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    다층박막에 의해 형성된 팽창 흡수막을 이용한 반도체 소자의 금속 배선 제작 방법
    31.
    发明公开
    다층박막에 의해 형성된 팽창 흡수막을 이용한 반도체 소자의 금속 배선 제작 방법 有权
    半导体器件金属线的制造方法使用层间薄膜形成的扩展吸收膜

    公开(公告)号：KR1020140108809A

    公开(公告)日：2014-09-15

    申请号：KR1020130022267

    申请日：2013-02-28

    Applicant: 국민대학교산학협력단

    Inventor： 이재갑 ,  한정석 ,  정대균

    IPC: H01L21/28 ,  H01L21/312

    CPC classification number: H01L21/76831 ,  H01L21/76822 ,  H01L21/76832

    Abstract: The present invention relates to a method for manufacturing a metal line using an expansive absorbing film formed by multi-layered thin films, comprising a step for preparing a base material where a pattern is formed; a step for arranging one or more layers of an organic matter layer on the base material where the pattern is formed; and a step for filling inside the pattern of the base material by absorbing metal on the organic matter layer.

    Abstract translation: 本发明涉及一种使用由多层薄膜形成的膨胀吸收膜制造金属线的方法，包括制备形成图案的基材的步骤; 在形成图案的基材上排列一层或多层有机物层的工序; 以及通过在有机物层上吸收金属填充基材的图案内的步骤。

    자기조립 단분자막의 표면 개질을 이용한 패턴의 전사 방법
    32.
    发明公开
    자기조립 단분자막의 표면 개질을 이용한 패턴의 전사 방법 无效
    使用自组装单色机进行修改的图案传输方法

    公开(公告)号：KR1020140099409A

    公开(公告)日：2014-08-12

    申请号：KR1020130012071

    申请日：2013-02-01

    Applicant: 국민대학교산학협력단

    Inventor： 이재갑 ,  이영규 ,  정대균

    IPC: H01L21/027

    CPC classification number: H01L21/0273 ,  H01L21/02252 ,  H01L21/02315

    Abstract: The present application relates to a method for transferring a solvent pattern which comprises the steps of: forming a hydrophilic self-assembling monolayer having hydrophilicity to a substrate; obtaining a patterned mold; forming a hydrophilic solvent pattern on a surface of the patterned mold by applying a hydrophilic solvent to the patterned mold; and transferring the hydrophilic solvent pattern of the mold to the substrate by enabling the mold having the hydrophilic solvent pattern to come into contact with the substrate in which the hydrophilic self-assembling monolayer is formed.

    Abstract translation: 本申请涉及一种转移溶剂图案的方法，包括以下步骤：形成亲水性亲水性的单层至基材; 获得图案模具; 通过向图案化的模具施加亲水性溶剂，在图案化模具的表面上形成亲水性溶剂图案; 并且通过使具有亲水性溶剂图案的模具与形成有亲水性自组装单层的基材接触，将模具的亲水性溶剂图案转印到基材上。

    반도체소자 및 그 형성 방법
    33.
    发明公开
    반도체소자 및 그 형성 방법 有权
    半导体器件及其形成方法

    公开(公告)号：KR1020130030478A

    公开(公告)日：2013-03-27

    申请号：KR1020110093980

    申请日：2011-09-19

    Applicant: 국민대학교산학협력단

    Inventor： 이재갑 ,  이치영 ,  한정석

    IPC: H01L21/28 ,  H01L21/768

    Abstract: PURPOSE: A semiconductor device and a forming method thereof are provided to improve reliability by forming a diffusion preventing layer using a self-assembled monolayer. CONSTITUTION: A self-assembled monolayer(110) is formed on a semiconductor substrate and is made of a mixture. The mixture includes thiol group in one side thereof and one of carboxyl group, carbonyl group, and hydroxyl group in the other side thereof. A metal layer(120) is formed on the self-assembled monolayer.

    Abstract translation: 目的：提供半导体器件及其形成方法，以通过使用自组装单层形成扩散防止层来提高可靠性。 构成：在半导体衬底上形成自组装单层（110）并由混合物制成。 该混合物在其一侧包含硫醇基团，另一侧包含羧基，羰基和羟基中的一个。 金属层（120）形成在自组装单层上。

    레이저 화학기상 증착법을 사용한 코발트막 형성방법 및 레이저 화학기상 증착 장치
    39.
    发明授权
    레이저 화학기상 증착법을 사용한 코발트막 형성방법 및 레이저 화학기상 증착 장치 有权
    激光化学气相沉积钴膜的形成和激光化学气相沉积

    公开(公告)号：KR101839212B1

    公开(公告)日：2018-03-16

    申请号：KR1020160087176

    申请日：2016-07-08

    Applicant: 국민대학교산학협력단

    Inventor： 이재갑 ,  정대균 ,  정경훈 ,  이지원

    IPC: C23C16/48 ,  C23C16/16 ,  C23C16/448 ,  C23C16/52 ,  C23C16/458

    Abstract: 레이저화학기상증착법을사용한코발트막형성방법을제공한다. 본발명에따른코발트막형성방법은기판상에 Co(CO)가스및 캐리어가스를공급하는단계및 기판상에공급된 Co(CO)가스에레이저빔을가하여상기 Co(CO)가스의열분해및/또는광분해통해기판상에코발트막을증착하는단계를포함할수 있다. 본발명에따르면, 특정증착조건에서의레이저화학기상증착공정을통하여우수한전기전도도와순도를가지는 Co(코발트) 박막을증착할수 있다. 또한, 직접적인묘사(writing)가가능한레이저화학기상증착법을통하여보다간단한선택적패턴형성이가능하도록한다. 나아가, 고해상도디스플레이패널에적용이가능한좁은선 폭과낮은비저항을갖는디스플레이패널의수리공정을제공할수 있다.

    Abstract translation: 提供了一种使用激光化学气相沉积形成钴膜的方法。 根据本发明的形成钴膜的方法包括以下步骤：将Co（CO）气体和载气提供到基板上，并且将激光束施加到提供在基板上的Co（CO）气体以分解和/ 或通过光解在基底上沉积钴膜。 根据本发明，可以在特定的沉积条件下通过激光化学气相沉积工艺沉积具有优异的导电性和纯度的Co（钴）薄膜。 另外，可以通过激光化学气相沉积来实现更简单的选择性图案形成，这允许直接书写。 此外，可以提供适用于高分辨率显示面板的具有窄线宽和低电阻率的显示面板的修复过程。

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