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    Quellkollektormodul mit GIC-Spiegel und Zinn-Stab-EUV-LPP-Target-System
    21.
    发明专利
    Quellkollektormodul mit GIC-Spiegel und Zinn-Stab-EUV-LPP-Target-System 未知

    公开(公告)号：DE102011111260A1

    公开(公告)日：2012-03-01

    申请号：DE102011111260

    申请日：2011-08-22

    Applicant: MEDIA LARIO SRL

    Inventor： LEVESQUE RICHARD ,  CEGLIO NATALE M ,  ZOCCHI FABIO ,  NOCERINO GIOVANNI

    IPC: H05G2/00 ,  G02B5/09 ,  G02B5/10 ,  G03F7/20

    Abstract: Ein Quellkollektormodul (SOCOMO) zum Erzeugen eines lasererzeugten Plasmas (LPP), das EUV-Strahlung emittiert, sowie einen Kollektorspiegel mit streifendem Einfall (grazing-incidence collector (GIC) mirror), angeordnet relativ zum LPP und mit einem Eintrittsende und einem Austrittsende. Das LPP ist unter Verwendung eines LPP-Target-Systems mit einem Lichtquellen-Abschnitt und einem Target-Abschnitt gebildet, wobei ein gepulster Laserstrahl aus dem Laserquellen-Abschnitt einen sich drehenden Sn-Stab in einem Target-Abschnitt bestrahlt, um die EUV-Strahlung zu erzeugen. Der GIC-Spiegel ist relativ zum LPP angeordnet, um die EUV-Strahlung an seinem Eintrittsende aufzunehmen und die aufgenommene EUV-Strahlung am Zwischenfokus, angrenzend an das Austrittsende, zu fokussieren. Eine Strahlungskollektor-Verstärkungsvorrichtung mit mindestens einem Trichterelement kann verwendet werden, um die Menge an EUV-Strahlung zu erhöhen, die dem Zwischenfokus zur Verfügung gestellt wird und/oder an ein stromabwärts gelegenes Beleuchtungsgerät zu lenken bzw. zu richten. Ein EUV-Lithographie-System, das das SOCOMO verwendet, wird ebenfalls offenbart.

    Kollektorsystem zum Sammeln und Lenken von EUV-Strahlung sowie Verfahren zum Sammeln von EUV-Strahlung
    23.
    发明专利
    Kollektorsystem zum Sammeln und Lenken von EUV-Strahlung sowie Verfahren zum Sammeln von EUV-Strahlung 未知

    公开(公告)号：DE102011015266B4

    公开(公告)日：2019-05-29

    申请号：DE102011015266

    申请日：2011-03-28

    Applicant: MEDIA LARIO SRL

    Inventor： CEGLIO NATALE M ,  VASUDEVAN GOPAL

    IPC: G02B5/10 ,  G02B5/00 ,  G02B5/09 ,  G02B27/09 ,  G03F7/20 ,  G21K1/06

    Abstract: Kollektorsystem (150) zum Sammeln und Lenken von Extrem-Ultraviolett(EUV)-Strahlung aus einer EUV-Strahlungsquelle (RS) durch eine Blende (22, 24), umfassend:- einen Kollektorspiegel (310), aufgebaut, um die EUV-Strahlung (12) zu sammeln und in Richtung der Blende (22, 24)zu lenken; und- eine Strahlungssammlungsverstärkungsvorrichtung (100), angeordnet bei oder angrenzend an die Blende (22, 24) und aufgebaut, um einen Teil (12L) der EUV-Strahlung zu sammeln, der ansonsten nicht durch die Blende (22, 24) treten würde, und um diesen Teil der EUV-Strahlung durch die Blende (22, 24) umzulenken, wobei der Kollektorspiegel (310) mindestens einen von einem Spiegel mit streifendem Einfall (180) und einen Spiegel mit normalem Einfall (MN) umfasst und der Kollektorspiegel (310) aufgebaut ist, um das Licht zu einem Zwischenfokus (IF) zu lenken, der bei der Blende (22, 24) oder angrenzend an die Blende (22, 24) auf einer Seite entgegengesetzt zum Kollektorspiegel (310) angeordnet ist,dadurch gekennzeichnet, dassdie Strahlungssammlungsverstärkungsvorrichtung (100) wenigstens eine innere Fläche (120) in streifendem Einfall in Form von Spiegelschalen (103-1, 103-2) umfasst.

    SOURCE-COLLECTOR MODULE WITH GIC MIRROR AND TIN ROD EUV LPP TARGET SYSTEM.
    26.
    发明专利
    SOURCE-COLLECTOR MODULE WITH GIC MIRROR AND TIN ROD EUV LPP TARGET SYSTEM. 未知

    公开(公告)号：NL2007241C2

    公开(公告)日：2013-11-06

    申请号：NL2007241

    申请日：2011-08-09

    Applicant: MEDIA LARIO SRL

    Inventor： LEVESQUE RICHARD A ,  CEGLIO NATALE M ,  ZOCCHI FABIO ,  NOCERINO GIOVANNI

    IPC: G02B19/00 ,  G03F7/20 ,  G21K1/06 ,  H05G2/00

    Abstract: A source-collector module (SOCOMO) for generating a laser-produced plasma (LPP) that emits EUV radiation, and a grazing-incidence collector (GIC) mirror arranged relative to the LPP and having an input end and an output end. The LPP is formed using an LPP target system having a light source portion and a target portion, wherein a pulsed laser beam from the light source portion irradiates a rotating Sn rod in the target portion to generate the EUV radiation. The GIC mirror is arranged relative to the LPP to receive the EUV radiation at its input end and focus the received EUV radiation at an intermediate focus adjacent the output end. A radiation collection enhancement device having at least one funnel element may be used to increase the amount of EUV radiation provided to the intermediate focus and/or directed to a downstream illuminator. An EUV lithography system that utilizes the SOCOMO is also disclosed.

    QUELLKOLLEKTORMODUL MIT GIC-SPIEGEL UND XENON-EIS-EUV-LPP-TARGET-SYSTEM
    29.
    发明专利
    QUELLKOLLEKTORMODUL MIT GIC-SPIEGEL UND XENON-EIS-EUV-LPP-TARGET-SYSTEM 未知

    公开(公告)号：DE102011111462A1

    公开(公告)日：2012-03-01

    申请号：DE102011111462

    申请日：2011-08-23

    Applicant: MEDIA LARIO SRL

    Inventor： LEVESQUE RICHARD ,  CEGLIO NATALE M ,  ZOCCHI FABIO ,  NOCERINO GIOVANNI

    IPC: H05G2/00 ,  G02B5/09 ,  G03F7/20

    Abstract: Ein Quellkollektormodul (SOCOMO) zum Erzeugen eines lasererzeugten Plasmas (LPP), das die EUV-Strahlung emittiert, sowie einen Kollektorspiegel mit streifendem Einfall (grazing-incidence collector (GIC) mirror), angeordnet relativ zum LPP und mit einem Eintrittsende und einem Austrittsende. Das LPP wird unter Verwendung eines LPP-Target-Systems mit einem Lichtquellen-Abschnitt und einem Target-Abschnitt gebildet, wobei ein gepulster Laserstrahl vom Lichtquellen-Abschnitt Xenon-Eis bestrahlt, bereitgestellt durch den Target-Abschnitt bei einer Belichtungsposition. Der GIC-Spiegel ist relativ zum LPP angeordnet, um die EUV-Strahlung an seinem Eintrittsende aufzunehmen und die aufgenommene EUV-Strahlung am Zwischenfokus, angrenzend an das Austrittsende, zu fokussieren. Eine Strahlungskollektor-Verstärkungsvorrichtung mit mindestens einem Trichterelement kann verwendet werden, um den Anteil an EUV-Strahlung, bereitgestellt für den Zwischenfokus, zu erhöhen und/oder zu einem stromabwärtigen Beleuchtungsgerät zu richten bzw. zu lenken. Ein EUV-Lithographiesystem, das das SOCOMO verwendet, ist ebenfalls offenbart.

    SOURCE-COLLECTOR MODULE WITH GIC MIRROR AND TIN VAPOR LPP TARGET SYSTEM.
    30.
    发明专利
    SOURCE-COLLECTOR MODULE WITH GIC MIRROR AND TIN VAPOR LPP TARGET SYSTEM. 未知

    公开(公告)号：NL2006994A

    公开(公告)日：2011-12-29

    申请号：NL2006994

    申请日：2011-06-24

    Applicant: MEDIA LARIO SRL

    Inventor： LEVESQUE RICHARD ,  CEGLIO NATALE M ,  NOCERINO GIOVANNI ,  ZOCCHI FABIO

    IPC: G03F7/20 ,  H05G2/00

    Abstract: A source-collector module (SOCOMO) for generating a laser-produced plasma (LPP) that emits EUV radiation, and a grazing-incidence collector (GIC) mirror arranged relative to the LPP and having an input end and an output end. The LPP is formed using an LPP target system having a light source portion and a target portion, wherein a pulsed laser beam from the light source portion irradiates Sn vapor from a Sn vapor source of the target portion. The GIC mirror is arranged relative to the LPP to receive the EUV radiation at its input end and focus the received EUV radiation at an intermediate focus adjacent the output end. A radiation collection enhancement device may be used to increase the amount of EUV radiation provided to the intermediate focus. An EUV lithography system that utilizes the SOCOMO is also disclosed.

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