公开(公告)号：CN1773376B

公开(公告)日：2010-06-23

申请号：CN200510120440.1

申请日：2005-11-10

Applicant: 株式会社迅动

Inventor： 金山幸司 ,  久井章博 ,  浅野彻 ,  小林宽 ,  奥村刚 ,  安田周一 ,  金冈雅 ,  宫城聪 ,  茂森和士

IPC: G03F7/00 ,  G03F7/20 ,  G03F7/26

CPC classification number: G03F7/70991 ,  G03F7/70341

Abstract: 本发明提供的基板处理装置具有分度器模块、反射防止膜用处理模块、抗蚀膜用处理模块、显影处理模块以及接口模块。以相邻于接口模块的方式配置有曝光装置。接口模块具有含有2个干燥处理单元的干燥处理部和接口用搬送机构。在曝光装置中，在对基板实施了曝光处理后，基板通过接口用搬送机构被搬送到干燥处理部的干燥处理单元。在干燥处理部的干燥处理单元中，进行基板的洗涤和干燥。

公开(公告)号：CN1773673B

公开(公告)日：2011-07-20

申请号：CN200510120446.9

申请日：2005-11-10

Applicant: 株式会社迅动

Inventor： 安田周一 ,  金冈雅 ,  金山幸司 ,  宫城聪 ,  茂森和士 ,  浅野彻 ,  久井章博 ,  小林宽 ,  奥村刚

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/677 ,  G03F7/00

CPC classification number: G03F7/70991 ,  G03F7/7075 ,  Y10S438/906 ,  Y10S438/908

Abstract: 本发明提供一种基板处理装置以及基板处理方法，基板处理装置具有：分度器部、反射防止膜用处理部、抗蚀膜用处理部、显影处理部以及接口部。以相邻于接口部的方式配置曝光装置。接口部具有清洗处理部以及接口用搬送机构。在曝光装置中对基板执行曝光处理之前，基板通过接口用搬送机构被搬送到清洗处理部。在清洗处理部中进行基板的清洗以及干燥。

公开(公告)号：CN100401469C

公开(公告)日：2008-07-09

申请号：CN200510120442.0

申请日：2005-11-10

Applicant: 株式会社迅动

Inventor： 金山幸司 ,  久井章博 ,  浅野彻 ,  小林宽

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/677 ,  G03F7/00

CPC classification number: G03F7/70991 ,  Y10S414/135

Abstract: 本发明提供一种基板处理装置，其具有分度器模块、反射防止膜用处理模块、抗蚀膜用处理模块、显影处理模块、抗蚀盖膜用处理模块、抗蚀盖膜除去模块以及接口模块。以相邻于接口模块的方式配置曝光装置。在抗蚀膜用处理模块中，在基板上形成抗蚀膜。在曝光装置中对基板进行曝光处理之前，在抗蚀盖膜用处理模块中在抗蚀膜上形成抗蚀盖膜。