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公开(公告)号:TW201718391A
公开(公告)日:2017-06-01
申请号:TW105124636
申请日:2016-08-03
Applicant: 尼瓦克斯 法爾公司 , NIVAROX-FAR S. A.
Inventor: 杜包斯 菲利浦 , DUBOIS, PHILIPPE
CPC classification number: G04B31/08 , B81B3/007 , B81B3/0075 , B81B2201/035 , C23C14/22 , C23C16/45525 , G04B15/14 , G04B19/12
Abstract: 本發明關於從以矽為主之基板(1)製造微機械時計部件的方法,該方法依序包含以下步驟:a)提供以矽為主之基板(1),b)在所述以矽為主之基板(1)的表面之至少一部分的表面上形成深度為至少10μm、較佳為至少50μm、更佳為至少100μm的孔(2),所述孔係經設計以開放於該微機械時計部件之外表面。 本發明也關於包含以矽為主之基板(1)的微機械時計部件,其在所述以矽為主之基板(1)的表面之至少一部分的表面上具有深度為至少10μm、較佳為至少50μm、更佳為至少100μm的孔(2),所述孔係經設計以開放於該微機械時計部件之外表面。
Abstract in simplified Chinese: 本发明关于从以硅为主之基板(1)制造微机械时计部件的方法,该方法依序包含以下步骤:a)提供以硅为主之基板(1),b)在所述以硅为主之基板(1)的表面之至少一部分的表面上形成深度为至少10μm、较佳为至少50μm、更佳为至少100μm的孔(2),所述孔系经设计以开放于该微机械时计部件之外表面。 本发明也关于包含以硅为主之基板(1)的微机械时计部件,其在所述以硅为主之基板(1)的表面之至少一部分的表面上具有深度为至少10μm、较佳为至少50μm、更佳为至少100μm的孔(2),所述孔系经设计以开放于该微机械时计部件之外表面。
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公开(公告)号:TW201716315A
公开(公告)日:2017-05-16
申请号:TW105116877
申请日:2016-05-30
Applicant: 尼瓦克斯 法爾公司 , NIVAROX-FAR S. A.
Inventor: 甘德曼 艾力克斯 , GANDELHMAN, ALEX , 平 安卓 , PIN, ANDRE
CPC classification number: B81C1/00619 , B81B2201/035 , B81B2203/0384 , B81C1/00103 , B81C2201/0112 , B81C2201/0132 , B81C2201/0138 , B81C2201/014 , B81C2201/0188 , B81C2201/0198 , G04B13/02 , G04B13/026 , G04B13/027 , G04D99/00
Abstract: 本發明係關於一種以矽為主之具有至少一縮減的接觸表面的構件,它是用一種結合至少一斜的側壁蝕刻步驟和垂直側壁的“Bosch”蝕刻的方法來形成,它尤其改善了用微機械加工一以矽為主的晶圓所形成的構件的摩潤性(tribology)。
Abstract in simplified Chinese: 本发明系关于一种以硅为主之具有至少一缩减的接触表面的构件,它是用一种结合至少一斜的侧壁蚀刻步骤和垂直侧壁的“Bosch”蚀刻的方法来形成,它尤其改善了用微机械加工一以硅为主的晶圆所形成的构件的摩润性(tribology)。
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公开(公告)号:TW201629271A
公开(公告)日:2016-08-16
申请号:TW104130825
申请日:2015-09-17
Applicant: 尼瓦克斯 法爾公司 , NIVAROX-FAR S. A.
Inventor: 杜包斯 菲利浦 , DUBOIS, PHILIPPE , 夏邦 克里斯汀 , CHARBON, CHRISTIAN
IPC: C25D1/00
CPC classification number: C25D21/04 , B81B2201/035 , B81C1/00674 , B81C2201/032 , C22C19/03 , C22C45/04 , C25D1/003 , G04B1/145 , G04B13/02 , G04B15/00 , G04B15/14 , G04B37/22 , G04D3/0074
Abstract: 本發明關於單件式金屬組件,其包括電鑄金屬本體,本體的外表面僅在預定深度或之上包括少於電鑄金屬本體之其餘者的捕陷氫,導致相對於本體之其餘者的硬化以便改善單件式組件的抗磨耗性,同時保留小於10的相對磁導率和被驅動或壓配的能力。
Abstract in simplified Chinese: 本发明关於单件式金属组件,其包括电铸金属本体,本体的外表面仅在预定深度或之上包括少于电铸金属本体之其余者的捕陷氢,导致相对于本体之其余者的硬化以便改善单件式组件的抗磨耗性,同时保留小于10的相对磁导率和被驱动或压配的能力。
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314.矽金屬複合材料微機械構件及其製造方法 SILICON-METAL COMPOSITE MICROMECHANICAL COMPONENT AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME 失效
Simplified title: 硅金属复合材料微机械构件及其制造方法 SILICON-METAL COMPOSITE MICROMECHANICAL COMPONENT AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME公开(公告)号:TW200927640A
公开(公告)日:2009-07-01
申请号:TW097144155
申请日:2008-11-14
Applicant: 尼瓦克斯 法爾公司 NIVAROX-FAR S.A.
Inventor: 費卡布里諾 尚夏爾 FIACCABRINO, JEAN-CHARLES , 維拉多 馬可 VERARDO, MARCO , 康那斯 西瑞 CONUS, THIERRY , 第柏 尚菲利浦 THIEBAUD, JEAN-PHILIPPE , 彼得斯 尚柏納 PETERS, JEAN-BERNARD
CPC classification number: F16H55/06 , B81B2201/035 , B81C99/0095 , B81C2201/0197 , C25D1/08 , C25D5/02 , C25D5/10 , G04B13/02 , G04B13/022 , G04B19/042 , Y10T74/1987
Abstract: 本發明係有關於一種製造一矽金屬複合物微機械構件(51)的方法(1),其結合了DRIE及LIGA處理。本發明亦有關於一種微機械構件(51)其包括一個層,該層的一個部分(53)用矽製成及另一個金屬部分(41),以形成一複合的微機械構件(51)。本發明係有關於時件運動的領域。
Abstract in simplified Chinese: 本发明系有关于一种制造一硅金属复合物微机械构件(51)的方法(1),其结合了DRIE及LIGA处理。本发明亦有关于一种微机械构件(51)其包括一个层,该层的一个部分(53)用硅制成及另一个金属部分(41),以形成一复合的微机械构件(51)。本发明系有关于时件运动的领域。
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公开(公告)号:TWI598206B
公开(公告)日:2017-09-11
申请号:TW099106471
申请日:2010-03-05
Applicant: 尼瓦克斯 法爾公司 , NIVAROX-FAR S.A.
Inventor: 卡森 皮爾 , CUSIN, PIERRE , 高菲爾 克萊兒 , GOLFIER, CLARE , 第柏 尚菲利浦 , THIEBAUD, JEAN-PHILIPPE
CPC classification number: C25D1/10 , B81B2201/035 , B81C99/009 , C25D17/00
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公开(公告)号:TW201719303A
公开(公告)日:2017-06-01
申请号:TW105124635
申请日:2016-08-03
Applicant: 尼瓦克斯 法爾公司 , NIVAROX-FAR S. A.
Inventor: 杜包斯 菲利浦 , DUBOIS, PHILIPPE
IPC: G04B31/08
CPC classification number: G04B31/08 , B81B2201/035 , B81C1/00674 , G04B15/14
Abstract: 本發明關於一種包括矽基基底(1)的微機械時計零件,矽基基底(1)具有至少一表面,該表面的至少一部分具有細孔(2),細孔(2)在微機械時計零件的外表面處對外開口且包括摩潤劑(5)。 本發明還關於一種用於從矽基基底(1)開始製造微機械時計零件的方法,矽基基底(1)具有至少一表面,該表面的至少一部分被由摩潤劑(5)潤滑,該方法依序包括以下的步驟:a)在矽基基底(1)的表面的部分的表面上形成細孔(2);b)將摩潤劑(5)沉積在細孔(2)中。
Abstract in simplified Chinese: 本发明关于一种包括硅基基底(1)的微机械时计零件,硅基基底(1)具有至少一表面,该表面的至少一部分具有细孔(2),细孔(2)在微机械时计零件的外表面处对外开口且包括摩润剂(5)。 本发明还关于一种用于从硅基基底(1)开始制造微机械时计零件的方法,硅基基底(1)具有至少一表面,该表面的至少一部分被由摩润剂(5)润滑,该方法依序包括以下的步骤:a)在硅基基底(1)的表面的部分的表面上形成细孔(2);b)将摩润剂(5)沉积在细孔(2)中。
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公开(公告)号:TWI520897B
公开(公告)日:2016-02-11
申请号:TW098122415
申请日:2009-07-02
Inventor: 丁格 魯道夫 , DINGER, RUDOLF , 拉凡爾 泰瑞 , RAVENEL, THIERRY
CPC classification number: G04D3/0069 , B81B2201/035 , B81C3/008 , B81C99/008 , G04B13/02 , Y10T29/49579 , Y10T29/49581
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318.製造微機械零件的方法 METHOD OF MANUFACTURING A MICROMECHANICAL PART 失效
Simplified title: 制造微机械零件的方法 METHOD OF MANUFACTURING A MICROMECHANICAL PART公开(公告)号:TW201016593A
公开(公告)日:2010-05-01
申请号:TW098122416
申请日:2009-07-02
Applicant: 史華曲集團研發有限公司
IPC: B81C
CPC classification number: B81C99/008 , B81B2201/035 , B81C1/00674 , B81C2201/112 , G04B13/02 , G04D3/0069 , Y10T29/49579
Abstract: 本發明係關於一種製造(1)機械零件(51)的方法,包含以下步驟:a)提供(3)以微機械材料製成之基板(53);b)借助光微影術,蝕刻(5)包括該零件之圖案(50)穿過該整個基板。依據本發明,該方法另包括以下步驟:c)將蝕刻的基板安裝(7)在支座(55')上以使該基板的頂及底表面可接近;d)將比該微機械材料更佳的摩擦品質的塗層沉積(9、C')在該零件的外表面上;e)使該零件自該基板脫離(11)。本發明係關於時計製造的領域。
Abstract in simplified Chinese: 本发明系关于一种制造(1)机械零件(51)的方法,包含以下步骤:a)提供(3)以微机械材料制成之基板(53);b)借助光微影术,蚀刻(5)包括该零件之图案(50)穿过该整个基板。依据本发明,该方法另包括以下步骤:c)将蚀刻的基板安装(7)在支座(55')上以使该基板的顶及底表面可接近;d)将比该微机械材料更佳的摩擦品质的涂层沉积(9、C')在该零件的外表面上;e)使该零件自该基板脱离(11)。本发明系关于时计制造的领域。
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公开(公告)号:TW473596B
公开(公告)日:2002-01-21
申请号:TW090101091
申请日:2001-01-16
Applicant: 西孝
Inventor: 西孝
IPC: F16H
CPC classification number: F16H55/22 , B23P15/14 , B81B2201/035 , B81C99/0085 , Y10T29/49462 , Y10T29/49467 , Y10T29/49469 , Y10T29/4948
Abstract: 一種齒輪製造方法,其係有關為使螺齒桿1旋轉,於基板3上形成間隙(形成軸承部與螺齒桿齒輪之間隙部分的領域)的製程(參閱第4圖之(1)~(3));及形成為形成螺齒桿下半部分之領域的模型框12的製程(參閱第4圖之(8));及將螺齒桿之材料5堆積至下半部分之領域與螺齒桿之上半部分的高度的製程(參閱第4圖之(9));及形成螺齒桿之上半部分的製程(參閱第4圖之(10~(12));及最後為使齒輪可以旋轉,將存在基板3與齒輪1之間隙的材料13除去的製程(參閱第4圖之(13))。
Abstract in simplified Chinese: 一种齿轮制造方法,其系有关为使螺齿杆1旋转,于基板3上形成间隙(形成轴承部与螺齿杆齿轮之间隙部分的领域)的制程(参阅第4图之(1)~(3));及形成为形成螺齿杆下半部分之领域的模型框12的制程(参阅第4图之(8));及将螺齿杆之材料5堆积至下半部分之领域与螺齿杆之上半部分的高度的制程(参阅第4图之(9));及形成螺齿杆之上半部分的制程(参阅第4图之(10~(12));及最后为使齿轮可以旋转,将存在基板3与齿轮1之间隙的材料13除去的制程(参阅第4图之(13))。
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公开(公告)号:TW201712745A
公开(公告)日:2017-04-01
申请号:TW105116878
申请日:2016-05-30
Applicant: 尼瓦克斯 法爾公司 , NIVAROX-FAR S. A.
Inventor: 甘德曼 艾力克斯 , GANDELHMAN, ALEX
IPC: H01L21/304 , H01L21/306
CPC classification number: G04D99/00 , B81B2201/035 , B81B2203/0384 , B81C1/00103 , B81C2201/0132 , B81C2201/0138 , B81C2201/014 , C23F1/00
Abstract: 本發明係關於具有至少一個倒角的矽系組件,該組件由合併至少一個斜側壁蝕刻步驟和直立側壁的“Bosch”蝕刻之方法形成,藉此能達到美觀改良及改良對矽系晶圓進行微機械處理而形成之組件的機械強度。
Abstract in simplified Chinese: 本发明系关于具有至少一个倒角的硅系组件,该组件由合并至少一个斜侧壁蚀刻步骤和直立侧壁的“Bosch”蚀刻之方法形成,借此能达到美观改良及改良对硅系晶圆进行微机械处理而形成之组件的机械强度。
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