中科微点-全球专利检索

  1. Login
  2. Sign Up

Search Results

48 records (took 0.021 seconds)

    21.
    发明专利
    未知

    公开(公告)号：DE60326959D1

    公开(公告)日：2009-05-14

    申请号：DE60326959

    申请日：2003-08-07

    Applicant: ESSILOR INT

    Inventor： SCHERER KARIN ,  LACAN PASCALE ,  ROISIN PHILIPPE ,  BOSMANS RICHARD

    IPC: C23C14/10 ,  G02C7/02 ,  C23C14/22 ,  G02B1/10 ,  G02B1/11

    Abstract: The method according to the invention comprises forming on a SiO x F y layer a silica SiO 2 and/or metal oxide protective layer obtained through ion beam-assisted vapor phase deposition, comprising bombarding the layer being formed with a beam of positive ions formed from a rare gas, oxygen or a mixture of two or more of such gases, or through cathodic sputtering of a silicon or metal layer followed by an oxidation step of the silicon or the metal layer. Application to the production of antireflection coatings.

    22.
    发明专利
    未知

    公开(公告)号：DE602004018514D1

    公开(公告)日：2009-01-29

    申请号：DE602004018514

    申请日：2004-09-02

    Applicant: ESSILOR INT

    Inventor： SCHERER KARIN ,  LACAN PASCALE ,  BOSMANS RICHARD

    IPC: C23C14/06 ,  C03C17/32 ,  C03C17/34 ,  C03C17/42 ,  C23C14/22

    Abstract: A method for depositing, under vacuum, an amorphous layer primarily containing fluorine and carbon onto a substrate (9), characterized in that it comprises a step for depositing this layer with an ion gun (1) for ejecting ions in the form of a beam of accelerated ions that is created from at least one compound containing fluorine and carbon in a gaseous form or saturated vapor supplied to the ion canon. A method of this type makes it possible, in particular, to improve the adherence of an outer layer having a low index of refraction to the underlying layer of an anti-reflective stack. A device suited for carrying out the method is also described.

    24.
    发明专利
    未知

    公开(公告)号：FR2859487B1

    公开(公告)日：2006-12-15

    申请号：FR0311238

    申请日：2003-09-25

    Applicant: ESSILOR INT

    Inventor： SCHERER KARIN ,  LACAN PASCALE ,  BOSMANS RICHARD

    IPC: C01B7/20 ,  C23C14/30 ,  C03C17/32 ,  C03C17/34 ,  C03C17/42 ,  C23C14/06 ,  C23C14/12 ,  C23C14/22 ,  C23C14/56 ,  G02B1/11

    Abstract: A method for depositing, under vacuum, an amorphous layer primarily containing fluorine and carbon onto a substrate (9), characterized in that it comprises a step for depositing this layer with an ion gun (1) for ejecting ions in the form of a beam of accelerated ions that is created from at least one compound containing fluorine and carbon in a gaseous form or saturated vapor supplied to the ion canon. A method of this type makes it possible, in particular, to improve the adherence of an outer layer having a low index of refraction to the underlying layer of an anti-reflective stack. A device suited for carrying out the method is also described.

    ОПТИЧЕСКИЙ ЭЛЕМЕНТ С АНТИБЛИКОВЫМ ИЛИ ОТРАЖАЮЩИМ ПОКРЫТИЕМ, СОДЕРЖАЩИМ ЭЛЕКТРОПРОВОДЯЩУЮ ПЛЕНКУ НА ОСНОВЕ ОКСИДА ОЛОВА, И СПОСОБ ЕГО ИЗГОТОВЛЕНИЯ
    26.
    发明专利
    ОПТИЧЕСКИЙ ЭЛЕМЕНТ С АНТИБЛИКОВЫМ ИЛИ ОТРАЖАЮЩИМ ПОКРЫТИЕМ, СОДЕРЖАЩИМ ЭЛЕКТРОПРОВОДЯЩУЮ ПЛЕНКУ НА ОСНОВЕ ОКСИДА ОЛОВА, И СПОСОБ ЕГО ИЗГОТОВЛЕНИЯ 未知

    公开(公告)号：EA022784B1

    公开(公告)日：2016-03-31

    申请号：EA201101392

    申请日：2010-03-26

    Applicant: ESSILOR INT (COMPAGNIE GENERALE D'OPTIQUE)

    Inventor： CONTE DOMINIQUE ,  PASSARD DELPHINE ,  SCHERER KARIN ,  SIRJEAN JEAN-LOUIS

    IPC: G02B1/10 ,  G02B1/11

    Abstract: Объектомизобретенияявляетсяоптическийэлементс антистатическимии антибликовымиилиотражающимисвойствами, содержащийподложку, имеющуюпоменьшеймереоднуглавнуюповерхность, покрытуюантибликовымилиотражающимпокрытием, приэтомуказанноепокрытиесодержитпоменьшеймереодинэлектропроводящийслой, содержащийпоменьшеймере 30 мас.%, предпочтительнопоменьшеймере 40 мас.% иещепредпочтительнеепоменьшеймере 50 мас.% оксидаолова (SnO) поотношениюк общеймассеэлектропроводящегослоя, приэтомуказанныйэлектропроводящийслойнанесенионнымнапылениеми указаннаяподложкаимееткоэффициентпоглощениявлаги, превышающийилиравный 0,6 мас.% поотношениюк общеймассеуказаннойподложки, приэтомкоэффициентпоглощениявлагиизмеренпослепредварительнойсушкиуказаннойподложкис последующейвыдержкойэтойподложкив течение 800 чв закрытойкамерепри 50°С, приотносительнойвлажности 100% иприатмосферномдавлении.

    ARTICLE REVETU D'UN REVETEMENT INTERFERENTIEL AYANT DES PROPRIETES STABLES DANS LE TEMPS
    28.
    发明专利
    ARTICLE REVETU D'UN REVETEMENT INTERFERENTIEL AYANT DES PROPRIETES STABLES DANS LE TEMPS 未知

    公开(公告)号：CA2862139A1

    公开(公告)日：2013-07-04

    申请号：CA2862139

    申请日：2012-12-27

    Applicant: ECOLE POLYTECH ,  ESSILOR INT

    Inventor： MARTINU LUDVIK ,  SAPIEHA JOLANTA ,  ZABEIDA OLEG ,  CHIAROTTO SEBASTIEN ,  SCHERER KARIN

    IPC: G02B1/11 ,  G02B1/10

    Abstract: L'invention concerne un article comprenant un substrat ayant au moins une surface principale revêtue d'un revêtement interférentiel multicouche, ledit revêtement comprenant une couche A ayant un indice de réfraction inférieur ou égal à 1,55, caractérisé en ce que : - ladite couche A constitue : o soit la couche externe du revêtement interférentiel, o soit une couche intermédiaire, directement en contact avec la couche externe du revêtement interférentiel, cette couche externe du revêtement interférentiel étant une couche B ayant un indice de réfraction inférieur ou égal à 1,55, - et ladite couche A a été obtenue par dépôt, sous faisceau d'ions, d'espèces activées issues d'au moins un composé C, sous forme gazeuse contenant dans sa structure au moins un atome de silicium, au moins un atome de carbone, au moins un atome d'hydrogène et, optionnellement au moins un atome d'azote et/ou au moins un atome d'oxygène, le dépôt de la dite couche A s'effectuant en présence d'azote et/ou d'oxygène lorsque le composé A ne contient pas d'azote et/ou d'oxygène et - ladite couche A n'est pas formée à partir de composés précurseurs inorganiques.

Patent Agency Ranking