光触媒用シリカガラス及び光触媒用シリカガラスの製造方法
    261.
    发明申请
    光触媒用シリカガラス及び光触媒用シリカガラスの製造方法 审中-公开
    用于光催化剂的二氧化硅玻璃和用于制备光致抗蚀剂的二氧化硅玻璃的方法

    公开(公告)号:WO2009022456A1

    公开(公告)日:2009-02-19

    申请号:PCT/JP2008/002145

    申请日:2008-08-07

    Abstract:  本発明は、シリカガラスにおいて、少なくとも、前記シリカガラスは、OH基含有量が1~500wt.ppmであり、酸素欠陥構造が実質的に存在しないものであり、金属不純物濃度が、表層部から内部にわたって、Li、Na、K、Mg、Ca、Cr、Fe、Ni、Cu、Znについてそれぞれ200wt.ppb以下であり、光触媒反応ユニットに使用されるものである光触媒用シリカガラス、及び、このような光触媒用シリカガラスを製造するための光触媒用シリカガラスの製造方法である。これにより光触媒反応ユニットに使用されるシリカガラスであって、長時間紫外線を照射しても性能が低下しにくい、耐紫外線性等に優れた光触媒用シリカガラス、及びその製造方法が提供される。

    Abstract translation: 一种光催化剂用石英玻璃,用于光催化反应单元,羟基含量为1〜500重量ppm,基本上不含缺氧结构,其中金属杂质,Li,Na,K,Mg,Ca ,Cr,Fe,Ni,Cu和Zn在表面到芯的区域分别为200wt .ppb或更低; 以及生产石英玻璃的方法。 本发明提供一种用于光催化反应单元的光催化剂用石英玻璃,其耐紫外线性优异,即使长时间照射紫外线也不会导致性能劣化, 石英玻璃。

    熔融石英ガラスおよびその製造方法
    262.
    发明申请
    熔融石英ガラスおよびその製造方法 审中-公开
    熔融石英玻璃及其制造方法

    公开(公告)号:WO2008032698A1

    公开(公告)日:2008-03-20

    申请号:PCT/JP2007/067639

    申请日:2007-09-11

    Abstract:  波長245nmの紫外光に対する厚さ10mmでの内部透過率が95%以上であり、OH含有量が5ppm以下、Li,Na,K,Mg,Ca,Cuの含有量が各々0.1ppm未満である熔融石英ガラス。好ましくは、この熔融石英ガラスの1215°Cにおける粘性率は10 11.5 Pa・s以上であり、また、1050°Cで大気中に24時間放置時の、表面からの深さが20μmを超え、100μmまでの領域におけるCuイオンの拡散係数が1×10 -10 cm 2 /sec以下である。この熔融石英ガラスは、原料シリカ粉をクリストバライト化し、次いで、非還元性雰囲気中で熔融することにより製造される。この熔融石英ガラスは、紫外線、可視光線、赤外線の透過率が高く、高純度で耐熱性が高く、金属不純物の拡散速度が小さいという特性を有し、各種光学材料、半導体製造用部材、液晶製造用部材などとして好適である。

    Abstract translation: 包含5ppm以下的OH和Li,Na,K,Mg,Ca和Cu的熔融石英玻璃,其含量小于0.1ppm,表现出内部透射率,以10mm的厚度测量, 相对于245nm波长的紫外线辐射,为95%以上。 优选地,熔融石英玻璃在1215℃下的粘度系数为11.5Pa·s以上,并且显示Cu离子扩散系数,其在超过20μm至100nm的范围内测量 当在1050℃的大气中放置24小时时,其表面深度为10埃-10 -2厘米2 /秒以下。 该熔融石英玻璃通过将原料二氧化硅粉末转化为方英石,然后在非还原性气氛中将其熔融而制得。 该熔融石英玻璃具有紫外线,可见光和红外线的透射率高,高纯度,耐热性高,金属杂质扩散速度低的特性,因此适用于 各种光学材料,半导体制造用构件,液晶制造用构件等。

    VORRICHTUNG ZUR HERSTELLUNG VON FUSED SILICA
    266.
    发明申请
    VORRICHTUNG ZUR HERSTELLUNG VON FUSED SILICA 审中-公开
    器具,用于产生熔融石英

    公开(公告)号:WO2005056486A2

    公开(公告)日:2005-06-23

    申请号:PCT/EP2004/013723

    申请日:2004-12-02

    IPC: C03B

    CPC classification number: C03B19/1025 C03B19/102 C03B2201/03

    Abstract: Vorrichtung zur Herstellung von Fused Silica, dadurch gekennzeichnet, dass die Vorrichtung, deren nun folgende Komponenten metallfrei sind, eine Fördervorrichtung für Fumed Silica, eine Messvorrichtung und eine Dosiervorrichtung und darauf folgend einen Reaktor mit einer Versinterungsvorrichtung und darauf folgend eine Abscheidungsvorrichtung aufweist.

    Abstract translation: 用于制造熔融二氧化硅的装置,其特征在于,这是现在以下组分是不含金属的装置中,下一个未来包括用于热解法二氧化硅,一个测量装置和计量装置,然后具有Versinterungsvorrichtung的反应器中并在其上的沉积装置的输送装置。

    HIGH-PURITY PYROGENICALLY PREPARED SILICON DIOXIDE
    267.
    发明申请
    HIGH-PURITY PYROGENICALLY PREPARED SILICON DIOXIDE 审中-公开
    高纯度生成二氧化硅

    公开(公告)号:WO2005026068A2

    公开(公告)日:2005-03-24

    申请号:PCT/EP2004/010335

    申请日:2004-09-16

    CPC classification number: C01B33/183 C03B19/12 C03B2201/03 C03C1/02 Y02P40/57

    Abstract: High-purity pyrogenically prepared silicon dioxide having metal contents of less than 0.2 &mgr;g/g is prepared by reacting a silicon tetrachloride having a metal content of less than 30 ppb by means of flame hydrolysis. The silicon dioxide can be utilised for the manufacture of high-purity glasses by means of the sol-gel process, which show a high-homogenity. It can be used for the production of shaped articles, which can be used as preforms for the optical fiber spinning.

    Abstract translation: 通过火焰水解使具有小于30ppb的金属含量的四氯化硅反应制备金属含量小于0.2mug / g的高纯度热解法制备的二氧化硅。 二氧化硅可用于通过溶胶 - 凝胶法制造高纯度玻璃,这表现出高均匀性。 它可以用于生产成型制品,其可以用作光纤纺丝的预成型件。

    QUARTZ GLASS FOR SHORT WAVE LENGTH ULTRAVIOLET RAY, DISCHARGE LAMP USING THE SAME, CONTAINER THEREFOR AND ULTRAVIOLET IRRADIATION APPARATUS
    269.
    发明申请
    QUARTZ GLASS FOR SHORT WAVE LENGTH ULTRAVIOLET RAY, DISCHARGE LAMP USING THE SAME, CONTAINER THEREFOR AND ULTRAVIOLET IRRADIATION APPARATUS 审中-公开
    QUARTZ玻璃用于短波长超声波辐射,使用其的放电灯,其中的容器和超紫外线辐射装置

    公开(公告)号:WO02024587A1

    公开(公告)日:2002-03-28

    申请号:PCT/JP2001/008197

    申请日:2001-09-20

    Abstract: A quartz glass to be used through exposure to an ultraviolet ray having a wave length of 200 nm or less, characterized in that it is produced from natural rock-crystal or silica sand, has a total content of sodium, potassium, titanium and iron of 2.5 ppm or less and contains an OH group in an amount of 10 ppm or more; and an ultraviolet irradiation apparatus wherein the quartz glass is used as the material of a bulb (11) of a light emitting tube of an ultraviolet discharge lamp (L), and as the material of an ultraviolet-transmittable outer tube or protecting tube (20) housing the ultraviolet discharge lamp. The quartz glass is improved with respect to the lowering of the transmittance of an ultraviolet ray in a shorter wave length region with the elapse of time, which leads to the provision of a discharge lump and an ultraviolet irradiation apparatus which are greatly improved in the degree of retention of ultraviolet ray strength, and thus can be operated at a reduced cost and with saving energy.

    Abstract translation: 通过暴露波长为200nm以下的紫外线而使用的石英玻璃,其特征在于,其由天然岩石或硅砂制成,其钠,钾,钛和铁的总含量为 2.5ppm以下,含有10ppm以上的OH基; 以及紫外线照射装置,其中使用石英玻璃作为紫外线放电灯(L)的发光管的灯泡(11)的材料,并且作为可透射紫外线的外管或保护管(20)的材料 )容纳紫外线放电灯。 相对于随着时间的推移,在较短的波长区域中的紫外线的透射率的降低,石英玻璃得到改善,这导致提供放电块和紫外线照射装置,其程度大大提高 保持紫外线强度,因此可以以降低的成本和节省能量的方式进行操作。

    METHOD FOR HEAT TREATING SYNTHETIC QUARTZ GLASS FOR OPTICAL USE, HEAT TREATMENT APPARATUS FOR THE SAME, AND SYNTHETIC QUARTZ GLASS FOR OPTICAL USE
    270.
    发明申请
    METHOD FOR HEAT TREATING SYNTHETIC QUARTZ GLASS FOR OPTICAL USE, HEAT TREATMENT APPARATUS FOR THE SAME, AND SYNTHETIC QUARTZ GLASS FOR OPTICAL USE 审中-公开
    用于热处理合成紫外线玻璃用于光学使用的方法,用于其的热处理装置和用于光学使用的合成石英玻璃

    公开(公告)号:WO01094267A2

    公开(公告)日:2001-12-13

    申请号:PCT/EP2001/006179

    申请日:2001-05-31

    Abstract: An object of the present invention is to overcome the problems of the prior art technique, and to provide a heat treatment method as well as a heat treatment apparatus capable of heat treating, with higher efficiency, a synthetic quartz glass for optical use having higher homogeneity and higher purity. Another object of the present invention is to provide an a synthetic quartz glass for optical use. The problems above are solved by, in a method for heat treating a flat cylindrical synthetic quartz glass body provided as the object to be heat treated in a heating furnace, a method for heat treating a synthetic quartz glass for optical use comprising preparing a vessel made of quartz glass and having a flat cylindrical space for setting therein the object synthetic quartz glass body, placing two or more object synthetic quartz glass bodies into the vessel in parallel with each other, filling the space with SiO2 powder, setting the vessel inside the heating furnace with its lid closed, and applying the heat treatment to the vessel.

    Abstract translation: 本发明的目的是克服现有技术的问题,提供一种热处理方法以及能够更高效率地热处理具有较高均匀性的光学用合成石英玻璃的热处理装置 和更高的纯度。 本发明的另一个目的是提供一种用于光学用途的合成石英玻璃。 上述问题是通过在加热炉中对作为热处理对象的平坦圆筒形合成石英玻璃体进行热处理的方法来解决的,该方法是用于热处理用于光学用途的合成石英玻璃的方法,包括制备容器 的石英玻璃,并且具有平坦的圆柱形空间用于在其中设置物体合成石英玻璃体,将两个或更多个目标合成石英玻璃体彼此平行放置在容器中,用SiO 2粉末填充空间,将容器设置在加热 炉盖关闭,并对容器进行热处理。

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