公开(公告)号：US08136212B2

公开(公告)日：2012-03-20

申请号：US12061512

申请日：2008-04-02

Applicant: Yoshitaka Zaitsu ,  Chienliu Chang ,  Masao Majima

Inventor： Yoshitaka Zaitsu ,  Chienliu Chang ,  Masao Majima

IPC: H04R17/00

CPC classification number: G02B26/0841 ,  B81C1/00634 ,  B81C2201/0101 ,  Y10T29/42 ,  Y10T29/49005 ,  Y10T29/49124 ,  Y10T29/49165 ,  Y10T29/49609

Abstract: A structure fabricating method plastically deforms a target portion of a substrate, to thereby fabricate a structure having an inclined segment that is inclined relative to a principal surface of the substrate. The method includes forming a projection on the target portion to project from the principal surface of the substrate or from an opposing surface of the substrate on the side opposite to the principal surface, and applying a force to the projection to plastically deform the target portion such that the target portion is bent in a direction from one surface of the substrate on the side where the projection is formed, toward another surface on the side opposite to the one surface.

Abstract translation: 结构制造方法使基板的目标部分塑性变形，从而制造具有相对于基板的主表面倾斜的倾斜段的结构。 所述方法包括在所述目标部分上形成突出部，从所述基板的主表面或与所述基板的与所述主表面相反的一侧的相对表面突出，并且向所述突起施加力以使所述目标部分塑性变形 目标部分沿着从形成有突起的一侧的基板的一个表面朝向与该一个表面相对的一侧的另一表面的方向弯曲。

公开(公告)号：WO2016087551A1

公开(公告)日：2016-06-09

申请号：PCT/EP2015/078427

申请日：2015-12-02

Applicant: UNIVERSITÉ DU MAINE ,  CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE CNRS

Inventor： BARDEAU, Jean-François ,  DELORME, Nicolas ,  EDELY, Mathieu

IPC: B81C99/00

CPC classification number: B81C99/0085 ,  B81C2201/0101 ,  B81C2201/0102

Abstract: L'invention concerne un procédé de fabrication d'un motif métallique nanostructuré sur un support, le procédé comportant les étapes suivantes : - dépôt d'une couche de polymère (2) à la surface d'un substrat (101); - formation par indentation (5) d'un motif initial dans la couche de polymère (2) de façon à former une couche de polymère nanostructurée; - dépôt d'une couche métallique (6) sur la couche de polymère nanostructurée; - dépôt d'une couche de colle (8) sur la couche métallique; - application d'un support (9) sur la couche de colle; - séparation du support solidarisé à la couche métallique et de la couche de polymère.

Abstract translation: 本发明涉及一种在载体上制备纳米结构金属图案的方法，该方法包括以下步骤：在基底（101）的表面上沉积聚合物层（2）; 通过压痕（5）形成聚合物层（2）中的初始图案，以形成纳米结构聚合物层; 在纳米结构聚合物层上沉积金属层（6）; 在金属层上沉积一层粘合剂（8）; 将载体（9）放置在粘合剂层上; 并分离固定在金属层上的聚合物层和载体。

公开(公告)号：WO2008152927A1

公开(公告)日：2008-12-18

申请号：PCT/JP2008/060017

申请日：2008-05-30

Applicant: 国立大学法人東京大学 ,  下山 勲 ,  松本 潔 ,  岩瀬 英治 ,  グェン ビン キエム

Inventor： 下山 勲 ,  松本 潔 ,  岩瀬 英治 ,  グェン ビン キエム

IPC: G02B26/08 ,  B81B3/00

CPC classification number: G02B3/14 ,  B81B2201/045 ,  B81C1/00158 ,  B81C2201/0101

Abstract: 簡易な構成で小型化、薄型化を図ることができ、かつ生産性を向上させながら信頼性の高いディスプレイ用マイクロデバイスを提供することを目的とする。 高真空の中でも蒸発量が少ないシリコンオイルによって液体膨出部12を形成したことで、高真空ＣＶＤ法を用いて、液体状の液体膨出部12の液表面に保護膜13を積層形成できるようにした。かくして簡易な構成で小型化、薄型化を図ることができ、また従来のようにを貼着する煩雑な組立工程を省くことができるので、その分生産性を向上させることができる。さらに、保護膜13を用いていることから、衝撃や重力などによって液体膨出部12が変形してしまうことを防止でき、一段と信頼性の高いディスプレイ用マイクロデバイス１を提供できる。

Abstract translation: 用于展示的高度可靠的微型装置，其中通过简单的布置可以实现尺寸和厚度的减小，同时提高生产率。 由于液体膨胀部分（12）即使在高真空下也由少量蒸发的硅油形成，所以可以在液体膨胀部分（12）的液体表面上形成保护膜（13），液体状态高 真空CVD。 因此，可以通过简单的布置来实现尺寸和厚度的减小，并且由于可以消除用于粘贴保护膜的麻烦的组装过程，因此可以相应地提高生产率。 此外，由于采用了保护膜（13），所以可以防止液体膨胀部分（12）由于冲击或重力而变形，从而形成更可靠的用于显示的微型装置（1）。

公开(公告)号：JP5121283B2

公开(公告)日：2013-01-16

申请号：JP2007098294

申请日：2007-04-04

Applicant: キヤノン株式会社

Inventor： 義貴 財津 ,  建六 張 ,  正男 真島

IPC: B81C99/00 ,  G02B26/08

CPC classification number: G02B26/0841 ,  B81C1/00634 ,  B81C2201/0101 ,  Y10T29/42 ,  Y10T29/49005 ,  Y10T29/49124 ,  Y10T29/49165 ,  Y10T29/49609

公开(公告)号：JP2008254110A

公开(公告)日：2008-10-23

申请号：JP2007098294

申请日：2007-04-04

Applicant: Canon Inc ,  キヤノン株式会社

Inventor： ZAITSU YOSHITAKA ,  CHO KENROKU ,  MAJIMA MASAO

IPC: B81C99/00 ,  G02B26/08

CPC classification number: G02B26/0841 ,  B81C1/00634 ,  B81C2201/0101 ,  Y10T29/42 ,  Y10T29/49005 ,  Y10T29/49124 ,  Y10T29/49165 ,  Y10T29/49609

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a manufacturing method capable of accurately making a required angle, when an angle of a structure portion is formed during manufacturing of a structure having the structure portion with an antiplane angle. SOLUTION: In a first step for producing the structure 001 making an angle between the structure portion 003 and surfaces A1, A2 in parallel with a main surface of a substrate, a machined portion 003 plastically deforming the structure 003 is provided with a projecting portion 004 projecting in a direction intersecting to the surface in parallel with the main surface of the substrate. In a second step, force is added to the projecting portion of the structure portion by a mold, thereby plastically deforming the machined portion 003 and making the angle to the main surfaces A1, A2 of the substrate. COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Abstract translation: 要解决的问题：提供一种能够精确地制造所需角度的制造方法，当在具有反平面角的结构部分的结构的制造期间形成结构部分的角度时。 解决方案：在结构部分003与表面A1，A2之间形成与基板的主表面平行的角度的结构001的第一步骤中，对结构003塑性变形的加工部分003设置有 突出部分004在与基板的主表面平行的方向上与该表面相交的方向突出。 在第二步骤中，通过模具将力附加到结构部分的突出部分，从而使加工部分003塑性变形并且与基板的主表面A1，A2形成角度。 版权所有（C）2009，JPO＆INPIT

公开(公告)号：JP5092563B2

公开(公告)日：2012-12-05

申请号：JP2007158685

申请日：2007-06-15

Applicant: 国立大学法人 東京大学

Inventor： 下山　　勲 ,  松本　　潔 ,  英治 岩瀬 ,  ビン キエム グェン

IPC: G02B26/08 ,  B81B3/00

CPC classification number: G02B3/14 ,  B81B2201/045 ,  B81C1/00158 ,  B81C2201/0101

公开(公告)号：JP2008310126A

公开(公告)日：2008-12-25

申请号：JP2007158685

申请日：2007-06-15

Applicant: Univ Of Tokyo ,  国立大学法人 東京大学

Inventor： SHIMOYAMA ISAO ,  MATSUMOTO KIYOSHI ,  IWASE EIJI ,  NGUYEN BINH-KHIEM

IPC: G02B26/08 ,  B81B3/00

CPC classification number: G02B3/14 ,  B81B2201/045 ,  B81C1/00158 ,  B81C2201/0101

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a reliable microdevice for a display by making it with a simple configuration in a compact and thin form while improving productivity.
SOLUTION: A protection film 13 is laminated on the surface of the liquidized surface of a liquid bulging part 12 by forming the liquid bulging part 12 of silicon oil which hardly evaporates even in high vacuum by using a high vacuum CVD method. Thus, the microdevice is made with a simple configuration in a compact and thin form and the productivity is improved all the more because a conventional complicated assembly step of bonding is eliminated. Further, the deformation of the liquid bulging part 12 due to a shock or gravity is prevented because the protection film 13 is used, and more reliable microdevice 1 for display is provided.
COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Abstract translation: 要解决的问题：为了提供可靠的显示器微型设备，通过以简单的结构以紧凑而薄的形式提供显示器，同时提高生产率。 解决方案：通过使用高真空CVD法，即使在高真空中也几乎不蒸发的硅油的液体膨胀部分12形成，在液体膨胀部分12的液化表面的表面上层压保护膜13。 因此，微型器件以紧凑且薄的形式由简单的结构制成，并且生产率得到改善，因为消除了常规复杂的组装步骤。 此外，由于使用保护膜13，因此防止由于冲击或重力引起的液体膨胀部分12的变形，并且提供了更可靠的用于显示的微型装置1。 版权所有（C）2009，JPO＆INPIT

公开(公告)号：KR1020020039523A

公开(公告)日：2002-05-27

申请号：KR1020000069383

申请日：2000-11-21

Applicant: 조수제

Inventor： 조수제

IPC: B81C1/00

CPC classification number: B81C1/00198 ,  B81C1/00349 ,  B81C1/00436 ,  B81C1/00841 ,  B81C2201/0101

Abstract: PURPOSE: A photosensitive glass processing method is provided to obtain a high precision fine structure by crystallizing the portion which is not exposed to an ultraviolet light and selectively etching the crystallized portion. CONSTITUTION: A photosensitive glass processing method comprises a first step of selectively radiating an ultraviolet light(9) generated from a light source to a photosensitive glass(8); a second step of crystallizing a portion(11) which is not exposed to the ultraviolet light by performing a heat treatment to the portion; and a third step of obtaining a fine structure(14) by selectively removing the crystallized portion through an etching process(13) by dipping the resultant structure into a hydrogen fluoride(HF) solution.

Abstract translation: 目的：提供一种感光玻璃加工方法，通过使不暴露于紫外光的部分结晶并选择性地蚀刻结晶部分来获得高精度的精细结构。 构成：感光玻璃处理方法包括：将从光源产生的紫外光（9）选择性地辐射到感光玻璃（8）的第一步骤; 第二步骤，通过对所述部分进行热处理来结晶未暴露于紫外光的部分（11）; 以及通过将所得结构浸入氟化氢（HF）溶液中，通过蚀刻工艺（13）选择性地除去结晶部分来获得精细结构（14）的第三步骤。

公开(公告)号：KR1020010049190A

公开(公告)日：2001-06-15

申请号：KR1020000000270

申请日：2000-01-05

Applicant: (주) 인텔리마이크론즈 ,  재단법인서울대학교산학협력재단

Inventor： 김용권 ,  김재흥

IPC: B81C1/00

CPC classification number: B81C1/00015 ,  B81B3/0021 ,  B81B2201/03 ,  B81C2201/0101

Abstract: PURPOSE: A microactuator and a method for manufacturing the same are provided to manufacture the microactuator in a simple manner and maintain linearity in even case of moving in two-dimension. CONSTITUTION: A method for manufacturing a microactuator includes the steps of anodic-bonding a silicon substrate and a glass substrate by heating, thinning the exposed surface of the silicon substrate by lapping and polishing, applying a photosensitive film to the exposed surface of the silicon substrate and radiating light to the photosensitive film, developing the photosensitive film, etching the silicon substrate by using RIE(Reactive ion etching) for forming positioning controllers, removing polymer and the photosensitive film for completing positioning controller pattern, and wet-etching the glass substrate by making the positioning controllers as a mask and using HF solution.

Abstract translation: 目的：提供微致动器及其制造方法，以简单的方式制造微致动器，并且即使在二维移动的情况下也保持线性。 构成：微致动器的制造方法包括以下步骤：通过加热使硅衬底和玻璃衬底进行阳极结合，通过研磨和抛光来稀释硅衬底的暴露表面，将光敏膜施加到硅衬底的暴露表面 并且将光照射到感光膜上，使感光膜显影，利用用于形成定位控制器的RIE（反应离子蚀刻），去除聚合物和感光膜来完成定位控制器图案，并通过以下步骤湿法蚀刻玻璃衬底，来蚀刻硅衬底 使定位控制器作为掩模，并使用HF解决方案。