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公开(公告)号：KR1020170086269A
公开(公告)日：2017-07-26
申请号：KR1020160005900
申请日：2016-01-18
Applicant: 삼성전자주식회사
Inventor： 박준영
IPC: G06K13/08 , G06K7/00 , H01R12/71 , H04B1/3816
CPC classification number: H04B1/3818 , H04M1/026 , H04M1/0274
Abstract: 다양한실시예에따르면, 제 1 면, 상기제 1 면의반대로향하는제 2 면, 및상기제 1 면및 제 2 면사이의공간을적어도일부둘러싸는측면을포함하는하우징과, 상기하우징의측면의일부에형성된개구(opening)와, 상기개구와이어진홀(hole)과, 제 1 측면(first side surface), 상기제 1 측면의반대편의제 2 측면, 상기제 1 측면및 제 2 측면사이에연장된제 3 측면, 및상기제 3 측면의반대편에서상기제 1 측면및 제 2 측면사이에연장된제 4 측면을포함하고, 상기홀 내부에전체가삽입될수 있는길이를가지며, 상기홀로부터탈착가능한트레이와, 상기홀 내부에상기트레이의제 1 측면및/또는제 2 측면과실질적으로평행하게배치되고, 축을중심으로상기홀의바깥을향하는제 1 방향으로적어도일부회전가능하도록구성된제 1 고정구조및 상기홀 내부에서상기트레이를사이에두고상기트레이와접촉되지않도록수직으로배치되는제1, 2단자및 상기홀 내부에적어도일부가탄성을가지며상기제1, 2단자사이에서상기제1, 2단자와실질적으로접촉되며, 상기트레이의장착에따라유동되어상기제1, 2단자와실질적으로이격되도록배치되는도전성유동부재를포함하는것을특징으로하는전자장치를제공할수 있다. 그밖에다양한실시예가가능하다.
Abstract translation: 根据各种实施例，该第一表面，该壳体包括一个第二表面和侧表面是所述第一侧和两个表面之间的空间的一部分中，至少朝向第一侧相反的包围的外壳侧， 第一侧表面，与第一侧相对的第二侧，以及在第一侧和第二侧之间延伸的第二侧表面。 并且第四侧在第三侧的相对侧处在第一侧和第二侧之间延伸并且具有允许整体插入到孔中的长度， 的第一固定结构被构造和布置成基本平行于所述第一侧面和/或所述托盘的孔和所述托盘的所述内部的所述第二侧，以便至少是面绕所述轴线的第一方向上的外侧孔的一些旋转，并 托盘设置在孔中， 在第一，第二内端和所述孔，以便不处于垂直地设置在至少具有弹性的部分接触，并与第一和第二端子的第一和第二端子之间的接触基本上是，这取决于托盘的安装 并且导电流动构件流动并设置为与第一端子和第二端子基本上间隔开。 各种其他实施例是可能的。
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公开(公告)号：KR1020160068242A
公开(公告)日：2016-06-15
申请号：KR1020140173680
申请日：2014-12-05
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H03K19/0185
CPC classification number: H03D7/1441 , H03F3/45183 , H03F2203/45051 , H03F2203/45466 , H03F2203/45674 , H03F2203/45702 , H03K19/00361 , H03K19/0185 , H03K19/018507 , H03K19/018514
Abstract: 버퍼회로는제1 차동증폭기, 제2 차동증폭기, 제3 차동증폭기및 혼합기를포함한다. 제1 차동증폭기는입력신호및 기준전압신호에기초하여양성차동신호및 음성차동신호를생성한다. 제2 차동증폭기는양성차동신호및 음성차동신호에기초하여제1 신호를생성한다. 제3 차동증폭기는양성차동신호및 음성차동신호에기초하여제1 신호와위상이상이한제2 신호를생성한다. 혼합기는제1 신호와제2 신호를혼합한신호를출력신호로서출력한다.
Abstract translation: 缓冲电路包括：第一差分放大器，第二差分放大器，第三差分放大器和混频器。 第一差分放大器基于输入信号和参考电压信号产生正差分信号和负差分信号。 第二差分放大器基于正差分信号和负差分信号产生第一信号。 第三差分放大器基于正差分信号和负差分信号产生具有与第一信号不同的相位的第二信号。 混频器输出混合第一和第二信号作为输出信号的信号。
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公开(公告)号：KR1020140144056A
公开(公告)日：2014-12-18
申请号：KR1020130066034
申请日：2013-06-10
Applicant: 삼성전자주식회사
CPC classification number: G06F3/04845 , G06F3/0488 , G06F2203/04805
Abstract: 본 발명은 전자 장치의 객체 편집 방법 및 장치에 관한 것이다. 이때, 전자 장치의 객체 편집 방법은, 객체를 편집하기 위한 객체 편집 영역이 중첩되는지 확인하는 동작; 상기 객체 편집 영역이 중첩된 경우, 상기 객체 편집 영역을 확대하는 동작을 포함할 수 있다.
Abstract translation: 本发明涉及一种用于编辑对象的方法及其电子设备。 用于编辑对象的方法包括用于检查用于编辑对象的对象编辑域是否重叠的操作以及在对象编辑域重叠的情况下放大对象编辑域的操作。
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公开(公告)号：KR1020140142010A
公开(公告)日：2014-12-11
申请号：KR1020130063523
申请日：2013-06-03
Applicant: 삼성전자주식회사
CPC classification number: H04N5/23245 , H04N5/2258 , H04N5/23293 , H04N5/2628 , H04N5/272
Abstract: 본 개시는 영상 처리에 관한 것으로, 특히 본 개시는 제1 카메라 모듈 기반의 제1 영상을 수집하는 수집 동작, 상기 제1 영상 수집 이후 상기 제1 카메라 모듈을 비활성화함과 아울러 제2 카메라 모듈을 자동으로 활성화하는 활성화 동작, 상기 제2 카메라 모듈 기반의 제2 영상을 수집하는 제2 영상 수집 동작, 상기 제1 영상과 상기 제2 영상을 합성하여 합성 영상을 생성하는 생성 동작을 포함하는 듀얼 카메라 제어 방법 및 이를 지원하는 전자 장치의 구성을 개시한다.
Abstract translation: 所公开的发明涉及一种图像处理，更具体地，涉及一种双摄像机控制方法，其包括基于第一摄像机模块收集第一图像的收集动作，不仅在第一摄像机模块之后停用第一摄像机模块的激活动作 图像收集，还自动激活第二相机模块，基于第二相机模块收集第二图像的第二图像采集动作，以及通过将第一图像与第二图像合成而生成合成图像的生成动作和作品 的电子设备。
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公开(公告)号：KR1020140130872A
公开(公告)日：2014-11-12
申请号：KR1020130049386
申请日：2013-05-02
Applicant: 삼성전자주식회사
Inventor： 박준영
CPC classification number: G11C7/22 , G11C7/1051 , G11C7/20 , G11C2207/105
Abstract: 스트로브 신호 전달 장치는 비교부, 버퍼부 및 에지 검출부를 포함한다. 비교부는 스트로브 신호 및 레퍼런스 전압을 비교하여 비교 신호를 출력한다. 버퍼부는 스트로브 신호가 전달되는 스트로브 경로에 배치되고 인에이블 신호에 응답하여 동작한다. 에지 검출부는 비교 신호를 기초로 스트로브 신호에서 프리앰블(pre-amble) 구간의 에지를 검출하여 인에이블 신호를 발생한다. 따라서, 스트로브 신호를 이용하여 신호를 송수신하는 메모리 컨트롤러 및 반도체 메모리 장치에 사용될 수 있다.
Abstract translation: 选通信号传送装置包括比较单元，缓冲单元和边缘检测单元。 比较单元通过比较选通信号和参考电压来输出比较信号。 缓冲单元设置在选通信号中，选通信号被传送并且响应于使能信号而工作。 边缘检测单元通过基于比较信号检测选通信号中的前同步码段中的边沿来产生使能信号。 因此，选通信号传送装置可以用于使用选通信号传送和接收信号的存储器控制器和半导体存储器件。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1020110104324A
公开(公告)日：2011-09-22
申请号：KR1020100023407
申请日：2010-03-16
Applicant: 삼성전자주식회사 , 포항공과대학교 산학협력단
IPC: G01R31/319 , G01R31/3183 , G11C29/56
CPC classification number: G01R31/31922 , G11C29/56 , G11C29/56012
Abstract: 반도체 소자 및 테스트 장치에 관해 개시한다. 이를 위해 본 발명은, 제 1 클럭과 동기화된 직렬 커맨드(serial command)를 수신하고, 상기 직렬 커맨드를 병렬 커맨드(parallel command)로 변환하도록 구성된 커맨드 분배기(command distributor), 상기 병렬 커맨드를 수신하고, 상기 병렬 커맨드를 기초로 패턴 시퀀스(pattern sequence)를 생성하도록 구성된 커맨드 디코더(command decoder), 및 상기 패턴 시퀀스를 수신하여 제 2 클럭과 동기화된 동작 신호들을 생성하도록 구성된 신호 생성기(signal generator)를 포함하고, 상기 제 1 클럭의 주파수는 상기 제 2 클럭의 주파수보다 작은 것을 특징으로 하는 반도체 소자를 제공한다.
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公开(公告)号：KR1020080079494A
公开(公告)日：2008-09-01
申请号：KR1020070019749
申请日：2007-02-27
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/205
CPC classification number: H01L21/02115 , H01L21/02271 , H01L21/0332 , H01L21/31144 , H01L21/324
Abstract: A method for forming an amorphous carbon layer and a method for fabricating a pattern of a semiconductor device using the amorphous carbon layer are provided to reduce a formation speed of the amorphous carbon layer to improve hardness thereof by using a liquid amorphous carbon layer source. An etch-target layer is formed on a semiconductor substrate(F1). An amorphous carbon layer is formed on the semiconductor substrate having the etch-target layer by simultaneously injecting amorphous carbon gas using a liquid amorphous carbon layer source and carrier gas(F3). An insulating layer is formed on the semiconductor substrate having the amorphous carbon layer(F4). A photoresist pattern is formed on the semiconductor substrate having the insulating layer(F5). The insulating layer is etched by using the photoresist pattern as an etch mask to form an insulating pattern(F6). The amorphous carbon layer is etched by using the insulating pattern as an etch mask to form an amorphous carbon layer pattern(F7).
Abstract translation: 提供一种形成无定形碳层的方法和使用该无定形碳层制造半导体器件的图案的方法，以通过使用液体无定形碳层源来降低非晶碳层的形成速度以改善其硬度。 在半导体衬底（F1）上形成蚀刻目标层。 通过使用液体无定形碳层源和载气（F3）同时注入无定形碳气，在具有蚀刻靶层的半导体衬底上形成无定形碳层。 在具有无定形碳层（F4）的半导体衬底上形成绝缘层。 在具有绝缘层（F5）的半导体衬底上形成光刻胶图形。 通过使用光致抗蚀剂图案作为蚀刻掩模来蚀刻绝缘层以形成绝缘图案（F6）。 通过使用绝缘图案作为蚀刻掩模来蚀刻非晶碳层以形成无定形碳层图案（F7）。
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公开(公告)号：KR1020080069346A
公开(公告)日：2008-07-28
申请号：KR1020070006948
申请日：2007-01-23
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/027
CPC classification number: H01L21/0274 , H01L21/0234 , H01L21/308 , H01L21/31144
Abstract: A method for forming a pattern of a semiconductor device is provided to prevent defects in an amorphous carbon layer by removing particle sources on an underlying layer of the amorphous carbon layer. A method for forming a pattern of a semiconductor device comprises the steps of: forming(F1) a layer on a semiconductor substrate to be etched; processing(F2) oxygen plasma on the substrate having the layer to be etched; forming(F3) an amorphous carbon layer on the layer to be etched wherein the oxygen plasma is processed; fabricating(F4) an insulating layer on the substrate having the amorphous carbon layer; forming(F5) a photoresist pattern on the substrate having the insulating layer; forming(F6) an insulating layer pattern by etching the insulating layer with the photoresist pattern as an etching mask; and manufacturing(F7) the amorphous carbon layer pattern by etching the amorphous carbon layer with the insulating pattern as the etching mask.
Abstract translation: 提供了一种用于形成半导体器件的图案的方法，以通过去除非晶碳层的下层上的微粒来防止无定形碳层中的缺陷。 一种用于形成半导体器件的图案的方法包括以下步骤：在要蚀刻的半导体衬底上形成（F1）一层; 在具有待蚀刻层的基底上加工（F2）氧等离子体; 在待蚀刻的层上形成（F3）无定形碳层，其中处理氧等离子体; 在具有无定形碳层的基板上制造（F4）绝缘层; 在具有绝缘层的基板上形成（F5）光阻图案; 通过用光致抗蚀剂图案蚀刻绝缘层作为蚀刻掩模来形成（F6）绝缘层图案; 并且通过用绝缘图案蚀刻非晶碳层作为蚀刻掩模来制造（F7）无定形碳层图案。
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公开(公告)号：KR100712519B1
公开(公告)日：2007-04-27
申请号：KR1020050067285
申请日：2005-07-25
Applicant: 삼성전자주식회사
CPC classification number: G01R31/3171 , G11C29/02 , G11C29/022 , G11C29/50012 , G11C29/56
Abstract: 테스트 장비 내부에서 생성된 아이 마스크(eye mask)와 반도체 장치의 입출력 회로를 거친 테스트 신호의 파형을 분석하여 상기 입출력 회로 특성을 검출할 수 있는 테스트 장비가 제공된다. 상기 테스트 장비는, 서로 다른 위상을 갖는 하나 이상의 클럭신호에 동기하여 아이 마스크(eye mask)를 생성하기 위한 아이 마스크 생성부와, 상기 아이 마스크 생성부로부터 상기 아이 마스크를 수신하며, 상기 테스트 신호와 상기 아이 마스크를 비교하여 에러 여부를 검출하기 위한 에러 검출부 및 상기 에러 검출부로부터 출력된 에러 검출신호를 입력받아 이에 응답하여 에러 신호를 출력하는 에러 신호 출력부를 구비한다. 특히 상기 아이 마스크 생성부는, 상기 하나 이상의 클럭신호에 동기하여 서로 다른 위상을 갖는 하나 이상의 사인파(sine wave)를 생성하는 사인파 제너레이터(sine wave generator) 및 상기 하나 이상의 사인파를 입력받아 상기 사인파의 진폭을 제한하여 출력함으로써 상기 아이 마스크를 생성하는 리미터 회로(limiter circuit)를 구비하는 것을 특징으로 한다.
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公开(公告)号：KR1020070012996A
公开(公告)日：2007-01-30
申请号：KR1020050067285
申请日：2005-07-25
Applicant: 삼성전자주식회사
CPC classification number: G01R31/3171 , G11C29/02 , G11C29/022 , G11C29/50012 , G11C29/56
Abstract: A test device and a test method for detecting the characteristic of a circuit by using an eye mask are provided to properly apply the test device for a semiconductor device by reducing the eye mask generating time and to execute a precise test operation by separately calculating upper and lower eye masks. A test device(100) for receiving a signal output from a semiconductor device to be tested through a transmission line and detecting an error by analyzing an input test signal(Rx) includes: an eye mask generating unit(120) generating an eye mask in synchronization with at least one clock signal having different phases; an error detecting unit(130) receiving the eye mask from the eye mask generating unit and detecting an error by comparing the test signal with the eye mask; and an error signal output unit(140) receiving an error detection signal output from the error detecting unit and outputting an error signal in response to the error detection signal. The eye mask generating unit comprises a sine wave generator generating at least one sine wave having different phases in synchronization with at least one clock signal and a limiter circuit generating the eye mask by receiving at least one sine wave and outputting the sine wave with restricting the amplitude of the sine wave.
Abstract translation: 提供一种通过使用眼罩来检测电路的特性的测试装置和测试方法，以通过减少眼罩生成时间来适当地应用半导体器件的测试装置，并且通过分别计算上眼睛和/ 下眼罩 一种用于通过传输线接收从待测试的半导体器件输出的信号并通过分析输入测试信号（Rx）来检测误差的测试装置（100），包括：眼罩生成单元（120），其生成眼罩 与具有不同相位的至少一个时钟信号同步; 从所述眼罩生成单元接收所述眼罩的误差检测单元，通过将所述测试信号与所述眼罩进行比较来检测误差; 以及误差信号输出单元（140），接收从误差检测单元输出的误差检测信号，并响应于误差检测信号输出误差信号。 眼罩生成单元包括正弦波发生器，其产生与至少一个时钟信号同步的具有不同相位的至少一个正弦波，以及限制器电路，通过接收至少一个正弦波并输出正弦波，限制 正弦波的振幅。
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