Procédé de collage direct utilisant une couche poreuse compressible
    24.
    发明公开
    Procédé de collage direct utilisant une couche poreuse compressible 审中-公开
    Direktes Bindungsverfahren unter Verwendung einerporöseverzichtbaren Schicht

    公开(公告)号:EP2637197A1

    公开(公告)日:2013-09-11

    申请号:EP13157688.6

    申请日:2013-03-04

    Inventor: Leduc, Patrick

    Abstract: Procédé de collage direct entre un premier élément et un deuxième élément, comportant au moins les étapes de :
    - dépôt d'au moins une première couche poreuse sur au moins une face du premier élément, la première couche poreuse étant compressible,
    - réalisation d'au moins une première couche de collage sur la première couche poreuse,
    - solidarisation par collage direct du deuxième élément avec la première couche de collage.

    Abstract translation: 该方法包括在第一元件(102)的表面上形成第一多孔层(104),在第一多孔层上形成第一结合层(106),以及通过将第二元件(202)与 第一粘结层。 第一多孔层包括≥10%的孔隙率,和/或由具有= 20GPa的杨氏模量的弹性变形材料和/或弹性极限= 350MPa的可弹性变形材料制成。 第一多孔层的孔的尺寸小于或等于第一多孔层的第十厚度。 该方法包括在第一元件(102)的表面上形成第一可压缩多孔层(104),在第一多孔层上形成第一粘合层(106),以及通过将第二元件(202)与 第一结合层。 第一多孔层包括≥10%的孔隙度和/或由具有= 20GPa的杨氏模量的弹性变形材料和/或弹性极限= 350MPa的可弹性变形材料制成。 第一多孔层的孔的尺寸小于或等于第一多孔层的第十厚度和/或小于在两个元件之间的接合处的界面处存在的颗粒的尺寸 通过直接焊接进行焊接。 第一元件和/或第二元件包括基板或电子芯片。 该方法还包括:在第二元件的表面上形成第二可压缩多孔层(204); 在所述第二多孔层上形成第二结合层; 在第一接合层的形成步骤和第二元件与第一接合层的第一接合层的直接接合的步骤之间通过光刻在第一接合层上形成第一多孔层和第一元件的一部分, 粘合层; 将形成所述连接柱的导电材料沉积在所述位置; 在所述第一接合层上进行化学和机械平坦化; 以及在将所述导电材料沉积在所述导电材料然后沉积在所述阻挡材料层上的位置之前,沉积材料层以形成具有所述连接柱材料的扩散的阻挡层。 通过第一接合层与第二接合层的直接接触,获得第二构件与第一接合层的直接接合的焊接。 第二多孔层包括≥10%的孔隙率,和/或由具有= 20GPa的杨氏模量的弹性变形材料和/或具有= 350MPa的弹性极限的可弹性变形材料制成 。 第一多孔层的厚度高于第一接合层的厚度,和/或第二多孔层的厚度高于第二接合层的厚度。 第一多孔层的形成和/或第二多孔层的形成包括:施加通过多孔等离子体增强化学气相沉积沉积的碳掺杂的氧化硅; 沉积要雕刻的材料并用于形成第一多孔层和/或第二多孔层,然后通过化学雕刻和/或电化学材料沉积形成孔; 以及通过吹入添加到沉积材料中的成孔颗粒而沉积第一多孔层和/或第二多孔层的材料,以及在第一多孔层的材料中形成孔之后去除成孔颗粒和/或 第二多孔层。 第一接合层的形成和/或第二接合层的形成包括在第一多孔层上沉积第一接合层的材料和/或在第二多孔层上沉积第二接合层的材料,以及 使用等离子体或化学处理部分第一多孔层和/或第二多孔层,其中第一多孔层的处理部分形成第一粘合层和/或第二多孔层的处理部分形成第二粘合 层。 形成在第一元件中的连接柱通过使第二元件与第一粘合层直接接合而在焊接时通过与第二元件中的连接柱直接接合来附接。

Patent Agency Ranking