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    MASAS DE RECUBRIMENTO DE BAJA INTENSIDAD.
    23.
    发明专利
    MASAS DE RECUBRIMENTO DE BAJA INTENSIDAD. 未知

    公开(公告)号：ES2344671T3

    公开(公告)日：2010-09-02

    申请号：ES07822351

    申请日：2007-11-08

    Applicant: BASF SE

    Inventor： LAFUENTE CERDA OSCAR ,  HEISCHKEL YVONNE ,  VETTER MICHAEL ,  SCHWALM REINHOLD ,  GRUBER NICK

    IPC: C09D201/02 ,  C09D4/00

    Abstract: Masas de recubrimiento, que pueden ser endurecidas por medio de irradiación, que contienen (A)al menos un compuesto con, al menos, dos grupos (met)acrilato, que se eligen entre el grupo constituido por el poliéster(met)acrilato, el poliéter(met)acrilato, el policarbonato(met)acrilato, el epóxido(met)acrilato y el uretano(met)acrilato, (B)en caso dado, al menos, un compuesto con, al menos, un grupo etilénicamente insaturado, que sea distinto de (A), (C)el éster de divinilo del ácido adípico, (D)en caso dado, al menos, un disolvente, (E)al menos un fotoiniciador y (F)en caso dado, otros componentes típicos de los esmaltes, caracterizadas porque la proporción del éster de divinilo del ácido adípico (C) con respecto a la suma de los componentes (A) + (B) + (C), que pueden ser endurecidos por medio de irradiación, supone, al menos, un 20% en peso, estando constituido el epóxido(met)acrilato por el producto de reacción del ácido (met)acrílico con diglicidiléter de bisfenol-A, con diglicidiléter de bisfenol-F, con diglicidiléter de 1,4-butanodiol, con diglicidiléter de 1,6-hexanodiol, con triglicidiléter de trimetilolpropano, con tetraglicidiléter de pentaeritrita, con 1,1,2,2-tetraquis[4-(2,3-epoxipropoxi)fenil]etano (CAS-Nr. [27043-37-4]), con diglicidiléter de polipropilenglicol (α,ω-bis(2,3-epoxipropoxi)poli(oxipropileno) (CAS-Nr. [16096-30-3]) o de bisfenol A hidrogenado (2,2-bis[4-(2,3-epoxipropoxi)ciclohexil]propano, CAS-Nr. [13410-58-7]).

    24.
    发明专利
    未知

    公开(公告)号：AT427332T

    公开(公告)日：2009-04-15

    申请号：AT06725352

    申请日：2006-03-28

    Applicant: BASF SE

    Inventor： SCHWALM REINHOLD ,  BECK ERICH ,  MENZEL KLAUS

    IPC: C08G18/67 ,  C08G18/10 ,  C08G18/79 ,  C09D175/16

    Abstract: A polyurethane acrylate (A), comprises, as synthesis components, (a) at least one polyisocyanate which comprises isocyanurate groups, based on 1-isocyanato-3,3,5-trimethyl-5-(isocyanatomethyl)cyclohexane, (b) at least one polyisocyanate which comprises isocyanurate groups, based on hexamethylene diisocyanate, (c) at least one aliphatic and/or cycloaliphatic diisocyanate, (d1) at least one polyetherdiol or polyesterdiol having a molecular weight ranging from 500 to 2000, (d2) optionally, at least one diol having a molecular weight of less than 220 g/mol, (e) at least one compound having at least one group reactive toward isocyanate and at least one unsaturated group capable of free radical polymerization, and (f) optionally, at least one compound having exactly one group reactive toward isocyanate.

    PROCEDIMIENTO PARA LA PRODUCCION DE RECUBRIMIENTOS, CAPAS ADHESIVAS U OBTURACIONES PARA SUSTRATOS CON O SIN IMPRIMACION.
    25.
    发明专利
    PROCEDIMIENTO PARA LA PRODUCCION DE RECUBRIMIENTOS, CAPAS ADHESIVAS U OBTURACIONES PARA SUSTRATOS CON O SIN IMPRIMACION. 未知

    公开(公告)号：ES2236173T5

    公开(公告)日：2009-03-16

    申请号：ES01900460

    申请日：2001-01-25

    Applicant: BASF SE

    Inventor： BLUM RAINER ,  SCHWALM REINHOLD ,  STEPHAN OSKAR

    IPC: C09D167/07 ,  B05D3/02 ,  C09D175/16 ,  C09D201/00 ,  C09J4/02

    Abstract: Procedimiento para la producción de revestimientos, capas adhesivas o sistemas de sellado para sustratos con o sin imprimación, en el que (1) se aplica sobre y/o en el sustrato con o sin imprimación al menos una sustancia de revestimiento y/o sustancia adhesiva que puede endurecerse por medio de radicales y/o de iones y/o al menos una masa de sellado que puede endurecerse por medio de radicales y/o de iones, que contiene al menos un componente (A) que contiene como media estadística al menos un grupo (a) con al menos una unión que puede activarse con radicación actínica, por molécula, de modo que en cuanto a los enlaces que pueden activarse con radiación actínica se trata de dobles enlaces carbono-carbono en la forma de (1.1) un líquido o masa fundida anhidra y libre de disolventes,

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