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    Germanium silicon oxynitride high index films for planar waveguides
    21.
    发明申请
    Germanium silicon oxynitride high index films for planar waveguides 有权
    锗硅氮氧化物用于平面波导的高折射率膜

    公开(公告)号：US20020106174A1

    公开(公告)日：2002-08-08

    申请号：US10068968

    申请日：2002-02-07

    Inventor： Ikerionwu Asiegbu Akwani ,  Robert Alan Bellman ,  Thomas Paul Grandi ,  Paul Arthur Sachenik

    IPC: G02B006/10

    CPC classification number: C01B21/0821 ,  C01P2006/32 ,  C01P2006/60 ,  C03B19/1453 ,  C03B32/00 ,  C03B2201/24 ,  C03B2201/31 ,  C03C3/045 ,  C03C3/111 ,  C03C2201/24 ,  C03C2201/31 ,  Y10T428/265

    Abstract: A composition represented by the formula Si1nullxGexO2(1nully)N1.33y, wherein x is from about 0.05 to about 0.6 and y is from about 0.14 to about 0.74 exhibits properties highly suited for use in fabricating waveguides for liquid crystal based optical devices. In particular, the compositions have an index of refraction of from about 1.6 to about 1.8 for light at a wavelength of 1550 nm, and/or a coefficient of thermal expansion of from about 2.5null10null6null C.null1 to about 5.0null10null6null C. null1. The compositions also have inherently low hydrogen content, and a high hydrogen permeability which allows better hydrogen removal by thermal annealing to provide a material which exhibits low optical losses and better etching properties than alternative materials.

    Abstract translation: 由式Si1-xGexO2（1-y）N1.33y表示的组合物，其中x为约0.05至约0.6，y为约0.14至约0.74，表现出非常适合用于制造液晶基光学波导的性能 设备。 特别地，组合物对于波长1550nm的光具有约1.6至约1.8的折射率，和/或约2.5×10-6℃-1至约5.0×10 10的热膨胀系数 -6℃-1。 组合物还具有固有的低氢含量和高的氢渗透性，其允许通过热退火更好的氢去除以提供与替代材料相比表现出低的光损耗和更好的蚀刻性能的材料。

    Germanium silicon oxynitride high index films for planar waveguides
    22.
    发明授权
    Germanium silicon oxynitride high index films for planar waveguides 有权
    锗硅氮氧化物用于平面波导的高折射率膜

    公开(公告)号：US06408125B1

    公开(公告)日：2002-06-18

    申请号：US09437677

    申请日：1999-11-10

    Applicant: Ikerionwu Asiegbu Akwani ,  Robert Alan Bellman ,  Thomas Paul Grandi ,  Paul Arthur Sachenik

    Inventor： Ikerionwu Asiegbu Akwani ,  Robert Alan Bellman ,  Thomas Paul Grandi ,  Paul Arthur Sachenik

    IPC: G02B600

    CPC classification number: C01B21/0821 ,  C01P2006/32 ,  C01P2006/60 ,  C03B19/1453 ,  C03B32/00 ,  C03B2201/24 ,  C03B2201/31 ,  C03C3/045 ,  C03C3/111 ,  C03C2201/24 ,  C03C2201/31 ,  Y10T428/265

    Abstract: A composition represented by the formula Si1−xGexO2(1−y)N1.33y, wherein x is from about 0.05 to about 0.6 and y is from about 0.14 to about 0.74 exhibits properties highly suited for use in fabricating waveguides for liquid crystal based optical devices. In particular, the compositions have an index of refraction of from about 1.6 to about 1.8 for light at a wavelength of 1550 nm, and/or a coefficient of thermal expansion of from about 2.5×10−6° C.−1 to about 5.0×10−6° C.−1. The compositions also have inherently low hydrogen content, and a high hydrogen permeability which allows better hydrogen removal by thermal annealing to provide a material which exhibits low optical losses and better etching properties than alternative materials.

    Abstract translation: 由式Si1-xGexO2（1-y）N1.33y表示的组合物，其中x为约0.05至约0.6，y为约0.14至约0.74，表现出非常适合用于制造液晶基光学波导的性能 设备。 特别地，组合物对于波长1550nm的光具有约1.6至约1.8的折射率，和/或约2.5×10-6℃-1至约5.0×10 10的热膨胀系数 -6℃-1。 组合物还具有固有的低氢含量和高的氢渗透性，其允许通过热退火更好的氢去除以提供与替代材料相比表现出低的光损耗和更好的蚀刻性能的材料。

    合成石英ガラスの製造方法及び合成石英ガラス体
    24.
    发明申请
    合成石英ガラスの製造方法及び合成石英ガラス体 审中-公开
    合成石英玻璃和合成石英玻璃制品的生产方法

    公开(公告)号：WO2004050570A1

    公开(公告)日：2004-06-17

    申请号：PCT/JP2003/015272

    申请日：2003-11-28

    Applicant: 信越石英株式会社 ,  佐藤 龍弘 ,  垣内 孝宏 ,  藤ノ木 朗 ,  加藤 俊幸 ,  瀬川 徹 ,  吉田 宜正

    Inventor： 佐藤 龍弘 ,  垣内 孝宏 ,  藤ノ木 朗 ,  加藤 俊幸 ,  瀬川 徹 ,  吉田 宜正

    IPC: C03B20/00

    CPC classification number: C03C3/06 ,  C03B19/1453 ,  C03B2201/03 ,  C03B2201/04 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/20 ,  C03B2201/24 ,  C03C2201/02 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/24 ,  C03C2201/26

    Abstract: 第一に、不純物が少なく且つ天然石英ガラスと同等以上の高温粘度特性を有し、高温環境下にあっても変形し難い合成石英ガラスの製造方法、特に発泡が無く緻密な高耐熱性合成石英ガラスの製造方法を提供する。第二に、本発明の製造方法により容易に得られる高耐熱性合成石英ガラス体、特に、発泡が無く緻密、赤外線吸収率及び放出率が高い、またアルカリ金属拡散防止効果が極めて高い透明又は黒色石英ガラス体を提供する。　２４５ｎｍの吸収係数が０．０５ｃｍ −１ 以上である高耐熱性石英ガラス体を製造する方法であって、シリカ多孔質体を、還元処理した後、焼成して緻密なガラス体とするようにした。

    Abstract translation: 一种制造在245nm以上的吸收系数为0.05cm -1以上的合成石英玻璃的制造方法，其特征在于，对多孔二氧化硅材料进行还原处理，然后烧成所得产物，从而形成致密的玻璃 文章; 和具有降低的杂质含量的透明或黑色合成石英玻璃，显示与天然石英玻璃相同或优于其的高温粘度特性即使在高温气氛中也不易变形，显示出高的 对于红外线的吸光度和高发射率，并且对于防止碱金属的扩散，特别是不含气泡的致密且高耐热的合成石英玻璃的扩散具有极高的效果。 该方法容易地生产上述合成石英玻璃。

    OPTISCHES BAUTEIL AUS QUARZGLAS ZUR VERWENDUNG IN DER ArF-EXCIMERLASER-LITHOGRAPHIE SOWIE VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG DES BAUTEILS
    26.
    发明申请
    OPTISCHES BAUTEIL AUS QUARZGLAS ZUR VERWENDUNG IN DER ArF-EXCIMERLASER-LITHOGRAPHIE SOWIE VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG DES BAUTEILS 审中-公开
    光学部件QUARZGLAS FOR USE IN ArF准分子激光光刻法和制造方法COMPONENT

    公开(公告)号：WO2014128148A2

    公开(公告)日：2014-08-28

    申请号：PCT/EP2014/053199

    申请日：2014-02-19

    Applicant: HERAEUS QUARZGLAS GMBH & CO. KG ,  SHIN-ETSU QUARTZ PRODUCTS CO., LTD.

    Inventor： KUEHN, Bodo

    CPC classification number: C03C3/06 ,  C03B19/1453 ,  C03B32/00 ,  C03B32/02 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/21 ,  C03B2201/23 ,  C03B2201/24 ,  C03C4/04 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/24 ,  C03C2203/54 ,  C03C2204/00 ,  G02B1/00 ,  G02B1/02 ,  Y02P40/57

    Abstract: Die Erfindung geht von einem optischen Bauteil aus synthetischem Quarzglas zur Verwendung in der ArF-Excimerlaser-Lithographie mit einer Einsatzwellenlänge von 193 nm aus, mit einer Glasstruktur im Wesentlichen ohne Sauerstoffdefektstellen, einem Wasserstoffgehalt im Bereich von 0,1 x 10 16 Molekülen/cm 3 bis 1,0 x 10 18 Molekülen/cm 3 und einem Gehalt an SiH-Gruppen von weniger als 2 x 10 17 Molekülen/cm 3 und mit einem Gehalt an Hydroxylgruppen im Bereich zwischen 0,1 und 100 Gew.-ppm, wobei die Glasstruktur eine fiktive Temperatur von weniger 1070 °C aufweist. Um ausgehend von einer Messung des Kompaktierungsverhaltens bei einer Messwellenlänge von 633 nm eine verlässliche Prädiktion zum Kompaktierungsverhalten beim Einsatz mit UV-Laserstrahlung der Einsatzwellenlänge ermöglicht, wird eine Ausgestaltung des optischen Bauteil vorgeschlagen, bei der es auf Bestrahlung mit Strahlung einer Wellenlänge von 193 nm mit 5x10 9 Pulsen mit einer Pulsbreite von 125 ns und einer Energiedichte von jeweils 500µJ/cm 2 sowie einer Pulswiederholfrequenz von 2000 Hz mit einer laserinduzierten Brechzahländerung reagiert, deren Betrag bei Vermessung mit der Einsatzwellenlänge von 193 nm einen ersten Messwert M 193nm und bei Vermessung mit einer Messwellenlänge von 633 nm einen zweiten Messwert M 633nm ergibt, wobei gilt: M 193nm /M 633nm

    Abstract translation:

    本发明涉及一种用于在ArF准分子激光光刻法使用与Einsatzwellenl＆AUML光学合成石英玻璃构件; 193纳米的长度，具有玻璃结构基本没有氧缺陷，在的范围内的氢含量 0.1×10 16 分子导航用途LEN /厘米 3 至1.0×10 18 分子导航用途LEN /厘米 3 < / SUP>和小于2×10 17 分子导航用途的SiH基团的含量LEN /厘米 3 和与羟基基团的0.1°范围内的内容和 100重量ppm，玻璃结构的概念温度低于1070℃ 为了从Kompaktierungsverhaltens的测量在一个Messwellenl＆AUML开始; 633nm的长度的VERL＆AUML; ssliche镨＆AUML;用语与Einsatzwellenl BEAR长度ERM＆ouml的紫外激光辐射使用时压实行为; glicht，该光学装置的结构，提出了，这是对 照射具有波长＆AUML辐射;焦耳/厘米 2 ，和脉冲重复的2000频率; 193nm下用5×10 9 脉冲与125毫微秒的脉冲宽度和500微的能量密度的长度 用激光诱导的折射率＆AUML赫兹反应的变化，与所述Einsatzwellenl＆AUML测量时的量; 193nm的第一测量值M长度<子> 193nm的和测量与Messwellenl＆AUML; 633nm的第二测量值M长度<子 > 633nm，其中：M193nm / M633nm

    METHOD FOR THE PRODUCTION OF OPAQUE QUARTZ GLASS, SIO2 GRANULATE SUITABLE FOR USE IN PERFORMING THE METHOD AND A COMPONENT MADE OF OPAQUE QUARTZ GLASS
    29.
    发明申请
    METHOD FOR THE PRODUCTION OF OPAQUE QUARTZ GLASS, SIO2 GRANULATE SUITABLE FOR USE IN PERFORMING THE METHOD AND A COMPONENT MADE OF OPAQUE QUARTZ GLASS 审中-公开
    用于生产不透明石英玻璃，具体实施不透明石英玻璃的方法中的SiO 2 SUITABLE颗粒状COMPONENT

    公开(公告)号：WO01046079A1

    公开(公告)日：2001-06-28

    申请号：PCT/EP2000/012687

    申请日：2000-12-14

    IPC: C03B20/00 ,  C01B33/12 ,  C03B19/00 ,  C03B19/09 ,  C03B19/10 ,  C03C1/02 ,  C03C3/06

    CPC classification number: C03C1/026 ,  C03B19/1065 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/02 ,  C03C2201/24 ,  C03C2201/26 ,  C03C2201/32 ,  C03C2201/80 ,  C03C2203/10 ,  C03C2203/54

    Abstract: The invention relates to a method for the production of opaque quartz glass wherein a blank is made from synthetic SiO2 crystals and heated to form a blank body made of opaque quartz glass at a given vitrification temperature. A method for the production of pure, opaque quartz glass is disclosed wherein said quartz glass has a homogeneous pore distribution and a high density, a high viscosity and a lower tendency to devitrify. According to the invention, the SiO2 crystals are formed from an at least partially porous agglomerate of SiO2 primary particles (21; 31) having a specific surface (according to BET) between 1.5 m /g and 40 m /g with a stamping density of at least 0.8 g/cm . SiO2 granulate (21; 31) suitable for use in performing the procedure is characterized in that it is composed of an at least partially porous agglomerate of SiO2 primary particles and has a specific surface (according to BET) between 1.5 m /g and 40 m /g in addition to a stamping density of at least 0.6 g/cm .

    Abstract translation: 在用于制造不透明石英玻璃公知的方法，成型是由合成的SiO 2颗粒尺寸，并加热在玻璃化温度以形成不透明石英玻璃制成的成型体的形成。 要指定此基础上，对于纯的，不透明的石英玻璃，其具有高密度，高粘度和低失透倾向的均匀的孔分布的制备方法，根据本发明中提出，以SiO 2的至少部分多孔附聚物的SiO 2颗粒一 形成的初级粒子的SiO 2颗粒（21; 31），其具有比表面积（按照BET）从1.5米<2> /克至40μm<2> /用至少0.8克/厘米<3的夯实密度克 使用>。 一种合适的用于该方法的实施的SiO 2颗粒（21; 31）的特征在于，它是由SiO 2一次粒子的至少部分多孔附聚物形成，并且其具有比表面积（按照BET）从1.5米<2 > /克至40μm<2> / g，并且具有厘米<用至少为0.6g / cc的夯实密度3>。

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