公开(公告)号：KR1020000057929A

公开(公告)日：2000-09-25

申请号：KR1020000005502

申请日：2000-02-03

Applicant: 사이머 엘엘씨

Inventor： 에르쇼브알렉산더아이.

IPC: G01J3/28

CPC classification number: G01J3/26 ,  G01J3/02 ,  G01J3/0205 ,  G01J3/021 ,  G01J3/0224 ,  G01J3/0229 ,  G01J3/027

Abstract: PURPOSE: A dual-pass etalon spectrometer is provided to generate a precise fringe data able to measure band widths having a precision required for microlithography with relation to delta lambda FWHM and delta lambda 95%. CONSTITUTION: In a dual-pass etalon spectrometer, an optical scattering system(34) makes laser beams(16) facing toward a plurality of directions for generating scattered beams, and spectrum components of the scattered beams are divided by an angle to be permeated via the etalon(25). A reverse reflection mirror(38) reflects the permeated light beam components reversely via the etalon. The twice permeated spectrum components is focused on an optical detector(44) formed of an optical diode array by a lens(42) to detect a fringe pattern(49). The reverse reflection mirror is to be a hollow reverse reflection mirror.

Abstract translation: 目的：提供双通道标准光谱仪，以产生精确的条纹数据，能够测量与ΔλFWHM和Δλ95％相关的微光刻所需精度的带宽。 构成：在双通道标准光谱仪中，光散射系统（34）使得激光束（16）面向多个方向产生散射光束，并且散射光束的光谱分量被除以被透过的角度 标准具（25）。 逆反射镜（38）通过标准具反向透过光束成分。 两次渗透的光谱分量聚焦在由透镜（42）由光二极管阵列形成的光学检测器（44）上以检测条纹图案（49）。 反射反射镜为中空反射镜。

公开(公告)号：KR100909018B1

公开(公告)日：2009-07-22

申请号：KR1020047003063

申请日：2002-08-19

Applicant: 사이머 엘엘씨

Inventor： 클레네브라이언씨. ,  다스팔라시피. ,  그로베스티븐엘. ,  에르쇼브알렉산더아이. ,  스미스스코트티. ,  팬시아오지앙제이. ,  샌드스트롬리차드엘.

IPC: H01S3/03

CPC classification number: G03F7/70933 ,  G03F7/70025 ,  G03F7/70041 ,  G03F7/70575 ,  H01S3/0057 ,  H01S3/0071 ,  H01S3/02 ,  H01S3/03 ,  H01S3/036 ,  H01S3/038 ,  H01S3/0385 ,  H01S3/0404 ,  H01S3/041 ,  H01S3/08004 ,  H01S3/08009 ,  H01S3/0943 ,  H01S3/097 ,  H01S3/09705 ,  H01S3/0971 ,  H01S3/0975 ,  H01S3/104 ,  H01S3/105 ,  H01S3/11 ,  H01S3/1305 ,  H01S3/134 ,  H01S3/139 ,  H01S3/22 ,  H01S3/2207 ,  H01S3/223 ,  H01S3/225 ,  H01S3/2251 ,  H01S3/2256 ,  H01S3/2258 ,  H01S3/2333 ,  H01S3/2366

Abstract: 본원발명은 생산 라인 머신용 모듈러 고반복률 자외선 가스 방전 레이저(4) 광원을 제공한다. 본원 시스템은 생산 라인 머신의 입구 포트 등의 소망 위치에 레이저 빔을 송출하기 위해 인클로징 및 퍼징된 빔 경로를 포함한다. 바람직한 실시예에 있어서, 생산 라인 머신은 리소그래피 머신(2)이고, 2개의 별개의 방전 챔버가 제공되는데, 그 중 하나는 제2 방전 챔버에서 증폭되는 초협대역 센드 빔을 발생시키는 마스터 발진기의 일부이다. MOPA 시스템은 비교가능한 단일 챔버 레이저 시스템의 거의 2배의 펄스 에너지를 상당히 향상된 빔 품질로 출력할 수 있다. 펄스 스트레처는 출력 펄스 길이를 2배 이상으로 하여 종래기술 레이저 시스템에 비해 펄스 전력(mJ/ns)이 감소된다. 이러한 바람직한 실시예는 실질적으로 광학 컴포넌트의 저하에도 불구하고 리소그래피 시스템의 동작수명 내내 가능하다.
레이저, 방전, 송출, 협대역, 열교환기, 퍼지, 스트레처, 챔버

公开(公告)号：KR1020040032991A

公开(公告)日：2004-04-17

申请号：KR1020047003079

申请日：2002-08-16

Applicant: 사이머 엘엘씨

Inventor： 왓슨톰에이. ,  우자즈도우스키리차드씨. ,  이바스첸코알렉스피. ,  샤논로버트에이. ,  샌드스트롬리차드엘. ,  웨브로버트카일 ,  팔렌스차트프레데릭에이. ,  호프만토마스 ,  레티그커티스엘. ,  네스리차드엘. ,  멜체르폴씨. ,  에르쇼브알렉산더아이.

IPC: H01S3/22

CPC classification number: H01S3/0385 ,  G03F7/70025 ,  G03F7/70041 ,  G03F7/70333 ,  G03F7/70575 ,  G03F7/70933 ,  H01S3/0057 ,  H01S3/0071 ,  H01S3/02 ,  H01S3/036 ,  H01S3/038 ,  H01S3/0387 ,  H01S3/0404 ,  H01S3/041 ,  H01S3/08009 ,  H01S3/08036 ,  H01S3/097 ,  H01S3/09702 ,  H01S3/0971 ,  H01S3/0975 ,  H01S3/1024 ,  H01S3/104 ,  H01S3/105 ,  H01S3/1055 ,  H01S3/1305 ,  H01S3/134 ,  H01S3/137 ,  H01S3/139 ,  H01S3/22 ,  H01S3/2207 ,  H01S3/223 ,  H01S3/225 ,  H01S3/2251 ,  H01S3/2256 ,  H01S3/2258 ,  H01S3/2333 ,  H01S3/2366

Abstract: 본원발명은 초당 6,000-10,000 펄스 범위의 반복률에서 프로덕션 라인 커패시티내의 신뢰가능한 장기간 동작가능한 가스 방전 레이저 시스템을 제공한다. 바람직한 실시예는 포토리소그래피에 사용된 KrF, ArF, F
2 레이저로 구성되어 있다. 개선점에는 가스 플로를 증가시키기 위해 애노드(542) 바로 옆에 흡입 팬(555)이 포함된다. 팬(555)의 흡입구는 애노드(542)와 절연 스페이서(544B) 사이에 있다.

Abstract translation: 本发明提供了气体放电激光系统，其能够以6,000至10,0000个脉冲功率秒的重复率在生产线中进行可靠的长期操作。 优选实施例被配置为用于集成电路光刻的光源的KrF，ArF和F＆amp; SUB＆lt; /＆gt;激光器。 改进包括改进的高压电源，其能够将磁压缩脉冲电力系统的初始电容器充电至每秒6,000至10,0000次的精确目标电压，以及用于监测脉冲能量并且确定脉冲宽度调制器上的目标电压的反馈控制器， 逐个脉冲的基础。 公开了若干技术用于在放电之间的间隔期间从激光电极之间的放电区域去除放电产生的碎屑。 在一个实施例中，放电区域的宽度从大约3mm减小到大约1mm，使得针对4000Hz操作设计的气体循环系统可以用于10,000Hz操作。 在其他实施例中，电极之间的气流充分增加以允许10,000Hz的操作，放电区域宽度为3mm。 为了提供这些实质上增加的气体流速，申请人已经公开了利用现有技术的切向形式的优选实施例，但是具有改进的和更强大的电动机以及新颖的轴承设计。 新的轴承设计包括陶瓷轴承和磁性轴承。 在其他实施例中，气体循环功率中的一些或全部设置有位于激光室外部的鼓风机。 外部鼓风机可以位于激光柜内或分开的位置。

公开(公告)号：KR1020040047802A

公开(公告)日：2004-06-05

申请号：KR1020047003063

申请日：2002-08-19

Applicant: 사이머 엘엘씨

Inventor： 클레네브라이언씨. ,  다스팔라시피. ,  그로베스티븐엘. ,  에르쇼브알렉산더아이. ,  스미스스코트티. ,  팬시아오지앙제이. ,  샌드스트롬리차드엘.

IPC: H01S3/03

CPC classification number: G03F7/70933 ,  G03F7/70025 ,  G03F7/70041 ,  G03F7/70575 ,  H01S3/0057 ,  H01S3/0071 ,  H01S3/02 ,  H01S3/03 ,  H01S3/036 ,  H01S3/038 ,  H01S3/0385 ,  H01S3/0404 ,  H01S3/041 ,  H01S3/08004 ,  H01S3/08009 ,  H01S3/0943 ,  H01S3/097 ,  H01S3/09705 ,  H01S3/0971 ,  H01S3/0975 ,  H01S3/104 ,  H01S3/105 ,  H01S3/11 ,  H01S3/1305 ,  H01S3/134 ,  H01S3/139 ,  H01S3/22 ,  H01S3/2207 ,  H01S3/223 ,  H01S3/225 ,  H01S3/2251 ,  H01S3/2256 ,  H01S3/2258 ,  H01S3/2333 ,  H01S3/2366

Abstract: 본원발명은 생산 라인 머신용 모듈러 고반복률 자외선 가스 방전 레이저(4) 광원을 제공한다. 본원 시스템은 생산 라인 머신의 입구 포트 등의 소망 위치에 레이저 빔을 송출하기 위해 인클로징 및 퍼징된 빔 경로를 포함한다. 바람직한 실시예에 있어서, 생산 라인 머신은 리소그래피 머신(2)이고, 2개의 별개의 방전 챔버가 제공되는데, 그 중 하나는 제2 방전 챔버에서 증폭되는 초협대역 센드 빔을 발생시키는 마스터 발진기의 일부이다. MOPA 시스템은 비교가능한 단일 챔버 레이저 시스템의 거의 2배의 펄스 에너지를 상당히 향상된 빔 품질로 출력할 수 있다. 펄스 스트레처는 출력 펄스 길이를 2배 이상으로 하여 종래기술 레이저 시스템에 비해 펄스 전력(mJ/ns)이 감소된다. 이러한 바람직한 실시예는 실질적으로 광학 컴포넌트의 저하에도 불구하고 리소그래피 시스템의 동작수명 내내 가능하다.

Abstract translation: 本发明提供一种用于生产线机器的模块化高重复频率紫外线气体放电激光光源。 该系统包括一个封闭和净化光束路径，用于将激光束传送到生产线机器入口等所需位置。 在优选实施例中，生产线机器是平版印刷机，并且提供两个单独的放电室，其中一个是主振荡器的一部分，产生在第二放电室中放大的非常窄带的种子束。 该MOPA系统的输出脉冲能量大约是可比较的单腔激光系统的两倍，大大改善了光束质量。 与现有技术的激光系统相比，脉冲展宽器使输出脉冲长度增加了一倍，导致脉冲功率（mJ / ns）的降低。 该优选实施例能够在光刻系统晶片平面上提供照明，该平面在光刻系统的整个工作寿命期间近似恒定，尽管光学元件大量劣化。

公开(公告)号：KR100356108B1

公开(公告)日：2002-10-19

申请号：KR1020000005502

申请日：2000-02-03

Applicant: 사이머 엘엘씨

Inventor： 에르쇼브알렉산더아이.

IPC: G01J3/28

Abstract: 이중 통과 에탈론계 분광계. 확산된 빔의 스펙트럼 성분은 에탈론을 통해 투과되도록 각도로 분할되어 있다. 역반사경은 상기 투과된 성분을 에탈론을 통해 역으로 반사한다. 두번 투과된 스펙트럼 성분은 바람직한 실시예에서 광 다이오드 어레이인 광 검출기상에 집속된다. 분광계는 Δλ
FWHM 와 Δλ
95% 모두에 대해 마이크로리소그래피에 필요한 정밀도를 가진 대역폭 측정을 가능하게 하는 정밀한 프린지 데이터를 매우 컴팩트하게 생성한다.

公开(公告)号：KR100906112B1

公开(公告)日：2009-07-07

申请号：KR1020047003079

申请日：2002-08-16

Applicant: 사이머 엘엘씨

Inventor： 왓슨톰에이. ,  우자즈도우스키리차드씨. ,  이바스첸코알렉스피. ,  샤논로버트에이. ,  샌드스트롬리차드엘. ,  웨브로버트카일 ,  팔렌스차트프레데릭에이. ,  호프만토마스 ,  레티그커티스엘. ,  네스리차드엘. ,  멜체르폴씨. ,  에르쇼브알렉산더아이.

IPC: H01S3/22

CPC classification number: H01S3/0385 ,  G03F7/70025 ,  G03F7/70041 ,  G03F7/70333 ,  G03F7/70575 ,  G03F7/70933 ,  H01S3/0057 ,  H01S3/0071 ,  H01S3/02 ,  H01S3/036 ,  H01S3/038 ,  H01S3/0387 ,  H01S3/0404 ,  H01S3/041 ,  H01S3/08009 ,  H01S3/08036 ,  H01S3/097 ,  H01S3/09702 ,  H01S3/0971 ,  H01S3/0975 ,  H01S3/1024 ,  H01S3/104 ,  H01S3/105 ,  H01S3/1055 ,  H01S3/1305 ,  H01S3/134 ,  H01S3/137 ,  H01S3/139 ,  H01S3/22 ,  H01S3/2207 ,  H01S3/223 ,  H01S3/225 ,  H01S3/2251 ,  H01S3/2256 ,  H01S3/2258 ,  H01S3/2333 ,  H01S3/2366

Abstract: 본원발명은 초당 6,000-10,000 펄스 범위의 반복률에서 프로덕션 라인 커패시티내의 신뢰가능한 장기간 동작가능한 가스 방전 레이저 시스템을 제공한다. 바람직한 실시예는 포토리소그래피에 사용된 KrF, ArF, F
2 레이저로 구성되어 있다. 개선점에는 가스 플로를 증가시키기 위해 애노드(542) 바로 옆에 흡입 팬(555)이 포함된다. 팬(555)의 흡입구는 애노드(542)와 절연 스페이서(544B) 사이에 있다.
챔버, 레이저, 반복률, 피드백, 엑시머, 광원

公开(公告)号：KR100504045B1

公开(公告)日：2005-07-27

申请号：KR1019997011418

申请日：1998-05-14

Applicant: 사이머 엘엘씨

Inventor： 에르쇼브알렉산더아이.

IPC: H01S3/223

CPC classification number: H01S3/1055 ,  G03F7/70025 ,  G03F7/70483 ,  G03F7/70575 ,  H01S3/08009 ,  H01S3/08036 ,  H01S3/08081 ,  H01S3/139 ,  H01S3/225

Abstract: 초협대역 엑시머 레이저. 레이저의 후방에 위치한 라인 협소화 요소(18)와 함께 출력 커플러로서 에탈론(44)을 이용함으로써 초협대역 폭이 얻어진다. 바람직한 실시예는 1.5pm보다 작은 95%의 인티그랄 대역폭으로 1000Hz에서 10mJ의 레이저 펄스를 생성할 수 있다.

公开(公告)号：KR1020010053366A

公开(公告)日：2001-06-25

申请号：KR1020017000015

申请日：1999-06-22

Applicant: 사이머 엘엘씨

Inventor： 오자르스키로버트지. ,  에르쇼브알렉산더아이.

IPC: G02B26/08

Abstract: 둘 이상의 레이저가 레이저 빔 멀티플렉서(72)를 통해서 둘 이상의 리소그래피 노광 툴(11-13)용 레이저 조명을 제공하는 레이저 리소그래피 시스템. 멀티플렉서(72)는 상이한 반사율 표면을 갖는 다중-반사율 미러를 각각 갖는 수 개의 미러 디바이스(41-63), 및 레이저 중 적어도 하나로부터의 레이저 빔과 교차하고 그 부분이 노광 툴(11-13) 중 적어도 하나에 향하도록 표면 중 하나를 위치결정하는 조절 메카니즘을 포함한다.

公开(公告)号：KR1020010013417A

公开(公告)日：2001-02-26

申请号：KR1019997011418

申请日：1998-05-14

Applicant: 사이머 엘엘씨

Inventor： 에르쇼브알렉산더아이.

IPC: H01S3/223

CPC classification number: H01S3/1055 ,  G03F7/70025 ,  G03F7/70483 ,  G03F7/70575 ,  H01S3/08009 ,  H01S3/08036 ,  H01S3/08081 ,  H01S3/139 ,  H01S3/225

Abstract: A very narrow band excimer laser. The very narrow bandwidth is achieved by using an etalon (44) as an output coupler in combination with a line narrowing element (18) located at the rear of the laser. Preferred embodiments are capable of producing 10 mJ laser pulses at 1000 Hz with a 95% integral bandwidth of less than 1.5 pm.

Abstract translation: 非常窄的准分子激光器。 通过使用标准具（44）作为输出耦合器与位于激光器后部的线窄元件（18）组合来实现非常窄的带宽。 优选的实施例能够以1000Hz产生10mJ的激光脉冲，并且具有小于1.5μm的95％积分带宽。