公开(公告)号：KR1020160109786A

公开(公告)日：2016-09-21

申请号：KR1020150034847

申请日：2015-03-13

Applicant: 한국표준과학연구원

Inventor： 조용재 ,  제갈원 ,  조현모

IPC: G01D21/00 ,  G01B11/06 ,  G01B11/24 ,  G01N21/21 ,  G01J4/04

CPC classification number: G01N21/211 ,  G01B11/0641 ,  G01B11/24 ,  G01J4/04 ,  G01N21/8422 ,  G01D21/00

Abstract: 본발명은광소자회전형타원계측기에관한것으로서, 보다상세하게는시편에의해반사또는투과된광의편광상태변화를측정및 분석하여시편의뮬러행렬성분을측정하는데사용되는타원계측기에관한것이다. 본발명은일 실시예는시편을향하여입사광을방사하는광원, 상기입사광의진행경로상 상기광원과상기시편사이에배치되며상기광원에서방사된상기입사광을편광시키는고정편광자, 상기입사광의진행경로상 상기고정편광자와상기시편사이에배치되며상기고정편광자를통과한광이입사되며상기입사된광을편광시키는등속으로회전하는등속회전편광자, 상기등속회전편광자를통과하여편광된광이상기시편에의해반사또는투과되면서편광상태가변화되어입사되며상기입사된광을편광시키는등속으로회전하는등속회전검광자, 상기등속회전검광자를통과하여편광된광이입사되며상기입사된광을편광시키는고정검광자, 상기고정검광자를통과하여편광된광이입사되며입사된광의노광량을검출하고상기노광량에상응하는광의복사속의값을출력하는광검출기를포함할수 있다.

Abstract translation: 本发明涉及具有旋转无彩色光学元件的椭偏仪，更具体地说，涉及一种能够通过测量和分析由样品透射或反射的光的偏振状态的变化来测量样品的mueller矩阵分量的椭偏仪 。 根据实施例，本发明包括：将入射光辐射到样品的光源; 在入射光的进行路线上放置在样品和光源之间的固定的偏振片，并且偏振从光源辐射的入射光; 在入射光的进行路线上放置在样品和固定偏振器之间的恒定旋转偏振器，使光通过固定偏振器，并以恒定速度旋转以使入射光偏振; 通过改变由于样品的透射或反射而产生的偏振状态并以恒定的速度旋转以使入射光偏振的恒定旋转分析仪，通过恒定旋转偏振器偏振光， 采用恒定旋转分析仪进行偏振的固定分光仪，使入射光偏振; 以及通过固定分析器偏振的光的光检测器，检测入射光的曝光量，并输出与曝光量对应的光的辐射通量的值。

公开(公告)号：KR101600128B1

公开(公告)日：2016-03-04

申请号：KR1020117021587

申请日：2010-02-17

Applicant: 루돌프 테크놀로지스 인코퍼레이티드

Inventor： 발락,스코트에이. ,  선,강

IPC: G01J4/00 ,  H01L21/66

CPC classification number: G01J4/04 ,  G01N21/21 ,  G01N21/9501

Abstract: 반도체제조프로세스의임계치수들을감시하는방법은그로부터반사된광의편광상태에대한영향을갖는제1 구조체의적어도하나의이미지를캡처하는것을포함한다. 제1 구조체이미지들중 w적어도일부에대하여, 제1 구조체로부터반사된광의강도를나타내는값이계산된다. 제1 구조체의임계치수가얻어지고계산된값과상관된다. 후속구조체의적어도하나의이미지가캡처된다. 계산된값에적어도부분적으로기초하여후속구조체의임계치수에대한결정이이루어진다.

公开(公告)号：KR1020160006158A

公开(公告)日：2016-01-18

申请号：KR1020157024971

申请日：2015-06-01

Applicant: 가부시키가이샤 아타고

Inventor： 아마미야히데유키 ,  다나카마사노스케

IPC: G01N21/17 ,  G01N21/21 ,  G01N21/41 ,  G01N21/43 ,  G01N21/03 ,  G01N33/02

CPC classification number: G01N21/4133 ,  G01J4/04 ,  G01N21/03 ,  G01N21/21 ,  G01N21/43 ,  G01N33/02 ,  G01N2021/1734 ,  G01N2201/0668 ,  G01N2201/068

Abstract: 본발명은측정대상물의선광도및 굴절률에대응한정보를동일한측정조건으로동시에측정할수 있어측정조작이간편하고, 또한소형의기기로서구성하는것이용이한선광도및 굴절률측정장치를제공하는것으로서, 측정대상물이수용되는시료실(1)과, 시료실(1) 내에수용된측정대상물의선광도를측정하는선광도측정부(2)와, 시료실(1) 내에수용된측정대상물의굴절률에대응한정보를측정하는굴절률측정부(3)를구비한다. 선광도측정부(2)는분석대상광(9)을편광변조시켜시료실(1)에입사시키는편광변조부(11)와, 시료실(1)을거친분석대상광(5)의광광도를검출하는강도검출부(12)와, 선광도연산부(13)를갖고, 굴절률측정부(3)는시료실(1)의바닥부를이루는프리즘(8)에입사된분석대상광(24)의위치정보를검출하는위치검출부(25)와, 굴절률(농도) 연산부(13)를갖는다.

Abstract translation: 一种装置，包括被配置为接收物体的样品室（1），被配置为测量在样品室（1）中接收的物体的偏振度的偏振度测量构件（2）和折射率测量构件（3） 被配置为测量与在样本室（1）中接收的物体的折射率相对应的信息。 偏振度测量部件（2）包括偏振调制部件（11），被配置为对用于分析物体的光束（9）进行偏振调制，并允许调制光束进入样品室（1），强度检测 被配置为检测从所述样品室出射的光束（5）的强度的构件（12），以及偏振度计算构件（13）。 折射率测量构件（3）包括位置检测构件（26）和折射率（浓度）计算构件（13）。

公开(公告)号：KR1020130072535A

公开(公告)日：2013-07-02

申请号：KR1020110140002

申请日：2011-12-22

Applicant: 삼성전기주식회사

Inventor： 김지훈 ,  함석진

IPC: G01N21/88 ,  G01N21/21

CPC classification number: G01J4/04 ,  G01N21/9501

Abstract: PURPOSE: A nondestructive defect inspection device and a defect inspecting method using the same are provided to enhance the sensitivity for detecting defects on the surfaces of a semiconductor and a wafer or inner defects thereof. CONSTITUTION: A nondestructive defect inspection device includes a sample irradiating unit, a light receiving unit, and a control unit (C). A sample is seated on the sample irradiating unit. The sample irradiating unit irradiates polarized lights to the sample. The light receiving unit detects the polarized lights emitted from the sample. The control unit processes each data processed by the light receiving unit and stores the processed data. [Reference numerals] (C) Control unit

Abstract translation: 目的：提供一种非破坏性缺陷检查装置和使用其的缺陷检查方法，以增强用于检测半导体和晶片表面上的缺陷的灵敏度或其内部缺陷。 构成：非破坏性缺陷检查装置包括样品照射单元，光接收单元和控制单元（C）。 将样品置于样品照射单元上。 样品照射单元向样品照射偏振光。 光接收单元检测从样品发射的偏振光。 控制单元处理由光接收单元处理的每个数据，并存储处理后的数据。 （附图标记）（C）控制单元

公开(公告)号：KR100968233B1

公开(公告)日：2010-07-06

申请号：KR1020087000969

申请日：2006-06-13

Applicant: 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.

Inventor： 반데케르크호프,마르쿠스아드리아누스 ,  데보아이요,빌헬무스페트루스 ,  반그리벤브로에크,헨드리쿠스로베르투스마리에 ,  클라센,미첼프랑소와즈후베르트 ,  콕,하이코빅터 ,  베렌스,마르티옌게라르트도미니크 ,  우이터디예크,탐모 ,  루이야커스,빌헬무스야코부스마리아 ,  쿠이퍼,요한네스마리아 ,  반두렌,레온 ,  존네벨트,야콥 ,  기링,에르빈요한네스마르티누스

IPC: G01J4/00 ,  G03F7/20

CPC classification number: G01J4/04 ,  G03F7/70091 ,  G03F7/70566 ,  G03F7/70591 ,  G03F7/70716

Abstract: 리소그래피 장치는 방사선 빔을 컨디셔닝하도록 구성된 조명 시스템; 전체 또는 부분적으로 레티클 스테이지에 커플링하도록 구성된 편광 센서를 포함하며, 이때 레티클 편광 센서의 구성요소들은 종래의 레티클들에 대해 사용된 방식으로 리소그래피 장치 내에 로딩되고 언로딩될 수 있다. 일 구성에서, 능동 레티클 툴은 조명 시스템 내의 필드 지점으로부터 수용된 편광된 광에 적용된 지연을 변화시키도록 구성된 회전가능한 지연기를 포함한다. 또 다른 구성에서, 수동 레티클 툴은 편광 센서 모듈들의 어레이로서 구성되며, 이 경우 고정된 지연기들에 의해 수용된 광에 적용된 지연량은 편광 센서 모듈의 위치에 따라 변한다. 따라서, 주어진 필드 지점에 수용된 광에 대한 복수의 지연 조건들이 측정될 수 있으며, 이때 주어진 필드 지점에서의 광의 편광 상태의 완전한 결정이 결정될 수 있다. 또 다른 구성에서, 편광 센서는 투영 렌즈를 통과한 광의 편광 상태에 대한 투영 렌즈의 효과를 측정하도록 구성된다.

公开(公告)号：KR1020080015939A

公开(公告)日：2008-02-20

申请号：KR1020087000967

申请日：2006-06-13

Applicant: 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.

Inventor： 반데케르크호프,마르쿠스아드리아누스 ,  데보아이요,빌헬무스페트루스 ,  반그리벤브로에크,헨드리쿠스로베르투스마리에 ,  클라센,미첼프랑소와즈후베르트 ,  콕,하이코빅터 ,  베렌스,마르티옌게라르트도미니크 ,  우이터디예크,탐모 ,  루이야커스,빌헬무스야코부스마리아 ,  쿠이퍼,요한네스마리아 ,  반두렌,레온 ,  존네벨트,야콥 ,  기링,에르빈요한네스마르티누스

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G01J4/04 ,  G03F7/70091 ,  G03F7/70566 ,  G03F7/70591 ,  G03F7/70716 ,  G03F7/2006 ,  G03F7/70191 ,  G03F7/70308

Abstract: A lithographic apparatus includes an illumination system configured to condition a radiation beam; a polarization sensor configured at least in part to couple to a reticle stage, wherein components of the reticle polarization sensor can be loaded and unloaded in the lithographic apparatus in the manner used for conventional reticles. In one configuration an active reticle tool includes a rotatable retarder configured to vary the retardation applied to polarized light received from a field point in the illumination system. In another configuration, a passive reticle tool is configured as an array of polarization sensor modules, where the amount of retardation applied to received light by fixed retarders varies according to position of the polarization sensor module. Accordingly, a plurality of retardation conditions for light received at a given field point can be measured, wherein a complete determination of a polarization state of the light at the given field point can be determined. In another configuration, the polarization sensor is configured to measure the effect of a projection lens on a polarization state of light passing through the projection lens.

Abstract translation: 光刻设备包括被配置为调节辐射束的照明系统; 至少部分地配置为耦合到掩模版平台的极化传感器，其中所述光罩偏振传感器的部件可以以用于常规光罩的方式在光刻设备中加载和卸载。 在一种配置中，有源掩模版工具包括可旋转延迟器，其被配置为改变施加到照明系统中的场点所接收的偏振光的延迟。 在另一种配置中，被动掩模版工具被配置为偏振传感器模块的阵列，其中由固定延迟器施加到接收光的延迟量根据偏振传感器模块的位置而变化。 因此，可以测量在给定场点处接收的光的多个延迟条件，其中可以确定在给定场点处的光的偏振状态的完全确定。 在另一种配置中，偏振传感器被配置为测量投影透镜对通过投影透镜的光的偏振状态的影响。

公开(公告)号：KR1020060105048A

公开(公告)日：2006-10-09

申请号：KR1020067013872

申请日：2004-11-29

Applicant: 코닝 인코포레이티드

Inventor： 샤프스,로버트,더블유.

IPC: G01J3/447

CPC classification number: G01N21/958 ,  G01J4/04 ,  G01N21/23

Abstract: A system and method are described herein for determining the quality of an optical material by measuring and analyzing birefringence (e.g., stress-induced birefringence, inherent birefringence) in the optical material (e.g., glass sheet). The method is a scanning technique in which a birefringence sensor is set to a first optical state and then moved in a direction at a constant velocity over a glass sheet while first power transmission measurements are made at a high data rate. At the end of this move, the birefringence sensor is set to a second optical state and then moved at the same velocity back over the glass sheet, while second power transmission measurements are made. This procedure is repeated the same number of times as there are optical states in the birefringence sensor. A computer then calculates birefringence values using profiles of the power transmission measurements so as to determine the quality of the glass sheet.

Abstract translation: 本文描述了通过测量和分析光学材料（例如玻璃板）中的双折射（例如，应力引起的双折射，固有双折射）来确定光学材料的质量的系统和方法。 该方法是一种扫描技术，其中双折射传感器被设置为第一光学状态，然后在以高数据速率进行第一功率传输测量的同时在玻璃板上以恒定速度的方向移动。 在该移动结束时，将双折射传感器设置为第二光学状态，然后以相同的速度返回到玻璃板上，同时进行第二次功率传输测量。 该过程重复与双折射传感器中的光学状态相同的次数。 然后，计算机使用动力传递测量的轮廓来计算双折射值，以便确定玻璃板的质量。

公开(公告)号：KR1020040048405A

公开(公告)日：2004-06-09

申请号：KR1020047003286

申请日：2002-09-06

Applicant: 가부시키가이샤 호리바 세이사꾸쇼

Inventor： 나바토바가베인나탈리아 ,  와사이요코

IPC: G01N21/21

CPC classification number: G01J4/04 ,  G01B11/0641 ,  G01N21/211

Abstract: 박막, 분산식을 사용한 광학정수, 입사각도 등의 조합 모델을 설정하고, 측정 스펙트럼과의 피팅을 극소치 계산법(BLMC)을 사용하여 유한 반복함으로써, 단층 초박막 및 박막을 계측한다. 마찬가지로 하여 2층, 3층~n층에 대하여 조합 모델을 설정하고, 피팅을 극소치 계산법(BLMC) 및 광범위 극소치 계산법(EBLMC)을 사용하여 행함으로써, 박막 n(n≥2)층 구조를 결정한다. 모든
계측에서, 계측대상 기판상의 박막에 입사광의 파장을 바꾸어 각 파장 λ
i 마다의 입사광과 반사광의 편광의 변화를 나타내는 측정 스펙트럼 ψ
E (λ
i )와 Δ
E (λ
i )를 얻는다. 그리고, 이 측정 스펙트럼 모델과의 피팅에 의해 최적 모델을 선정한다. 필요에 따라 선택 결과를 확인하여 보존한다.

Abstract translation: 通过超薄膜和薄膜测量，模型基于膜厚度，使用色散公式获得的光学常数，入射角等等的组合形成，并且模型和测量的光谱由BLMC适合于单个 获得关于单层的信息。 通过薄膜多层结构测量，同样为多层薄膜多层结构形成模型，并由BLMC或EBLMC装配，获得关于薄膜多层结构的信息。 在任何一种测量中，光被投射到要测量的基板上的薄膜上，同时改变波长作为参数以获得每个波长λi的光谱psi E（λi）和ΔE（λi），表示 入射光和反射光之间的偏振变化。 测量的光谱是合适的，获得最佳模型。 根据需要确认并保存结果。 ＆lt;图像＆GT;

公开(公告)号：KR1020030022292A

公开(公告)日：2003-03-15

申请号：KR1020037000770

申请日：2001-06-28

Applicant: 쏘시에떼 드 프로딕시옹 에 드 리쉐르슈 아쁠리께

Inventor： 스텔장-루이 ,  보에르피에르 ,  뤼트만미쉘

IPC: G01N21/21

CPC classification number: G01J4/04 ,  G01N21/211

Abstract: 본 발명은 적어도 적외선 레디에이션을 제공하는 소스(S), 시료 홀더(PE), 센서(D), 편광된 광 빔에 의한 경사 조명 하의 시료 홀더 상에 위치하는 시료를 조명하도록, 소스(S)와 시료 홀더(PE) 사이에 탑재되는 제1광학 시스템 및, 시료에 의해 반사되는 광을 집속하기 위해 시료 홀더(PE)와 센서(D) 사이에 탑재되는 제2광학 시스템을 구비하는 타원편광계에 관한 것이다. 타원편광계는 제2광학 시스템의 포커싱 소자(M2)의 초점 평면 내 반사 경로 상에 탑재되며, 시료의 후면(FAR)으로부터 유도되는 기생 광(RP)을 차단하기에 적합하고, 시료의 전면(FAV)으로부터 유도되는 유용한 광선(RU)을 통과시켜 센서(D)로 향하는 것을 허용함으로써, 시료 전면 및 후면에 대해 분해능을 획득할 수 있는 차단 소자(F2)를 구비한다.

Abstract translation: 本发明涉及一种光谱椭偏仪，包括：能够发射宽带光线（4）的光源（2），用于偏振宽带光束（4）的偏振器（10），以及用于产生偏振入射光束（12） 根据至少一个选择的角度的样本（16） 分析器（24），用于接收被照亮样本（16）反射的光束（20），并响应于所述反射光束（20）产生输出光束（28）; 和至少一个布置在源（2）和样品（16）之间和/或样品和传感器之间并且能够将入射光束（12）和/或反射光线（12）聚焦的反射光学元件（14） 20）根据选定的地点。 椭圆计还包括布置在样品（16）和传感器之间和/或源（2）和样品（16）之间的至少第一折射元件（22），以收集和聚焦所述反射光束和/或所述事件 从而使得能够在样品（16）的任一侧上提供至少一个折射元件（22）和反射元件（14），并且因此将源和传感器放置在相对于所述点的同一侧。

公开(公告)号：KR100337132B1

公开(公告)日：2002-05-18

申请号：KR1019990044723

申请日：1999-10-15

Applicant: 한국과학기술원

Inventor： 이창희 ,  신상영 ,  추광욱

IPC: H04B10/07 ,  H04B10/291

CPC classification number: H04B10/077 ,  G01J4/04 ,  H04B10/07955

Abstract: 본발명은광통신기술에관한것으로서, 특히광 증폭기를사용하는광통신에서의광 신호대 잡음비(optical signal-to-noise ratio)를측정하는장치에관한것이다. 이러한광 신호대 잡음비측정장치는, 광증폭기의출력광이입력되면투과파장과일치하는파장의상기출력광을통과시키는대역통과광 가변필터와; 상기대역통과광 가변필터를통과한광을 4개로분배하는 1×4 광분배기; 상기분배된 4개의광으로부터스톡스매개변수 S, S, S, S을구하는스톡스매개변수측정수단; 상기스톡스매개변수로부터상기광 증폭기의출력광 중편광된성분의세기를측정하여광 신호의세기를구하는광 신호세기측정수단; 상기스톡스매개변수 S와상기광 신호의세기를이용하여상기광 증폭기의출력광에포함된잡음세기를구하는잡음세기측정수단; 및상기광 증폭기의광 신호의세기와잡음세기를이용하여투과파장에대한를구하는나눗셈수단을포함한다.