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    이중 통과 에탈론 분광계
    312.
    发明公开
    이중 통과 에탈론 분광계 失效
    双通道ETONON SPECTROMETER

    公开(公告)号：KR1020000057929A

    公开(公告)日：2000-09-25

    申请号：KR1020000005502

    申请日：2000-02-03

    Applicant: 사이머 엘엘씨

    Inventor： 에르쇼브알렉산더아이.

    IPC: G01J3/28

    CPC classification number: G01J3/26 ,  G01J3/02 ,  G01J3/0205 ,  G01J3/021 ,  G01J3/0224 ,  G01J3/0229 ,  G01J3/027

    Abstract: PURPOSE: A dual-pass etalon spectrometer is provided to generate a precise fringe data able to measure band widths having a precision required for microlithography with relation to delta lambda FWHM and delta lambda 95%. CONSTITUTION: In a dual-pass etalon spectrometer, an optical scattering system(34) makes laser beams(16) facing toward a plurality of directions for generating scattered beams, and spectrum components of the scattered beams are divided by an angle to be permeated via the etalon(25). A reverse reflection mirror(38) reflects the permeated light beam components reversely via the etalon. The twice permeated spectrum components is focused on an optical detector(44) formed of an optical diode array by a lens(42) to detect a fringe pattern(49). The reverse reflection mirror is to be a hollow reverse reflection mirror.

    Abstract translation: 目的：提供双通道标准光谱仪，以产生精确的条纹数据，能够测量与ΔλFWHM和Δλ95％相关的微光刻所需精度的带宽。 构成：在双通道标准光谱仪中，光散射系统（34）使得激光束（16）面向多个方向产生散射光束，并且散射光束的光谱分量被除以被透过的角度 标准具（25）。 逆反射镜（38）通过标准具反向透过光束成分。 两次渗透的光谱分量聚焦在由透镜（42）由光二极管阵列形成的光学检测器（44）上以检测条纹图案（49）。 反射反射镜为中空反射镜。

    晶圓級分光計
    317.
    发明专利
    晶圓級分光計 审中-公开
    晶圆级分光计

    公开(公告)号：TW201306156A

    公开(公告)日：2013-02-01

    申请号：TW101121651

    申请日：2012-06-15

    Applicant: 克萊譚克公司 ,  KLA-TENCOR CORPORATION

    Inventor： 珍森 伊爾 ,  JENSEN, EARL ,  森 玫 ,  SUN, MEI ,  歐布里恩 凱文 ,  O'BRIEN, KEVIN

    IPC: H01L21/67 ,  G01J3/00 ,  H01J37/32

    CPC classification number: G01J3/0259 ,  G01J1/58 ,  G01J3/0205 ,  G01J3/021 ,  G01J3/0256 ,  G01J3/0262 ,  G01J3/36 ,  G01J2003/1213

    Abstract: 本發明揭示一種用於量測光學輻射之特性之感測器裝置，該感測器裝置具有一基板及位於該基板內一或多個空間上分離之位置處之一低輪廓光譜選擇性偵測系統。該光譜選擇性偵測系統包含以光學方式耦合至一對應光學偵測器陣列之一大體層疊波長選擇器陣列。強調，提供本摘要以符合需要將允許一搜尋者或其他讀者快速斷定技術性發明之標的物之一摘要的規則。提交本摘要係基於以下理解：其將不用於解釋或限定申請專利範圍之範疇或含義。

    Abstract in simplified Chinese: 本发明揭示一种用于量测光学辐射之特性之传感器设备，该传感器设备具有一基板及位于该基板内一或多个空间上分离之位置处之一低轮廓光谱选择性侦测系统。该光谱选择性侦测系统包含以光学方式耦合至一对应光学侦测器数组之一大体层叠波长选择器数组。强调，提供本摘要以符合需要将允许一搜索者或其他读者快速断定技术性发明之标的物之一摘要的守则。提交本摘要系基于以下理解：其将不用于解释或限定申请专利范围之范畴或含义。

    改良式帶寬估測技術 IMPROVED BANDWIDTH ESTIMATION
    319.
    发明专利
    改良式帶寬估測技術 IMPROVED BANDWIDTH ESTIMATION 有权
    改良式带宽估测技术 IMPROVED BANDWIDTH ESTIMATION

    公开(公告)号：TWI263412B

    公开(公告)日：2006-10-01

    申请号：TW093116896

    申请日：2004-06-11

    Applicant: 希瑪股份有限公司 CYMER, INC.

    Inventor： 瑞飛克 羅伯特J. RAFAC, ROBERT J.

    IPC: H04B

    CPC classification number: G01J3/02 ,  G01J3/0205 ,  G01J3/027 ,  G01J3/28 ,  G01J3/45

    Abstract: 所揭示係一種可測量一雷射所發出而輸入至其帶寬計之光波的光譜之帶寬的帶寬計量方法和裝置，其可包括：一光學帶寬監視器，其可提供一可表示一指示其雷射所發出之光波的帶寬之第一參數的第一輸出，和一可表示一指示其雷射所發出之光波的帶寬之第二參數的第二輸出；和一實際帶寬計算裝置，其可利用其第一輸出和第二輸出，作為一採用一些專屬其光學帶寬監視器之預定校正變數的多變數方程式的一部份，來計算一實際之帶寬參數。此實際之帶寬參數，可為其雷射所發出之光波的光譜之全寬度內的某一百分比最大值下的光譜全寬度("FWXM")，或為一在其光譜上面之兩點間的寬度("EX")，其係包圍上述雷射所發出之光波的光譜之全頻譜的某一百分比之能量。其帶寬監視器，可由一標準具所構成，以及其第一輸出係表示此標準具之光學輸出的條紋在FWXM下之寬度或其光譜上面包圍上述雷射所發出之光波的全頻譜之某一百分比能量的兩點間之寬度("EX'")中的至少一個，以及其第二輸出係表示一第二 FWX"M或EX'"中的至少一個，其中X≠X"及X'≠X'"。其預先計算之校正變數，可導自其實際帶寬參數值利用一與一校正光譜有關之第一和第二輸出的發生相關聯之可靠標準的測量。其實際帶寬參數之值，係計算自方程式：估測之實際BW參數=K*w1+L*w2+M，其中， w1=FWXM或EX'之第一測得輸出表示值，以及w2為FWX"M或EX'"之第二測得輸出表示值。此種裝置和方法，可在一雷射平版印刷光源中，及/或在一積體電路平版印刷工具中，加以具現。

    Abstract in simplified Chinese: 所揭示系一种可测量一激光所发出而输入至其带宽计之光波的光谱之带宽的带宽计量方法和设备，其可包括：一光学带宽监视器，其可提供一可表示一指示其激光所发出之光波的带宽之第一参数的第一输出，和一可表示一指示其激光所发出之光波的带宽之第二参数的第二输出；和一实际带宽计算设备，其可利用其第一输出和第二输出，作为一采用一些专属其光学带宽监视器之预定校正变量的多变量方进程的一部份，来计算一实际之带宽参数。此实际之带宽参数，可为其激光所发出之光波的光谱之全宽度内的某一百分比最大值下的光谱全宽度("FWXM")，或为一在其光谱上面之两点间的宽度("EX")，其系包围上述激光所发出之光波的光谱之全频谱的某一百分比之能量。其带宽监视器，可由一标准具所构成，以及其第一输出系表示此标准具之光学输出的条纹在FWXM下之宽度或其光谱上面包围上述激光所发出之光波的全频谱之某一百分比能量的两点间之宽度("EX'")中的至少一个，以及其第二输出系表示一第二 FWX"M或EX'"中的至少一个，其中X≠X"及X'≠X'"。其预先计算之校正变量，可导自其实际带宽参数值利用一与一校正光谱有关之第一和第二输出的发生相关联之可靠标准的测量。其实际带宽参数之值，系计算自方进程：估测之实际BW参数=K*w1+L*w2+M，其中， w1=FWXM或EX'之第一测得输出表示值，以及w2为FWX"M或EX'"之第二测得输出表示值。此种设备和方法，可在一激光平版印刷光源中，及/或在一集成电路平版印刷工具中，加以具现。

    分像分光式色彩計
    320.
    发明专利
    分像分光式色彩計 有权
    分像分光式色彩计

    公开(公告)号：TW444133B

    公开(公告)日：2001-07-01

    申请号：TW088114801

    申请日：1999-08-30

    Applicant: 財團法人工業技術研究院

    Inventor： 陳君彥

    IPC: G02B

    CPC classification number: G01J3/51 ,  G01J3/02 ,  G01J3/0205 ,  G01J3/0208 ,  G01J3/0251 ,  G01J3/513

    Abstract: 一種分像分光式色彩計，在色彩計的聚光元件的入瞳處加入一個分像分光元件，也就是利用在光學入瞳處分光的一種色彩計，其可以達成高均勻度且高光效率的功效。此分像分光元件可以將入瞳光分割成多數區來做分光及分色。而本發明的每一種分像分光元件均可將入瞳分割成數個區，然後經過分色濾光元件最後將各別的光束聚集到光感測器上。

    Abstract in simplified Chinese: 一种分像分光式色彩计，在色彩计的聚光组件的入瞳处加入一个分像分光组件，也就是利用在光学入瞳处分光的一种色彩计，其可以达成高均匀度且高光效率的功效。此分像分光组件可以将入瞳光分割成多数区来做分光及分色。而本发明的每一种分像分光组件均可将入瞳分割成数个区，然后经过分色滤光组件最后将各别的光束聚集到光传感器上。

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