公开(公告)号：CN110014363A

公开(公告)日：2019-07-16

申请号：CN201811556240.4

申请日：2018-12-19

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 石井游 ,  町田优

IPC: B24B37/10 ,  B24B37/30 ,  B24B37/34 ,  H01L21/67

Abstract: 本发明提供更均匀地研磨基板的基板处理装置、基板处理方法以及储存程序的存储介质。基板处理装置具备：第一研磨头，该第一研磨头使第一研磨器具与基板的第一面滑动接触而研磨所述第一面；第二研磨头，该第二研磨头的直径比所述第一研磨头小，且使第二研磨器具与所述基板的所述第一面滑动接触而研磨所述第一面；以及基板支承机构，该基板支承机构分别与所述第一研磨头和所述第二研磨头对应地通过流体压力从所述基板的所述第一面的相反侧的第二面侧支承所述基板。

公开(公告)号：CN104253072B

公开(公告)日：2019-06-18

申请号：CN201410301842.0

申请日：2014-06-27

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 户川哲二 ,  伊藤贤也 ,  石井游 ,  内山圭介

IPC: H01L21/67 ,  B08B1/00 ,  B24B53/017

CPC classification number: B08B1/04 ,  B08B1/001 ,  B08B1/006 ,  B24B37/10 ,  B24B37/107 ,  B24B37/30 ,  H01L21/304 ,  H01L21/67046 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/687 ,  H01L21/68728

Abstract: 一种基板处理装置，能正确检测出由流体支承的晶片等基板是否正确地处于规定的处理位置。该基板处理装置具有：擦洗器(50)，其使擦洗部件(61)与基板(W)的第1面滑动接触而对该基板(W)进行表面处理；静压支承机构(90)，其通过流体而非接触地支承基板的第2面，该第2面是第1面相反侧的面；距离传感器(103)，其对擦洗器(50)与静压支承机构(90)的距离进行测量；以及处理控制部(4)，其根据距离测量值算出静压支承机构(90)与基板(W)的第2面之间的间隙，并确定间隙是否处于规定的范围以内。

公开(公告)号：CN104253072A

公开(公告)日：2014-12-31

申请号：CN201410301842.0

申请日：2014-06-27

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 户川哲二 ,  伊藤贤也 ,  石井游 ,  内山圭介

IPC: H01L21/67 ,  B08B1/00 ,  B24B53/017

CPC classification number: B08B1/04 ,  B08B1/001 ,  B08B1/006 ,  B24B37/10 ,  B24B37/107 ,  B24B37/30 ,  H01L21/304 ,  H01L21/67046 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/687 ,  H01L21/68728

Abstract: 一种基板处理装置，能正确检测出由流体支承的晶片等基板是否正确地处于规定的处理位置。该基板处理装置具有：擦洗器(50)，其使擦洗部件(61)与基板(W)的第1面滑动接触而对该基板(W)进行表面处理；静压支承机构(90)，其通过流体而非接触地支承基板的第2面，该第2面是第1面相反侧的面；距离传感器(103)，其对擦洗器(50)与静压支承机构(90)的距离进行测量；以及处理控制部(4)，其根据距离测量值算出静压支承机构(90)与基板(W)的第2面之间的间隙，并确定间隙是否处于规定的范围以内。

公开(公告)号：CN203305049U

公开(公告)日：2013-11-27

申请号：CN201320262515.X

申请日：2013-05-14

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 石井游 ,  伊藤贤也 ,  高桥正三 ,  铃木美加

IPC: B24B37/22 ,  B24B37/00 ,  B24B37/24

CPC classification number: B24B37/005 ,  B24B37/042 ,  B24B37/10 ,  B24B37/24 ,  B24B37/30

Abstract: 本实用新型涉及一种研磨工件用研磨垫及化学机械研磨装置。一种研磨垫，能对具有由平面和曲面组合而成的表面形状的工件实施镜面加工。研磨垫(3)安装在可旋转的研磨台(4)上。工件(W)保持在托架(1)上，并被按压在研磨垫(3)上。研磨垫(3)具有：具有用于研磨工件(W)的研磨面的弹性垫(31)；支承弹性垫(31)的变形自如的基层(32)；以及将弹性垫(31)与基层(32)接合的粘接层(33)。

公开(公告)号：CN303635152S

公开(公告)日：2016-04-06

申请号：CN201530452555.5

申请日：2015-11-13

Applicant: 株式会社荏原制作所

Designer： 石井游 ,  伊藤贤也 ,  上田浩彦

Abstract: 1.本外观设计产品的名称为研磨装置用垫保持器。2.本外观设计产品例如如使用状态参考图所示，用于在化学机械研磨（CMP）装置中，在周侧面槽中安装研磨垫，固定在研磨工作台上而旋转，使研磨垫与工件（被研磨物）的侧面接触而使用。3.本外观设计产品的设计要点在于产品的形状。4.指定立体图1为最能表明设计要点的视图。

公开(公告)号：CN303635151S

公开(公告)日：2016-04-06

申请号：CN201530452450.X

申请日：2015-11-13

Applicant: 株式会社荏原制作所

Designer： 石井游 ,  伊藤贤也 ,  上田浩彦

Abstract: 1.本外观设计产品的名称为研磨装置用工件保持器。2.本外观设计产品例如如使用状态参考图所示，用于在化学机械研磨（CMP）装置中，夹入工件（被研磨物）并安装在伺服马达上，使旋转的研磨工作台上的研磨垫的研磨面与工件的侧面接触而使用。3.本外观设计产品的设计要点在于产品的形状。4.指定立体图1为最能表明设计要点的视图。5.由于本外观设计产品的后视图与主视图对称，所以省略后视图。