公开(公告)号：CN1773673B

公开(公告)日：2011-07-20

申请号：CN200510120446.9

申请日：2005-11-10

Applicant: 株式会社迅动

Inventor： 安田周一 ,  金冈雅 ,  金山幸司 ,  宫城聪 ,  茂森和士 ,  浅野彻 ,  久井章博 ,  小林宽 ,  奥村刚

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/677 ,  G03F7/00

CPC classification number: G03F7/70991 ,  G03F7/7075 ,  Y10S438/906 ,  Y10S438/908

Abstract: 本发明提供一种基板处理装置以及基板处理方法，基板处理装置具有：分度器部、反射防止膜用处理部、抗蚀膜用处理部、显影处理部以及接口部。以相邻于接口部的方式配置曝光装置。接口部具有清洗处理部以及接口用搬送机构。在曝光装置中对基板执行曝光处理之前，基板通过接口用搬送机构被搬送到清洗处理部。在清洗处理部中进行基板的清洗以及干燥。

公开(公告)号：CN100424815C

公开(公告)日：2008-10-08

申请号：CN200510129563.1

申请日：2005-12-06

Applicant: 株式会社迅动

Inventor： 浅野彻 ,  鸟山幸夫 ,  田口隆志 ,  三桥毅 ,  金山幸司 ,  奥村刚

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/677 ,  G03F7/00

Abstract: 本发明提供一种基本处理装置及基板处理方法，在向曝光装置搬送基板时，使用接口用搬送机构的上侧的手部，在搬送从曝光装置被搬出的基板时，使用接口用搬送机构的下侧的手部。在将由曝光装置的曝光处理后的基板搬送到干燥处理部时，使用第五中央机械手下侧的手部，在搬送从干燥处理部被搬出的干燥处理后的基板时，使用第五中央机械手上侧的手部。即，使用上侧的手部搬送未附着液体的基板，使用下侧的手部搬送附着了液体的基板。

公开(公告)号：CN100401469C

公开(公告)日：2008-07-09

申请号：CN200510120442.0

申请日：2005-11-10

Applicant: 株式会社迅动

Inventor： 金山幸司 ,  久井章博 ,  浅野彻 ,  小林宽

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/677 ,  G03F7/00

CPC classification number: G03F7/70991 ,  Y10S414/135

Abstract: 本发明提供一种基板处理装置，其具有分度器模块、反射防止膜用处理模块、抗蚀膜用处理模块、显影处理模块、抗蚀盖膜用处理模块、抗蚀盖膜除去模块以及接口模块。以相邻于接口模块的方式配置曝光装置。在抗蚀膜用处理模块中，在基板上形成抗蚀膜。在曝光装置中对基板进行曝光处理之前，在抗蚀盖膜用处理模块中在抗蚀膜上形成抗蚀盖膜。

公开(公告)号：CN1812050B

公开(公告)日：2012-12-12

申请号：CN200510129565.0

申请日：2005-12-06

Applicant: 株式会社迅动

Inventor： 安田周一 ,  金冈雅 ,  金山幸司 ,  宫城聪 ,  茂森和士 ,  浅野彻 ,  鸟山幸夫 ,  田口隆志 ,  三桥毅 ,  奥村刚

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/677 ,  G03F7/00

CPC classification number: G03F7/70991 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/67173 ,  H01L21/67178

Abstract: 一种基板处理装置，具有分度器区、反射防止膜用处理区、抗蚀膜用处理区、显影处理区、浸液曝光用处理区以及接口区。以相邻于接口区的方式配置曝光装置。浸液曝光用处理区具有抗蚀剂盖膜用涂敷处理部以及抗蚀剂盖膜用除去处理部。在曝光处理之前，在浸液曝光用处理区形成抗蚀剂盖膜。在曝光处理之后，在浸液曝光用处理区除去抗蚀剂盖膜。

公开(公告)号：CN100535757C

公开(公告)日：2009-09-02

申请号：CN200510129564.6

申请日：2005-12-06

Applicant: 株式会社迅动

Inventor： 安田周一 ,  金冈雅 ,  金山幸司 ,  宫城聪 ,  茂森和士 ,  浅野彻 ,  鸟山幸夫 ,  田口隆志 ,  三桥毅 ,  奥村刚

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027 ,  G03F7/26

Abstract: 本发明提供一种基板处理装置，其具有分度器区、反射防止膜用处理区、抗蚀膜用处理区、显影处理区、干燥处理区以及接口区。曝光装置以相邻于接口区的方式配置。干燥处理区具有干燥处理部。接口区具有接口用搬送机构。在曝光装置中对基板进行曝光处理之后，通过接口用搬送机构将基板搬送到干燥处理部。在干燥处理部对基板进行清洗以及干燥处理。

公开(公告)号：CN100520594C

公开(公告)日：2009-07-29

申请号：CN200510129566.5

申请日：2005-12-06

Applicant: 株式会社迅动

Inventor： 安田周一 ,  金冈雅 ,  金山幸司 ,  宫城聪 ,  茂森和士 ,  浅野彻 ,  鸟山幸夫 ,  田口隆志 ,  三桥毅 ,  奥村刚

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027 ,  G03F7/38

Abstract: 基板处理装置具有：分度器模块、反射防止膜用处理模块、抗蚀膜用处理模块、洗涤/显影处理模块以及接口模块。以相邻于接口模块的方式配置曝光装置。在抗蚀膜用处理模块中，在基板上形成抗蚀膜。在曝光装置中对基板进行曝光处理之前，在洗涤/显影处理模块的洗涤处理单元中进行基板的洗涤以及干燥处理。

公开(公告)号：CN1773376B

公开(公告)日：2010-06-23

申请号：CN200510120440.1

申请日：2005-11-10

Applicant: 株式会社迅动

Inventor： 金山幸司 ,  久井章博 ,  浅野彻 ,  小林宽 ,  奥村刚 ,  安田周一 ,  金冈雅 ,  宫城聪 ,  茂森和士

IPC: G03F7/00 ,  G03F7/20 ,  G03F7/26

CPC classification number: G03F7/70991 ,  G03F7/70341

Abstract: 本发明提供的基板处理装置具有分度器模块、反射防止膜用处理模块、抗蚀膜用处理模块、显影处理模块以及接口模块。以相邻于接口模块的方式配置有曝光装置。接口模块具有含有2个干燥处理单元的干燥处理部和接口用搬送机构。在曝光装置中，在对基板实施了曝光处理后，基板通过接口用搬送机构被搬送到干燥处理部的干燥处理单元。在干燥处理部的干燥处理单元中，进行基板的洗涤和干燥。