公开(公告)号：KR1020060031136A

公开(公告)日：2006-04-12

申请号：KR1020040080035

申请日：2004-10-07

Applicant: 한국과학기술연구원

Inventor： 석현광 ,  김기배 ,  손명찬 ,  홍경태

IPC: C23C4/04

Abstract: 본 발명은 반도체/LCD 제조 시 사용되는 진공 플라즈마 챔버 및 그 내부 부품의 보호막으로서 열용사에 의한 금속 및 세라믹 혼합 코팅막을 제공한다. 상기 혼합층은 열용사에 의해 형성되는 코팅막의 균열발생, 기공 발생, 코팅막의 박리 현상 등이 방지되어 진공 플라즈마 챔버 및 그 내부 부품의 내식성을 향상시키고, 수명을 연장시켜 제품 신뢰성을 더욱 확보할 수 있게 한다.
열용사, 혼합 코팅층, 균열, 박리

公开(公告)号：KR1019990052971A

公开(公告)日：1999-07-15

申请号：KR1019970072531

申请日：1997-12-23

Applicant: 한국과학기술연구원

Inventor： 이재철 ,  이호인 ,  최정미 ,  김기배 ,  송승재

IPC: B22D17/32

Abstract: 본 발명은, 금형 공간에 용탕이 충진되는 과정에 있어서 용탕의 충진 속도가 금형 내의 체적 변화에 대응하도록 사출 피스톤의 속도를 제어핀을 이용하여 제어하기 위한 것으로, 금형내로 용융 금속을 주입하기 위한, 유압에 의해 이동하는 사출 피스톤에 있어서, 상기 사출 피스톤의 이동 속도가 금형내의 체적 변화에 대응하여 변속 가능하도록 상기 사출 피스톤의 용융 금속이 닿는 단부와는 반대쪽 단부에 상기 금형내의 체적 변화에 대응할 수 있는 형상을 가지면서 설치되는 속도 제어핀과; 상기 속도 제어핀이 그 안으로 삽입되는, 상기 속도 제어핀의 최대 직경부 보다 큰 구경을 가지는 오리피스;로 이루어지고, 상기 속도 제어핀이 상기 오리피스를 빠져나가면서 생기는 상기 오리피스와 상기 속도 제어핀 사이의 간격에 의해 상기 사출 피스톤에 가해지는 유량이 결정됨으로써 상기 피스톤의 속도가 제어되는 속도 제어핀을 가지는 사출 피스톤 및 상기 사출 피스톤의 속도 제어 장치를 제공한다.

公开(公告)号：KR100087443B1

公开(公告)日：1995-07-31

申请号：KR1019920018990

申请日：1992-10-15

Applicant: 한국과학기술연구원

Inventor： 이호인 ,  김기배 ,  김용준 ,  황수성

IPC: B22D17/00

公开(公告)号：KR1019940008782A

公开(公告)日：1994-05-16

申请号：KR1019920018990

申请日：1992-10-15

Applicant: 한국과학기술연구원

Inventor： 이호인 ,  김기배 ,  김용준 ,  황수성

IPC: B22D17/00

Abstract: 본 발명은 다이캐스트 주조시에 용탕에 대한 국부적인 가압을 행하여 용탕중에 존재하는 공동과 수축공을 제거하여 내부결함이 없는 주조제품을 제조하기 위한 스쥐즈 다이캐스팅 장치에 관한 것이다.
본 발명 장치는 금형공간내 용탕의 국부가압을 위한 구성으로서 종래의 다이캐스트 장치에서 주조재품의 추출 기능만을 수행하던 압출핀을 국부가압이 요구되는 금형공간상에 형성하여 비교적 높은 압력이 부여되는 압출실린더에 연동하여 구동되도록 상기 압출핀과 압출실린더 사이를 압출봉으로 연결함으로써 압출실린더의 구동시압출핀의 선단부가 용탕의 내부로 밀고 들어가면서 가압압출을 행하도록 구성되어 있다.
본 발명 장치는 금형공간내 국부가압을 위한 구성으로서 기존의 압출봉을 변형하여 이용함에 따라 장치자체가 간단하고, 금헝제조비용이 낮다는 장점이 있다.