公开(公告)号：CN1773673B

公开(公告)日：2011-07-20

申请号：CN200510120446.9

申请日：2005-11-10

Applicant: 株式会社迅动

Inventor： 安田周一 ,  金冈雅 ,  金山幸司 ,  宫城聪 ,  茂森和士 ,  浅野彻 ,  久井章博 ,  小林宽 ,  奥村刚

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/677 ,  G03F7/00

CPC classification number: G03F7/70991 ,  G03F7/7075 ,  Y10S438/906 ,  Y10S438/908

Abstract: 本发明提供一种基板处理装置以及基板处理方法，基板处理装置具有：分度器部、反射防止膜用处理部、抗蚀膜用处理部、显影处理部以及接口部。以相邻于接口部的方式配置曝光装置。接口部具有清洗处理部以及接口用搬送机构。在曝光装置中对基板执行曝光处理之前，基板通过接口用搬送机构被搬送到清洗处理部。在清洗处理部中进行基板的清洗以及干燥。

公开(公告)号：CN100401469C

公开(公告)日：2008-07-09

申请号：CN200510120442.0

申请日：2005-11-10

Applicant: 株式会社迅动

Inventor： 金山幸司 ,  久井章博 ,  浅野彻 ,  小林宽

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/677 ,  G03F7/00

CPC classification number: G03F7/70991 ,  Y10S414/135

Abstract: 本发明提供一种基板处理装置，其具有分度器模块、反射防止膜用处理模块、抗蚀膜用处理模块、显影处理模块、抗蚀盖膜用处理模块、抗蚀盖膜除去模块以及接口模块。以相邻于接口模块的方式配置曝光装置。在抗蚀膜用处理模块中，在基板上形成抗蚀膜。在曝光装置中对基板进行曝光处理之前，在抗蚀盖膜用处理模块中在抗蚀膜上形成抗蚀盖膜。

公开(公告)号：CN101414132A

公开(公告)日：2009-04-22

申请号：CN200810166610.3

申请日：2008-10-15

Applicant: 株式会社迅动

Inventor： 春本将彦 ,  山口晃 ,  久井章博 ,  杉山念 ,  黑田拓也

IPC: G03F7/30

CPC classification number: G03F7/30 ,  B05D1/005 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/3021 ,  H01L21/6715

Abstract: 一种显影装置，具有：旋转卡盘，其用于保持基板，而且所保持的所述基板能够自由旋转；显影液喷嘴，其形成有排成一列的喷出显影液的多个喷出口，并且使各喷出口喷出的显影液以相互分离的状态附着到基板上；水平移动机构，在俯视观察时，其将喷出口的排列方向保持在朝向基板中心的一个方向，同时沿该一个方向移动显影液喷嘴，从而在俯视观察时于基板的大致中心和周边缘之间移动显影液喷嘴；控制部，其控制旋转卡盘和水平移动机构，使显影液分别以螺旋状从各喷出口附着到基板上，从而对基板进行显影。

公开(公告)号：CN101158820A

公开(公告)日：2008-04-09

申请号：CN200710161229.3

申请日：2007-09-25

Applicant: 株式会社迅动

Inventor： 春本将彦 ,  山口晃 ,  久井章博

IPC: G03F7/30 ,  G03F7/40 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/3021

Abstract: 本发明提供一种方法，其消除了在基板上的显影液置换为清洗液时，显影液在基板表面内不同的位置产生浓度差的问题，并可防止在抗蚀膜表面上产生污垢状缺陷的问题，还可减少显影液用量。其通过旋转卡盘将基板保持在水平姿势，并通过旋转电动机使其绕铅直轴周围旋转的同时，从喷嘴喷出显影液向基板表面的抗蚀膜上供给显影液而进行显影处理，然后，继续使基板旋转，通过离心力使抗蚀膜上的显影液飞散而除去，接下来，从喷嘴喷出纯水向抗蚀膜上供给清洗液进行清洗处理。

公开(公告)号：CN1773376B

公开(公告)日：2010-06-23

申请号：CN200510120440.1

申请日：2005-11-10

Applicant: 株式会社迅动

Inventor： 金山幸司 ,  久井章博 ,  浅野彻 ,  小林宽 ,  奥村刚 ,  安田周一 ,  金冈雅 ,  宫城聪 ,  茂森和士

IPC: G03F7/00 ,  G03F7/20 ,  G03F7/26

CPC classification number: G03F7/70991 ,  G03F7/70341

Abstract: 本发明提供的基板处理装置具有分度器模块、反射防止膜用处理模块、抗蚀膜用处理模块、显影处理模块以及接口模块。以相邻于接口模块的方式配置有曝光装置。接口模块具有含有2个干燥处理单元的干燥处理部和接口用搬送机构。在曝光装置中，在对基板实施了曝光处理后，基板通过接口用搬送机构被搬送到干燥处理部的干燥处理单元。在干燥处理部的干燥处理单元中，进行基板的洗涤和干燥。

公开(公告)号：CN101414132B

公开(公告)日：2012-01-11

申请号：CN200810166610.3

申请日：2008-10-15

Applicant: 株式会社迅动

Inventor： 春本将彦 ,  山口晃 ,  久井章博 ,  杉山念 ,  黑田拓也

IPC: G03F7/30

CPC classification number: G03F7/30 ,  B05D1/005 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/3021 ,  H01L21/6715

Abstract: 一种显影装置，具有：旋转卡盘，其用于保持基板，而且所保持的所述基板能够自由旋转；显影液喷嘴，其形成有排成一列的喷出显影液的多个喷出口，并且使各喷出口喷出的显影液以相互分离的状态附着到基板上；水平移动机构，在俯视观察时，其将喷出口的排列方向保持在朝向基板中心的一个方向，同时沿该一个方向移动显影液喷嘴，从而在俯视观察时于基板的大致中心和周边缘之间移动显影液喷嘴；控制部，其控制旋转卡盘和水平移动机构，使显影液分别以螺旋状从各喷出口附着到基板上，从而对基板进行显影。

公开(公告)号：CN101158819A

公开(公告)日：2008-04-09

申请号：CN200710154353.7

申请日：2007-09-26

Applicant: 株式会社迅动

Inventor： 春本将彦 ,  山口晃 ,  久井章博

IPC: G03F7/30 ,  G03F7/40 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/3028 ,  H01L21/67028 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/67253

Abstract: 本发明提供一种消除在基板上的显影液被漂洗液置换时，在基板面内的不同位置产生显影液的浓度差的问题，从而能够防止在抗蚀膜面上发生斑痕状缺陷，而且能够减少显影液的使用量的方法。通过旋转卡盘将基板保持为水平姿势，并通过旋转马达使基板绕着铅直轴周围旋转，同时，从喷嘴吐出显影液向基板表面的抗蚀膜上供给显影液而进行了显影处理之后，继续使基板旋转，使得在抗蚀膜上的显影液被离心力飞散而被除去，从而在基板表面上观察不到干涉条纹的时刻，从喷嘴吐出纯水向抗蚀膜上供给漂洗液而进行漂洗处理。