公开(公告)号：DE112010005304T5

公开(公告)日：2012-12-20

申请号：DE112010005304

申请日：2010-10-22

Applicant: IBM

Inventor： BURNS SEAN D ,  MEDEIROS DAVID R ,  PFEIFFER DIRK

IPC: G03F7/00

Abstract: Eine reflexionsmindernde Hartmaskenzusammensetzungsschicht mit einem Polymer, das in seinem Rückgrat Si-O- und siliciumfreie anorganische Einheiten aufweist. Das Polymer enthält chromophore und transparente Molekülteile und eine Vernetzungskomponente. Die reflexionsmindernde Hartmaskenzusammensetzungsschicht wird in einem Verfahren zur Bildung eines strukturierten Materials auf einem Substrat verwendet.

公开(公告)号：GB2489645A

公开(公告)日：2012-10-03

申请号：GB201213664

申请日：2010-10-22

Applicant: IBM

Inventor： BURNS SEAN ,  MEDEIROS DAVID ,  PFEIFFER DIRK

IPC: G03F7/00 ,  C08G77/00

Abstract: An antireflective hardmask composition layer including a polymer having Si-O and non- silicon inorganic units in its backbone. The polymer includes chromophore and transparent moieties and a crosslinking component. The antireflective hardmask composition layer is employed in a method of forming a patterned material on a substrate.