公开(公告)号：KR1020050111579A

公开(公告)日：2005-11-25

申请号：KR1020057012759

申请日：2004-02-26

Applicant: 하마마츠 포토닉스 가부시키가이샤

Inventor： 야마우치카즈노리 ,  스기야마히로유키

IPC: G01J3/36 ,  G02B5/28

CPC classification number: G01N21/31 ,  G01J3/021 ,  G01J3/36 ,  G01J3/51 ,  G01J2003/1221 ,  G01J2003/1226 ,  G01J2003/123 ,  G01J2003/1239 ,  G01N21/255 ,  G01N21/892 ,  G01N21/896 ,  G01N21/90 ,  G01N2021/3137 ,  G01N2021/3166 ,  G01N2021/3177

Abstract: A spectroscope comprising a plurality of interference filters (31, 32,...) having different transmission wavelength bands arranged sequentially such that a light reflected off a specified interference filter (31) enters a next-stage interference filter (32), and photodetector elements (41, 42,...) disposed at the impinging positions of lights passed through respective interference filters, wherein a thin silver film (31a) having a thickness of 20-200 nm is provided on the light incident face side of the first-stage interference filter.

Abstract translation: 一种分光器，包括具有不同透射波段的多个干涉滤光器（31,32，...），其顺序布置，使得从指定的干涉滤光器（31）反射的光进入下一级干涉滤光器（32），以及光电检测器 设置在穿过各个干涉滤光器的光的入射位置处的元件（41,42，...），其中在第一个的第一个的光入射面侧设置厚度为20-200nm的薄银膜（31a） 级干扰滤波器。

公开(公告)号：KR1020000057929A

公开(公告)日：2000-09-25

申请号：KR1020000005502

申请日：2000-02-03

Applicant: 사이머 엘엘씨

Inventor： 에르쇼브알렉산더아이.

IPC: G01J3/28

CPC classification number: G01J3/26 ,  G01J3/02 ,  G01J3/0205 ,  G01J3/021 ,  G01J3/0224 ,  G01J3/0229 ,  G01J3/027

Abstract: PURPOSE: A dual-pass etalon spectrometer is provided to generate a precise fringe data able to measure band widths having a precision required for microlithography with relation to delta lambda FWHM and delta lambda 95%. CONSTITUTION: In a dual-pass etalon spectrometer, an optical scattering system(34) makes laser beams(16) facing toward a plurality of directions for generating scattered beams, and spectrum components of the scattered beams are divided by an angle to be permeated via the etalon(25). A reverse reflection mirror(38) reflects the permeated light beam components reversely via the etalon. The twice permeated spectrum components is focused on an optical detector(44) formed of an optical diode array by a lens(42) to detect a fringe pattern(49). The reverse reflection mirror is to be a hollow reverse reflection mirror.

Abstract translation: 目的：提供双通道标准光谱仪，以产生精确的条纹数据，能够测量与ΔλFWHM和Δλ95％相关的微光刻所需精度的带宽。 构成：在双通道标准光谱仪中，光散射系统（34）使得激光束（16）面向多个方向产生散射光束，并且散射光束的光谱分量被除以被透过的角度 标准具（25）。 逆反射镜（38）通过标准具反向透过光束成分。 两次渗透的光谱分量聚焦在由透镜（42）由光二极管阵列形成的光学检测器（44）上以检测条纹图案（49）。 反射反射镜为中空反射镜。

公开(公告)号：KR2020000015808U

公开(公告)日：2000-08-16

申请号：KR2019990000483

申请日：1999-01-18

Applicant: 고등기술연구원연구조합

Inventor： 남기중 ,  이성풍

IPC: G01J3/427

CPC classification number: G01J3/427 ,  G01J3/021 ,  G01J2003/4275 ,  G01N21/314

Abstract: 본고안은다른파장대역에서각기다른정보의빛을발광하는영상신호를측정하는시스템에관한것으로서, 더욱자세하게는 2영상측정광학시스템을부착한하나의카메라를이용하여동일한영상에서다른파장대의정보를방출하는현상으로부터동시에두 파장대역의영상정보를획득할수 있도록하는 2파장순간영상동시측정시스템에관한것이다. 본고안의일 실시예에의한 2파장순간영상동시측정시스템에의하면, 1개의광학시스템과 1대의카메라를이용하여 2파장의순간영상정보를얻도록함으로써시스템의구성을단순화하여기술적인어려움을최소화하고데이터의정확도를높일수 있을뿐만아니라정보를얻는데걸리는시간과경비를대폭적으로줄일수 있는효과가있다.

公开(公告)号：KR1019960012784B1

公开(公告)日：1996-09-24

申请号：KR1019910701393

申请日：1990-04-20

Applicant: 레하이유니버시티

Inventor： 영더블유.김

IPC: G01J3/36

CPC classification number: G01J3/1809 ,  G01J3/02 ,  G01J3/0208 ,  G01J3/021 ,  G01J3/0286 ,  G01J3/0291 ,  G01J3/04 ,  G01J3/28 ,  G01J3/2889 ,  G01J2003/1828 ,  G01N21/718 ,  G01N2021/695

Abstract: 요약없음.

公开(公告)号：NO20091090A

公开(公告)日：2010-09-13

申请号：NO20091090

申请日：2009-03-12

Applicant: INTEGRATED OPTOELECTRONICS AS

Inventor： BUGGE RENATO

IPC: G01N21/39 ,  G01J1/04 ,  G01N33/28

CPC classification number: G01N21/39 ,  G01J3/0208 ,  G01J3/021 ,  G01J3/0237 ,  G01J3/108 ,  G01N21/3577 ,  G01N21/4738 ,  G01N21/53 ,  G01N21/55 ,  G01N33/1833 ,  G01N2021/1797

公开(公告)号：NO20034503A

公开(公告)日：2004-02-27

申请号：NO20034503

申请日：2003-10-08

Applicant: ONDEO NALCO CO

Inventor： BANKS RODNEY H

IPC: G01N21/64 ,  G01J3/44

CPC classification number: G01N21/643 ,  G01J3/021 ,  G01J3/0216 ,  G01J3/4406 ,  G01N21/645 ,  G01N2021/6463 ,  G01N2021/6473

公开(公告)号：NL2010883C

公开(公告)日：2014-12-08

申请号：NL2010883

申请日：2013-05-29

Applicant: QUEST PHOTONIC DEVICES B V

Inventor： MEESTER RICHARD JOHANNES CORNELIS

IPC: A61B5/00 ,  A61B5/1455

CPC classification number: A61B5/0075 ,  A61B1/3132 ,  A61B5/0062 ,  A61B5/14552 ,  A61B2562/0233 ,  G01J3/021 ,  G01J3/0224 ,  G01J3/2823 ,  G01J2003/2826 ,  G02B21/16

公开(公告)号：ZA9002481B

公开(公告)日：1991-01-30

申请号：ZA9002481

申请日：1990-03-30

Applicant: UNIV LEHIGH

Inventor： KIM YONG W ,  YONG W KIM

IPC: G01J3/443 ,  G01J3/02 ,  G01J3/04 ,  G01J3/18 ,  G01J3/28 ,  G01N21/17 ,  G01N21/69 ,  G01N21/71 ,  G01N21/73 ,  G01J

CPC classification number: G01J3/1809 ,  G01J3/02 ,  G01J3/0208 ,  G01J3/021 ,  G01J3/0286 ,  G01J3/0291 ,  G01J3/04 ,  G01J3/28 ,  G01J3/2889 ,  G01J2003/1828 ,  G01N21/718 ,  G01N2021/695

公开(公告)号：NO20084066A

公开(公告)日：2009-06-10

申请号：NO20084066

申请日：2008-09-24

Applicant: PRECISION ENERGY SERVICES INC

Inventor： FORD JESS V ,  WAID MARGARET C ,  PRATI ENRIQUE ,  KRUGER SVEN ,  CHRISTIAN SEAN M ,  PONSTINGL MIKE ,  KASPERSKI BRYAN ,  JOHNSON ANTHONY

IPC: E21B49/08 ,  G01J3/28

CPC classification number: G01J3/02 ,  G01J3/0208 ,  G01J3/021 ,  G01J3/0297 ,  G01J3/08 ,  G01J3/28 ,  G01J3/42 ,  G01J2003/1282 ,  G01J2003/1286

公开(公告)号：ZA9504234B

公开(公告)日：1996-01-22

申请号：ZA9504234

申请日：1995-05-24

Applicant: RENISHAW PLC

Inventor： SMITH BRIAN JOHN EDWARD ,  BATCHELDER DAVID NEVILLE ,  BALDWIN KURT JUSTIN

IPC: G01J3/18 ,  G01J3/28 ,  G01J3/36 ,  G01J3/44 ,  G01J

CPC classification number: G01J3/44 ,  G01J3/0202 ,  G01J3/021 ,  G01J3/18 ,  G01J3/28 ,  G01J3/36