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31.发明专利涉及使用與一目標相隔一間隙之光學組件量測用於該目標之輻射強度分佈之方法、涉及描述量測目標之數學模型之方法、製造裝置之方法、電腦程式產品及度量衡系統 有权涉及使用与一目标相隔一间隙之光学组件量测用于该目标之辐射强度分布之方法、涉及描述量测目标之数学模型之方法、制造设备之方法、电脑进程产品及度量衡系统
公开(公告)号：TWI618928B
公开(公告)日：2018-03-21
申请号：TW105122276
申请日：2016-07-14
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
Inventor： 凡 登 波斯 西特喜 希巨門 , VAN DER POST, SIETSE THIJMEN , 塞吉普 飛瑞 , ZIJP, FERRY , 盧波 山德 巴斯 , ROOBOL, SANDER BAS
IPC: G01N21/956 , G03F7/20 , G01B11/30
CPC classification number: G03F7/70633 , G03F7/705 , G03F7/70625 , G03F7/7085
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公开(公告)号：TWI616642B
公开(公告)日：2018-03-01
申请号：TW105131494
申请日：2016-09-30
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
Inventor： 帕迪 尼特許 , PANDEY, NITESH , 周子理 , ZHOU, ZILI , 柯蘭 愛曼德 尤金尼 愛博特 , KOOLEN, ARMAND EUGENE ALBERT , 凡 德 鄒 葛伯德 , VAN DER ZOUW, GERBRAND
CPC classification number: G03F7/70625 , G01B11/272 , G01N21/47 , G03F7/7015 , G03F7/706 , G03F7/70633
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公开(公告)号：TW201802610A
公开(公告)日：2018-01-16
申请号：TW106107366
申请日：2017-03-07
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
Inventor： 迪 威特 僑漢斯 馬修司 馬力 , DE WIT, JOHANNES MATHEUS MARIE , 斐貞 金 吉拉德 , FEIJEN, KIM GERARD , 史哲班 安可 喬瑟夫 柯那勒斯 , SIJBEN, ANKO JOZEF CORNELUS , 梅森 馬汀諾斯 , MAASSEN, MARTINUS , 凡 德 葛羅斯 亨利克斯 馬丁尼斯 約翰納司 , VAN DE GROES, HENRICUS MARTINUS JOHANNES
CPC classification number: G03F7/70191 , G01N21/8806 , G01N2021/8835 , G02B21/082 , G02B21/361 , G02B21/365 , G03F7/70575 , G03F7/70616
Abstract: 本發明揭示一種用於一度量衡裝置之照明系統及一種包含此照明系統之度量衡裝置。該照明系統包含一照明源；及一線性可變濾光器配置，其經組態以濾光來自該照明源之一輻射光束且包含一或多個線性可變濾光器。 該照明系統可操作以在由該線性可變濾光器配置濾光該輻射光束之後實現對該輻射光束之一波長特性的選擇性控制。
Abstract in simplified Chinese: 本发明揭示一种用于一度量衡设备之照明系统及一种包含此照明系统之度量衡设备。该照明系统包含一照明源；及一线性可变滤光器配置，其经组态以滤光来自该照明源之一辐射光束且包含一或多个线性可变滤光器。 该照明系统可操作以在由该线性可变滤光器配置滤光该辐射光束之后实现对该辐射光束之一波长特性的选择性控制。
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公开(公告)号：TWI607524B
公开(公告)日：2017-12-01
申请号：TW105119784
申请日：2016-06-23
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
Inventor： 裘寧克 安德烈 伯納德斯 , JEUNINK, ANDRE BERNARDUS , 德 瓊 羅伯特 , DE JONG, ROBBERT , 里恩德斯 馬汀斯 漢德利克斯 安東尼斯 , LEENDERS, MARTINUS HENDRIKUS ANTONIUS , 帕西提 伊芙琳 瓦莉斯 , PACITTI, EVELYN WALLIS , 波伊茲 湯瑪士 , POIESZ, THOMAS , 凡 登 柏克摩提爾 法蘭克 皮特 艾伯特 , VAN DEN BERKMORTEL, FRANK PIETER ALBERT
IPC: H01L21/683 , G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/70341 , G03F7/707 , G03F7/70783 , G03F7/70858
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公开(公告)号：TWI606310B
公开(公告)日：2017-11-21
申请号：TW105114756
申请日：2016-05-12
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
Inventor： 貝爾塔 傑爾特 利恩茨 , BEARDA, JELTE RIENTS , 克魯基斯特 約斯特 安德烈 , 夫哥德 羅伯特 真 , VOOGD, ROBBERT JAN , 赫根哈納 奎多 , HERGENHAN, GUIDO , 佩尼茲 梅克 , PANITZ, MEIK , 泰伯特 喬琛 , TAUBERT, JOCHEN
CPC classification number: G03F7/70191 , G03F7/70308 , G03F7/7085
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：TWI604276B
公开(公告)日：2017-11-01
申请号：TW104104295
申请日：2015-02-09
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
Inventor： 莫沙維特 詩為德 伊曼 , MOSSAVAT, SEYED IMAN , 凡 德 斯加 毛瑞斯 , VAN DER SCHAAR, MAURITS , 克瑞馬 雨果 奧格斯提納斯 約瑟夫 , CRAMER, HUGO AUGUSTINUS JOSEPH
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70591 , G01B11/272 , G03F7/70625 , G03F7/70633 , G03F7/70683
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公开(公告)号：TW201738664A
公开(公告)日：2017-11-01
申请号：TW106112307
申请日：2017-04-13
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
Inventor： 徐 端孚 , HSU, DUAN-FU STEPHEN , 劉晶晶 , LIU, JINGJING
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F1/36 , G03F7/70433 , G03F7/70441
Abstract: 本文中揭示一種方法，其包含：獲得一設計佈局之至少一剪輯；及在自該剪輯於一圖案化器件上之一表示對該剪輯之一縮減比率為各向異性的一條件下判定該表示。在該方法之一另外實施例中，該方法包含：獲得一設計佈局或其一影像中之一第一幾何特性與該設計佈局於一圖案化器件上之一表示中之一第二幾何特性之間的一關係，其中該關係為涉及在兩個不同方向上之縮減比率之一函數。
Abstract in simplified Chinese: 本文中揭示一种方法，其包含：获得一设计布局之至少一剪辑；及在自该剪辑于一图案化器件上之一表示对该剪辑之一缩减比率为各向异性的一条件下判定该表示。在该方法之一另外实施例中，该方法包含：获得一设计布局或其一影像中之一第一几何特性与该设计布局于一图案化器件上之一表示中之一第二几何特性之间的一关系，其中该关系为涉及在两个不同方向上之缩减比率之一函数。
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公开(公告)号：TWI603166B
公开(公告)日：2017-10-21
申请号：TW105113759
申请日：2016-05-03
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
Inventor： 塞吉普 飛瑞 , ZIJP, FERRY , 阿克布魯特 都古 , AKBULUT, DUYGU , 凡 弗斯特 彼得 丹尼 , VAN VOORST, PETER DANNY , 范 德 維恩 賈諾 喬漢 馬汀 , VAN DE WIJDEVEN, JEROEN JOHAN MAARTEN , 凡 伯克 庫斯 , VAN BERKEL, KOOS
IPC: G03F7/20 , G01N21/956 , G01B21/00
CPC classification number: G03F7/70591 , G01B11/14 , G01N21/956 , G02B5/3025 , G02B21/0016 , G02B21/33 , G03F7/70625 , G03F7/70633
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公开(公告)号：TWI600981B
公开(公告)日：2017-10-01
申请号：TW105134143
申请日：2014-08-04
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
Inventor： 米德克魯克斯 史考特 安德森 , MIDDLEBROOKS, SCOTT ANDERSON , 吉朋 尼爾斯 , GEYPEN, NIELS , 史密德 韓卓克 真 海德 , SMILDE, HENDRIK JAN HIDDE , 斯特傑 亞力山德 , STRAAIJER, ALEXANDER , 凡 德 斯加 毛瑞斯 , VAN DER SCHAAR, MAURITS , 凡 可拉吉 馬可斯 傑拉度 馬堤司 瑪麗亞 , VAN KRAAIJ, MARKUS GERARDUS MARTINUS MARIA
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70633
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公开(公告)号：TWI600977B
公开(公告)日：2017-10-01
申请号：TW104141956
申请日：2015-12-14
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
CPC classification number: G06F17/5036 , G03F7/70416 , G03F7/70433 , G03F7/705 , G03F7/70941 , G06F2217/12
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