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公开(公告)号：KR1020100032674A
公开(公告)日：2010-03-26
申请号：KR1020080091655
申请日：2008-09-18
Applicant: (주)트리플코어스코리아
CPC classification number: B01D53/32 , B01D53/04 , B01D53/75 , B01D2255/2047 , B01D2257/504 , B01D2258/0216 , B01D2259/818 , H05H1/46 , H05H2001/4622 , H05H2245/121 , Y02C10/08
Abstract: PURPOSE: A method for treating and processing gas and a treatment device thereof are provided to improve economical efficiency and to recycle used catalysts for other uses while improving environmental friendliness. CONSTITUTION: A method for treating and processing gas includes a step for forming exhaust gas including carbon dioxide by decomposing processed gas with plasma and a step for adsorbing the carbon dioxide in the exhaust gas with materials activated by the plasma. A treatment device includes a reactor(200) forming the exhaust gas including the carbon dioxide and an exhaust line(220) discharging the exhaust gas decomposed by the reactor.
Abstract translation: 目的：提供一种处理和处理气体的方法及其处理装置，以提高经济效率并回收用于其他用途的用过的催化剂，同时改善环境友好性。 构成：处理和处理气体的方法包括通过用等离子体分解处理气体来形成包括二氧化碳的废气的步骤，以及用等离子体激活的材料吸附废气中的二氧化碳的步骤。 处理装置包括形成包括二氧化碳的废气的反应器（200）和排出由反应器分解的废气的排气管线（220）。
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公开(公告)号：KR102026802B1
公开(公告)日：2019-09-30
申请号：KR1020120124497
申请日：2012-11-05
Applicant: (주)트리플코어스코리아
Inventor： 김익년
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公开(公告)号：KR101930458B1
公开(公告)日：2018-12-18
申请号：KR1020160167572
申请日：2016-12-09
Applicant: (주)트리플코어스코리아
Abstract: 본 발명에 따른 아크 플라즈마 폐가스 처리 장치는 아크 방전을 통하여 화염을 발생시키고 유입된 작동 가스를 통해 플라즈마를 생성하는 플라즈마 발생부(1); 상기 플라즈마 발생부(1)로부터 이송된 플라즈마를 유입되는 폐가스와 혼합하여 처리하는 반응부(5); 및 상기 반응부(5)에서 처리된 가스를 스크러빙하여 온도를 감소하게 하는 스크러빙부(3);를 포함하고, 상기 플라즈마 발생부(1)는 다단 스월 구조체(200)를 통해 양극부(100) 상으로 다단으로 작동 가스를 공급하고, 상기 스크러빙부(3)는 복수의 냉각 모듈을 통해 순차적으로 냉각 유체를 공급하여 냉각을 수행한다.
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公开(公告)号：KR101717847B1
公开(公告)日：2017-03-17
申请号：KR1020150104120
申请日：2015-07-23
Applicant: (주)트리플코어스코리아
Abstract: 공정챔버로부터발생한배기가스를처리하기위하여상기공정챔버의배기라인과연결되어플라즈마반응이발생하는반응기및 상기반응기로처리가스를공급하기위한처리가스유입라인을플라즈마가스스크러버운전방법으로, 상기공정챔버의운전시작전 0.5 내지 1.5초전 플라즈마를생성시키는단계; 및상기공정챔버의운전시작과동시또는이후상기플라즈마가스스크러버의반응기로처리가스를유입시키는단계를포함하는것을특징으로하는플라즈마가스스크러버운전방법이제공된다.
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR101427719B1
公开(公告)日：2014-09-30
申请号：KR1020120077268
申请日：2012-07-16
Applicant: (주)트리플코어스코리아
IPC: H01L21/02
Abstract: 반도체 공정이 진행되는 공정챔버, 상기 공정챔버와 연결된 펌프, 및 상기 공정챔버와 펌프 사이의 포어라인을 포함하는 반도체 공정 시스템의 펌프 및 배기라인의 부산물제어 장치로서, 상기 포어라인으로 주입되는 반응가스 활성종을 생성하기 위한 반응가스 생성부; 및 상기 반응가스 생성부의 동작을 제어하기 위한 제어부를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 공정 시스템의 펌프 세정 장치가 제공된다.
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公开(公告)号：KR101319648B1
公开(公告)日：2013-10-17
申请号：KR1020110113498
申请日：2011-11-02
Applicant: (주)트리플코어스코리아
Abstract: 본 발명에 따른 플라즈마 반응기 및 이를 이용한 가스스크러버는 고주파를 발진시키는 고주파발진기(15); 상기 고주파발진기(15)에서 발진된 고주파를 전송하는 도파관모듈(20); 상기 도파관모듈(20)과 직교하게 배치되고 상기 도파관모듈(20)을 따라 전송된 고주파를 통과시키는 원통형의 방전아우터바디(32); 상기 도파관모듈(20)에 배치되고, 플라즈마 형성을 위해 상기 도파관모듈(20)을 따라 이동되면서 상기 방전아우터바디(32) 내부의 임피던스를 제어하는 플런저(25)를 포함하기 때문에, 상기 방전아우터바디(32) 내부로 전송된 고주파를 제어하기 위한 플런저(25) 및 미세조절튜너(35)를 구비하여 상기 방전아우터바디(32) 내부의 임피던스를 용이하게 조절할 수 있는 효과가 있다.
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公开(公告)号：KR101196966B1
公开(公告)日：2012-11-05
申请号：KR1020100007725
申请日：2010-01-28
Applicant: (주)트리플코어스코리아
Abstract: 상압 플라즈마 장치 및 이를 위한 도파관이 제공된다.
본 발명에 따른 상압 플라즈마 장치는 전자기파를 공급하는 발진기과, 상기 발진기로부터 입사된 상기 전자기파가 전송되는 도파관을 포함하는 상압 플라즈마 장치에 있어서, 상기 도파관은 적어도 하나 이상의 높이 단차를 가지며, 최종 낮은 높이부를 포함하는 도파관 영역에서 플라즈마가 발생되며, 상압 플라즈마 장치는 하나 이상의 높이 단차를 갖는 도파관을 통하여 인가되는 집중 효과와, 발생한 플라즈마를 안정되게 유지하는 효과를 동시에 달성시킬 수 있다.-
公开(公告)号：KR101026457B1
公开(公告)日：2011-03-31
申请号：KR1020080086283
申请日：2008-09-02
Applicant: (주)트리플코어스코리아
IPC: B01D53/32
CPC classification number: B01D53/323 , B01D53/77 , B01D2257/204 , B01D2257/2047 , B01D2257/206 , B01D2257/2066 , B01D2258/0216 , B01D2259/818 , H05H1/46 , H05H2001/4622 , H05H2240/10
Abstract: 본 발명은 반도체 산업을 포함한 각종 전자 산업으로부터 배출되는 대기오염 유해가스를 제거하기 위한 폐가스 제거 시스템에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 진공 챔버로부터 배출되는 유해가스를 저압 동공음극 방전 플라즈마로 처리하고 상기 저압 동공음극 방전 플라즈마로 처리된 유해가스가 대기압으로 배출될 때, 다시 대기압 전자파 플라즈마로 유해가스를 통과시켜 완벽하게 제거하는 저압 및 대기압 플라즈마를 이용한 폐가스 제거 시스템을 제공하고 된다.
대기압, 저압, 플라즈마, 동공음극 방전, 전자파 방전, 스크러버-
公开(公告)号：KR100987978B1
公开(公告)日：2010-10-18
申请号：KR1020080105267
申请日：2008-10-27
Applicant: (주)트리플코어스코리아
IPC: H01L21/302 , H01L21/00
CPC classification number: B01D53/68 , B01D53/1431 , B01D2257/204 , B01D2257/2066 , B01D2258/0216 , B01D2259/818
Abstract: 가스 스크러빙 장치 및 가스 스크러빙 방법이 제공된다.
본 발명에 따른 가스 스크러빙 장치는 반응가스가 유입되는 반응관;
상기 반응관과 연결되며, 상기 유입된 반응가스를 플라즈마화시키는 반응기; 및 상기 반응기 내의 플라즈마에 물을 주입하기 위한 물 주입부를 포함하며, 별도의 히터를 사용하지 않고, 플라즈마의 열원을 이용하여 물을 증기화시키기 때문에 매우 경제적인 가스 스크러빙을 가능하게 한다. 더 나아가, 플라즈마화된 반응가스가 배출되는 최적의 영역에서 물을 직접 증기화시켜 반응가스를 스크러빙하므로, 가스 스크러빙의 효율 또한 향상된다.
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