该方法亦包含借由在该第二方向及该第三方向上创建该目标场之该基板上之该位置且借由在相对于该曝光场在该第二方向及该第三方向上之该位置的至少一量测位置处量测该曝光场在该第一方向上之该位置来提供生产数据。该方法进一步包含运行该至少一第一相对量测位置与该复数个相对校准位置之间的一比较,及基于该曝光场在该第一方向上之该经量测位置及该校准数据而使用该比较来判定曝光设置,其中该校准数据与不同于该至少一相对量测位置之至少一相对校准位置相关。

公开(公告)号：TW200931195A

公开(公告)日：2009-07-16

申请号：TW097140326

申请日：2008-10-21

Applicant: ASML荷蘭公司 ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 漢斯 布特勒 BUTLER, HANS ,  艾瑞克 羅勒夫 洛卜史塔 LOOPSTRA, ERIK ROELOF ,  馬克 威海瑪 馬里亞 范 德 威斯特 VAN DER WIJST, MARC WILHELMUS MARIA ,  喬斯特 迪 皮 DE PEE, JOOST ,  柯納路斯 亞德安那司 蘭波特思 迪 亨 DE HOON, CORNELIUS ADRIANUS LAMBERTUS ,  史汀 波斯柯 BOSCHKER, STIJN

IPC: G03F ,  F16F

CPC classification number: G03F7/709 ,  G03F7/70883

Abstract: 本發明揭示一種微影裝置,該微影裝置包括:一投影系統,該投影系統用以將一經圖案化輻射光束投影至一基板上;及一阻尼系統,該阻尼系統用以阻尼該投影系統之至少一部分之一振動,該阻尼系統包括一界面阻尼質量及一用以阻尼該界面阻尼質量之至少一部分之一振動的主動阻尼次系統,該界面阻尼質量連接至該投影系統,且該主動阻尼次系統連接至該界面阻尼質量,該主動阻尼次系統包括一用以量測該界面阻尼質量之一位置量的感測器及一用以基於一由該感測器所提供之信號而將一力施加於該界面阻尼質量上的致動器。該阻尼系統進一步包括一界面阻尼器件,該界面阻尼器件連接至該界面阻尼質量且經組態以阻尼該界面阻尼質量在該界面阻尼質量之一固有頻率下之一移動。

Abstract in simplified Chinese: 本发明揭示一种微影设备,该微影设备包括:一投影系统,该投影系统用以将一经图案化辐射光束投影至一基板上;及一阻尼系统,该阻尼系统用以阻尼该投影系统之至少一部分之一振动,该阻尼系统包括一界面阻尼质量及一用以阻尼该界面阻尼质量之至少一部分之一振动的主动阻尼次系统,该界面阻尼质量连接至该投影系统,且该主动阻尼次系统连接至该界面阻尼质量,该主动阻尼次系统包括一用以量测该界面阻尼质量之一位置量的传感器及一用以基于一由该传感器所提供之信号而将一力施加于该界面阻尼质量上的致动器。该阻尼系统进一步包括一界面阻尼器件,该界面阻尼器件连接至该界面阻尼质量且经组态以阻尼该界面阻尼质量在该界面阻尼质量之一固有频率下之一移动。

公开(公告)号：TWI311695B

公开(公告)日：2009-07-01

申请号：TW095108885

申请日：2006-03-16

Applicant: ASML荷蘭公司 ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 維定 亞根亞齊 般尼 BANINE, VADIM YEVGENYEVICH ,  强尼斯 賀伯特斯 莎菲納 摩斯 MOORS, JOHANNES HUBERTUS JOSEPHINA ,  李奧迪 艾力柯維奇 門諾克 SJMAENOK, LEONID, AIZIKOVITCH ,  妮可蕾 妮可萊維奇 莎拉琪可 SALASHCHENKO, NIKOLAY, NIKOLAEVITCH

IPC: G03F ,  G03C ,  G02B

CPC classification number: G03F7/70916 ,  G03F7/70191 ,  G03F7/70308 ,  G03F7/70575 ,  G03F7/70941

Abstract: 本發明揭示一種多層頻譜純度濾波,其提高一遠紫外線(EUV)輻射光束之頻譜純度,而且還收集從一輻射源發射之碎片。

Abstract in simplified Chinese: 本发明揭示一种多层频谱纯度滤波,其提高一远紫外线(EUV)辐射光束之频谱纯度,而且还收集从一辐射源发射之碎片。

公开(公告)号：TW200929429A

公开(公告)日：2009-07-01

申请号：TW097136226

申请日：2008-09-19

Applicant: ASML荷蘭公司 ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 安可 喬瑟夫 柯那勒斯 史哲班 SIJBEN, ANKO JOZEF CORNELUS ,  賈克 安卓爾 魯道夫 凡 安培 VAN EMPEL, TJARKO ADRIAAN RUDOLF ,  雷默德 微瑟 VISSER, RAIMOND ,  喬漢納 亨利卡斯 潔特斯 法雷森 FRANSSEN, JOHANNES HENDRIKUS GERTRUDIS ,  宗昆 楊 YANG, ZONGQUAN ,  亞伯特 裴爾斯 BRALS, ALBERT ,  亞伯特 彼特 瑞傑瑪 RIJPMA, ALBERT PIETER

IPC: H01L ,  G03F

CPC classification number: H01L21/6831 ,  G03F7/70708 ,  H01L21/6875

Abstract: 本發明係關於一種用於在一微影裝置中使用之靜電鉗,其包含一具備瘤節之材料層,其中由一絕緣體及/或一介電材料所圍繞之一電極提供於該等瘤節之間,且本發明係關於一種製造該靜電鉗之方法。該靜電鉗可用以將一物件夾持至一微影裝置中之一物件支撐件。

Abstract in simplified Chinese: 本发明系关于一种用于在一微影设备中使用之静电钳,其包含一具备瘤节之材料层,其中由一绝缘体及/或一介电材料所围绕之一电极提供于该等瘤节之间,且本发明系关于一种制造该静电钳之方法。该静电钳可用以将一对象夹持至一微影设备中之一对象支撑件。

公开(公告)号：TW200928610A

公开(公告)日：2009-07-01

申请号：TW097141665

申请日：2008-10-29

Applicant: ASML荷蘭公司 ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 漢斯 巴特 BUTLER, HANS ,  英格伯特斯 安東尼斯 法蘭西斯寇斯 凡 德 派希 VAN DER PASCH, ENGELBERTUS ANTONIUS FRANSISCUS

IPC: G03F ,  H01L

CPC classification number: G01D5/38 ,  G03F9/7015 ,  G03F9/7049 ,  G03F9/7084 ,  G03F9/7088

Abstract: 本發明揭示一種測量系統,該測量系統包括一感測器,該感測器經配置以與一配置於該測量系統之一結構上之第一圖案協作,以判定該感測器相對於該結構之一第一定位量,且經配置以與一配置於該結構上之第二圖案協作,以判定該感測器相對於該結構之一第二定位置,其中該第一圖案及該第二圖案配置於該結構之不同表面上。

Abstract in simplified Chinese: 本发明揭示一种测量系统,该测量系统包括一传感器,该传感器经配置以与一配置于该测量系统之一结构上之第一图案协作,以判定该传感器相对于该结构之一第一定位量,且经配置以与一配置于该结构上之第二图案协作,以判定该传感器相对于该结构之一第二定位置,其中该第一图案及该第二图案配置于该结构之不同表面上。

公开(公告)号：TW200925813A

公开(公告)日：2009-06-16

申请号：TW097137984

申请日：2008-10-02

Applicant: ASML荷蘭公司 ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 漢斯 包特 BUTLER, HANS ,  馬克 威海瑪 馬里亞 凡 德 威斯特 VAN DER WIJST, MARC WILHELMUS MARIA ,  柯納路斯 亞德安那司 蘭波特思 迪 亨 DE HOON, CORNELIUS ADRIANUS LAMBERTUS

IPC: G05B ,  G03F

CPC classification number: G03F7/70775 ,  G03F7/709 ,  G05D19/02

Abstract: 本發明係關於一種用於控制一物件之一位置或位置相關量的控制系統,其包含:一量測系統,該量測系統經組態以量測該物件之一位置或位置相關量;一控制器,該控制器經組態以基於該經量測位置或位置相關量來提供一控制信號;及一致動器,該致動器經組態以基於該控制信號來致動該物件,其中該控制系統進一步包含至少一濾波器單元,該至少一濾波器單元經組態以過濾該經量測位置或位置相關量,其中該至少一濾波器單元為一部分階濾波器(partial order filter)單元。

Abstract in simplified Chinese: 本发明系关于一种用于控制一对象之一位置或位置相关量的控制系统,其包含:一量测系统,该量测系统经组态以量测该对象之一位置或位置相关量;一控制器,该控制器经组态以基于该经量测位置或位置相关量来提供一控制信号;及一致动器,该致动器经组态以基于该控制信号来致动该对象,其中该控制系统进一步包含至少一滤波器单元,该至少一滤波器单元经组态以过滤该经量测位置或位置相关量,其中该至少一滤波器单元为一部分阶滤波器(partial order filter)单元。