公开(公告)号：KR1020070075673A

公开(公告)日：2007-07-24

申请号：KR1020060004203

申请日：2006-01-14

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 하주영 ,  이재승 ,  함경희 ,  이혜란 ,  김정한 ,  신영식 ,  임창학 ,  윤원재 ,  임정수 ,  김용한

IPC: F25D29/00 ,  F25D23/00 ,  F25D11/00

CPC classification number: F25D31/007 ,  A23G9/045 ,  A23G9/228 ,  F25D29/00 ,  F25D2700/08

Abstract: A control method of an overcooling apparatus is provided to prevent liquid beverages from being frozen in an overcooling process by storing the respective liquid beverages at proper overcooling temperature, and to prevent slush strength from being changed depending on kinds of the liquid beverages. A control method of an overcooling apparatus having a storage room comprises the steps of checking liquid beverages put in the storage room(30), obtaining proper overcooling temperature of the liquid beverages(40), and making temperature of the storage room to become the obtained proper overcooling temperature(50).

Abstract translation: 提供了一种过冷却装置的控制方法，以通过将各种液体饮料储存在适当的过冷却温度下，防止液体饮料在过冷却过程中冻结，并且防止根据液体饮料的种类而改变浆液强度。 具有储藏室的过冷却装置的控制方法包括：检查放置在储藏室（30）中的液体饮料，获得液体饮料（40）的适当的过冷却温度，使储藏室的温度变为所得的步骤 适当的过冷却温度（50）。

公开(公告)号：KR100676325B1

公开(公告)日：2007-01-30

申请号：KR1020050021277

申请日：2005-03-15

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 임정수 ,  김태성 ,  하상경 ,  김태진

IPC: H04N5/655

CPC classification number: F16M11/2021 ,  F16M11/10 ,  F16M2200/08

Abstract: 본 발명은, 화상이 형성되는 디스플레이부와, 상기 디스플레이부를 지지하는 베이스부를 포함하는 디스플레이장치에 관한 것으로서, 일측은 상기 디스플레이부에 대해 회동가능하게 결합되고, 타측은 상기 베이스부에 대해 착탈가능하게 결합되는 스탠드부와; 상기 스탠드부와 상기 베이스부 중 어느 하나에 마련되는 걸림부와, 상기 스탠드부와 상기 베이스부 중 다른 하나에 마련되며, 상기 걸림부에 맞물려 상기 스탠드부와 상기 베이스부의 분리를 저지하고 상기 걸림부로부터 물림해제되어 상기 스탠드부와 상기 베이스부의 분리를 허용하는 물림유닛을 갖는 록킹수단을 포함하는 것을 특징으로 한다. 이에 의하여, 베이스부와 스탠드부를 간편하게 결합 및 분리시킬 수 있을 뿐만 아니라 베이스부와 스탠드부가 외부충격에 의해 임의로 분리되는 것을 방지할 수 있는 디스플레이장치가 제공된다. 또한, 포장 시에는 베이스부와 스탠드부를 간편하게 분리하여 포장부피를 줄일 수 있는 디스플레이장치가 제공된다.

公开(公告)号：KR1020040100548A

公开(公告)日：2004-12-02

申请号：KR1020030032950

申请日：2003-05-23

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 하상경 ,  김주환 ,  임정수 ,  김동혁

IPC: G06F1/16

CPC classification number: F16M11/105 ,  F16M11/2014 ,  F16M11/30 ,  F16M2200/048 ,  G09F7/20 ,  Y10S248/917

Abstract: PURPOSE: A display device to adjust a height of a display main body is provided to fix the display main body to a desired position even if a weight of the display main body is changed. CONSTITUTION: The display main body displays a screen. A lifter(40) is joined to the display main body by installing on a base plate(20) and adjusts the height of the display main body. A spiral spring(50) is joined to the lifter and supports the weight of the display main body by being expanded/shrunk according to lift of the lifter. A supporter(60) is joined to the spiral spring and adjusts expansion or shrinkage of the spiral spring by rotation. A friction part(70) is installed to the supporter in order to contact with the spiral spring. Even if the weight of the display main body is changed, the friction part keeps the position constant by generating a constant frictional force when the supporter is rotated.

Abstract translation: 目的：提供用于调节显示器主体的高度的显示装置，即使显示主体的重量发生变化，也将显示器主体固定到期望的位置。 构成：显示屏主体显示屏幕。 升降器（40）通过安装在基板（20）上而连接到显示器主体并调节显示器主体的高度。 螺旋弹簧（50）与升降机接合，并通过根据升降机的升力而扩展/收缩来支撑显示器主体的重量。 支撑件（60）连接到螺旋弹簧，并通过旋转来调节螺旋弹簧的膨胀或收缩。 为了与螺旋弹簧接触，摩擦部件70安装在支撑件上。 即使显示器主体的重量改变，当支撑件旋转时，摩擦部分通过产生恒定的摩擦力来保持位置不变。

公开(公告)号：KR1020020014217A

公开(公告)日：2002-02-25

申请号：KR1020000047386

申请日：2000-08-17

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 임정수 ,  문강욱 ,  손용운 ,  권흥안

IPC: H01L21/31

CPC classification number: C30B25/105 ,  C30B31/12

Abstract: PURPOSE: An apparatus for forming a thin film having a reflection unit is provided to prevent contamination particles from being dropped to a wafer, by forming the reflection unit on a susceptor such that the reflection unit reflects heat energy radiated from the susceptor to the wafer. CONSTITUTION: A wafer loading region(43) is formed on a wafer heating unit(40). A shower head(52) sprays source gas capable of reaching the surface of the wafer when the wafer is loaded to the wafer loading region, installed in a position facing the wafer loading region. The reflection unit(44) reflects the heat energy radiated from the wafer loading region to the wafer loading region, installed between the shower head and the wafer heating unit. A pumping unit(56) controls the inner pressure of a chamber(38) including the wafer heating unit, the shower head and the reflection unit, and exhausts reaction byproducts generated inside the chamber to the outside of the chamber.

Abstract translation: 目的：提供一种用于形成具有反射单元的薄膜的装置，以通过在基座上形成反射单元使得反射单元将从基座辐射的热能反射到晶片来防止污染颗粒落到晶片上。 构成：在晶片加热单元（40）上形成晶片加载区（43）。 当晶片装载到晶片装载区域时，喷头（52）喷射能够到达晶片表面的源气体，该晶片装载区域安装在面向晶片装载区域的位置。 反射单元（44）将从晶片加载区域辐射的热能反射到安装在淋浴喷头和晶片加热单元之间的晶片装载区域。 泵送单元（56）控制包括晶片加热单元，淋浴头和反射单元的腔室（38）的内部压力，并且将在室内产生的反应副产物排出到腔室的外部。

公开(公告)号：KR1020010009000A

公开(公告)日：2001-02-05

申请号：KR1019990027119

申请日：1999-07-06

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 임정수 ,  김경수

IPC: H01L21/205

Abstract: PURPOSE: An exhaust system of a low pressure chemical vapor deposition equipment is provided to remove a material layer formed on an inner face of an exhaust line by using two pressure control devices. CONSTITUTION: An exhaust system of a low pressure chemical vapor deposition equipment comprises an exhaust line(23), a vacuum pump(17) and two pressure control devices(25,26). One end portion of the exhaust line(23) is connected with an exhaust hole(11) of a process chamber(10). The other end portion of the exhaust line(23) is connected with the vacuum pump(17). The pressure control devices(25,26) are installed at a location adjacent to the exhaust hole(11) of the exhaust line(23) and the vacuum pump(17). The pressure control device(26) of the vacuum pump(17) is opened when the chemical vapor deposition process is performed. The pressure control device(25) of the exhaust hole(11) is opened when the cleaning gas is provided.

Abstract translation: 目的：提供一种低压化学气相沉积设备的排气系统，通过使用两个压力控制装置去除在排气管内表面上形成的材料层。 构成：低压化学气相沉积设备的排气系统包括排气管路（23），真空泵（17）和两个压力控制装置（25,26）。 排气管路（23）的一端与处理室（10）的排气孔（11）连接。 排气管路（23）的另一端与真空泵（17）连接。 压力控制装置（25,26）安装在与排气管路（23）和真空泵（17）的排气孔（11）相邻的位置处。 当执行化学气相沉积处理时，真空泵（17）的压力控制装置（26）打开。 当设置清洁气体时，排气孔（11）的压力控制装置（25）打开。

公开(公告)号：KR2020000000731U

公开(公告)日：2000-01-15

申请号：KR2019980010262

申请日：1998-06-15

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 임정수

IPC: E05D11/10

Abstract: 외주면에 관통공이 형성된 원통형 고정부재와; 고정부재 내에 삽입결합되며, 직경방향으로 탄성변형가능한 원통판과; 고정부재와 원통판 사이에 설치되며, 관통공을 통해 고정부재 외부로 돌출되는 돌출부를 가지는 록킹부재와; 고정부재의 외주면에 회전가능하게 결합되며. 그 내주면에 고정부재에 대한 상대회전을 억제하기 위해 록킹부재가 삽입되는 홈이 소정간격으로 다수개 형성된 회전부재;를 포함하는 것을 특징으로 하는 힌지장치가 개시된다.

公开(公告)号：KR2019990040927U

公开(公告)日：1999-12-06

申请号：KR2019980007624

申请日：1998-05-11

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 임정수

IPC: H01R4/64

Abstract: 컴퓨터용 모니터장치나 텔레비젼 세트 등의 전자기기에 내장되는 인쇄회로기판의 실장 전자부품과 전기적으로 연결되는 접지용 와이어와, 인쇄회로기판을 지지하는 프레임 샤시의 몸체 일단으로 돌출되며 통공을 가지도록 형성된 단자편과, 접지용 와이어의 끝단부에 마련되어 상기 단자편의 통공과 결합되는 접지단자로서, 1쌍의 탄성체가 나란하게 배열되는 1쌍의 다이아몬드형상을 이루도록 상호 이격 및 근접되게 대칭적으로 절곡된 복수의 절곡부를 가지며, 상기 통공의 간섭에 의해 탄성변형됨으로써 그 통공으로 삽입된후 원상으로 복귀되어 상기 통공과 상보적으로 결합되도록 형성된 접지단자를 포함하는 전자부품 접지장치가 개시된다.

公开(公告)号：KR1019990031438A

公开(公告)日：1999-05-06

申请号：KR1019970052148

申请日：1997-10-10

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 임정수

IPC: H03K17/0424

Abstract: 본 발명은 전원 공급 제어 회로에 관한 것으로, 전원 전압과 배터리 전원을 공급받는 전기적인 회로의 고유 특성을 유지하기 위하여 전원 전압이 공급되면 배터리 전원을 차단하기 위한 기준 전압을 발생하는 기준 전압 발생 회로와, 전원 전압이 공급/차단됨에 따라 전기적 회로에 배터리 전원을 차단/공급하기 위한 제어 전압을 발생하는 스위칭 제어 회로와, 상기 제어 전압에 응답해서 전원 전압을 공급/차단하는 전압 팔로우어(voltage follower) 회로 및 전원 전압이 차단되면 배터리 전원을 전기적 회로로 제공하는 다이오드를 구비한다. 따라서 전압원의 변동에 따른 불안정한 전압을 제어하여 안정된 전원 전압을 공급한다.

公开(公告)号：KR102229350B1

公开(公告)日：2021-03-18

申请号：KR1020140098405

申请日：2014-07-31

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 임정수 ,  김경목 ,  이규선 ,  김현숙

IPC: F24C15/20 ,  B01D46/10

Abstract: 조리기기및 그제어방법에관한발명으로, 보다상세하게파이로클리닝(pyro-cleaning) 시발생되는가스및 매연을효율적으로포집할수 있는필터를포함하는조리기기및 그제어방법에관한발명이다. 일실시예에따른조리기기는내부에조리실이형성된본체와, 조리실내부의가스를본체외부로배출하는벤트부와, 조리실및 벤트부중 적어도하나에설치되며조리실에서발생된가스또는매연을포집하는필터를포함하고, 필터는금속시트를포함한다.

公开(公告)号：KR1020160015750A

公开(公告)日：2016-02-15

申请号：KR1020140098405

申请日：2014-07-31

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 임정수 ,  김경목 ,  이규선 ,  김현숙

IPC: F24C15/20 ,  B01D46/10

CPC classification number: F24C15/2014

Abstract: 조리기기및 그제어방법에관한발명으로, 보다상세하게파이로클리닝(pyro-cleaning) 시발생되는가스및 매연을효율적으로포집할수 있는필터를포함하는조리기기및 그제어방법에관한발명이다. 일실시예에따른조리기기는내부에조리실이형성된본체와, 조리실내부의가스를본체외부로배출하는벤트부와, 조리실및 벤트부중 적어도하나에설치되며조리실에서발생된가스또는매연을포집하는필터를포함하고, 필터는금속시트를포함한다.

Abstract translation: 本发明涉及一种烹调设备及其控制方法。 更具体地，本发明涉及一种烹饪设备，其包括有效地收集在热清洁过程中产生的气体和烟雾的过滤器以及用于控制烹饪设备的方法。 根据一个实施例，烹饪设备包括：主体，具有内部烹饪室; 排气单元将烹饪室内的气体排出到主体的外部; 并且所述过滤器安装在所述烹饪室和所述排气单元中的至少一个中并且收集在所述烹饪室中产生的气体或烟雾。 此外，过滤器包括金属片。