公开(公告)号：CN100424815C

公开(公告)日：2008-10-08

申请号：CN200510129563.1

申请日：2005-12-06

Applicant: 株式会社迅动

Inventor： 浅野彻 ,  鸟山幸夫 ,  田口隆志 ,  三桥毅 ,  金山幸司 ,  奥村刚

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/677 ,  G03F7/00

Abstract: 本发明提供一种基本处理装置及基板处理方法，在向曝光装置搬送基板时，使用接口用搬送机构的上侧的手部，在搬送从曝光装置被搬出的基板时，使用接口用搬送机构的下侧的手部。在将由曝光装置的曝光处理后的基板搬送到干燥处理部时，使用第五中央机械手下侧的手部，在搬送从干燥处理部被搬出的干燥处理后的基板时，使用第五中央机械手上侧的手部。即，使用上侧的手部搬送未附着液体的基板，使用下侧的手部搬送附着了液体的基板。

公开(公告)号：CN100401469C

公开(公告)日：2008-07-09

申请号：CN200510120442.0

申请日：2005-11-10

Applicant: 株式会社迅动

Inventor： 金山幸司 ,  久井章博 ,  浅野彻 ,  小林宽

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/677 ,  G03F7/00

CPC classification number: G03F7/70991 ,  Y10S414/135

Abstract: 本发明提供一种基板处理装置，其具有分度器模块、反射防止膜用处理模块、抗蚀膜用处理模块、显影处理模块、抗蚀盖膜用处理模块、抗蚀盖膜除去模块以及接口模块。以相邻于接口模块的方式配置曝光装置。在抗蚀膜用处理模块中，在基板上形成抗蚀膜。在曝光装置中对基板进行曝光处理之前，在抗蚀盖膜用处理模块中在抗蚀膜上形成抗蚀盖膜。