用于产生电子束的设备
    261.
    发明授权

    公开(公告)号:CN103299390B

    公开(公告)日:2016-04-20

    申请号:CN201180051544.5

    申请日:2011-09-08

    Abstract: 本发明涉及一种用于产生电子束的设备,其包括:壳体(12),该壳体(12)形成可排空的空间(13)的边界并且具有电子束出射开口;用于将工作气体输送到可排空的空间(13)中的入口(16);平面的阴极(14)和阳极(15),所述平面的阴极(14)和所述阳极(15)被布置在可排空的空间(13)中并且在所述平面的阴极(14)和所述阳极(15)之间借助所施加的电压可产生辉光放电等离子体,其中来自辉光放电等离子体的离子可被加速到所述阴极(14)的表面上。所述阴极具有:由第一材料制成的第一部分(14a),该第一部分(14a)构造所述阴极(14)的中央布置的第一表面区域;以及由第二材料制成的第二部分(14b),该第二部分(14b)构造所述阴极(14)的包围第一表面区域的第二表面区域。第一材料通过加载有被加速的离子而被加热到如下温度:在该温度下,电子主要由于热电子发射而从第一材料逸出。

    电子枪用电子束流收束装置

    公开(公告)号:CN103972005A

    公开(公告)日:2014-08-06

    申请号:CN201410219200.6

    申请日:2014-05-22

    Inventor: 江滨浩 李传雨

    Abstract: 电子枪用电子束流收束装置,涉及电磁场领域。它是为了解决现有电子枪的电子束流可控性低,准确度低,导致电子无法收束而发散的问题。通过本发明能够自由调节电子枪中射出的电子束的射出点,通过调节励磁电流的大小,即可改变磁场的强度,同时线圈本身的形状及长度也容易调整,因此本发明使用励磁线圈的方法产生径向磁场,通过磁场的洛伦兹力控制电荷的运动,进而达到控制电子束流射出点的目的,准确度同比提高了20%。本发明适用于电磁场领域。

    用于产生电子束的设备
    264.
    发明公开

    公开(公告)号:CN103299390A

    公开(公告)日:2013-09-11

    申请号:CN201180051544.5

    申请日:2011-09-08

    Abstract: 本发明涉及一种用于产生电子束的设备,其包括:壳体(12),该壳体(12)形成可排空的空间(13)的边界并且具有电子束出射开口;用于将工作气体输送到可排空的空间(13)中的入口(16);平面的阴极(14)和阳极(15),所述平面的阴极(14)和所述阳极(15)被布置在可排空的空间(13)中并且在所述平面的阴极(14)和所述阳极(15)之间借助所施加的电压可产生辉光放电等离子体,其中来自辉光放电等离子体的离子可被加速到所述阴极(14)的表面上。所述阴极具有:由第一材料制成的第一部分(14a),该第一部分(14a)构造所述阴极(14)的中央布置的第一表面区域;以及由第二材料制成的第二部分(14b),该第二部分(14b)构造所述阴极(14)的包围第一表面区域的第二表面区域。第一材料通过加载有被加速的离子而被加热到如下温度:在该温度下,电子主要由于热电子发射而从第一材料逸出。

    一种场发射电子源器件及其制备方法

    公开(公告)号:CN1652283B

    公开(公告)日:2011-01-12

    申请号:CN200510042304.5

    申请日:2005-01-01

    Inventor: 元光 宋航

    Abstract: 一种场发射电子源器件及其制备方法,它有封入真空容器内的场发射电子源和阳极,场发射电子源包括基片上的阴极、栅极及其间层结构,其特征是引出栅极电极的厚金属膜与阴极之间为绝缘层,而与厚金属膜相连的、具有大量微孔的薄金属膜与阴极之间为复合体层。上述的间层结构指位于阴极与栅极之间的绝缘层、半导体层、复合体层。上述的薄金属膜指厚度在50纳米以内、具有大量微孔的金属膜。其制备方法是利用微电子工艺在硅、玻璃等基板上的阴极上制备有复合材料层薄膜,再在上述的复合材料薄膜表面上有薄金属膜栅极,将上述器件与阳极密封在真空容器内而成。本发明工艺简单,结构合理,具有驱动电压低、发射电流密度高、电子束发散小,发射效率高等优点。

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