Abstract:
본 발명은 부착 세포와 부유 세포를 대상으로 파장가변 광원/적외선센서를 이용하여 세포의 적외선 관련 특성을 분석 관찰이 가능할 뿐만 아니라 세포내 특정 물질을 정량화하여 세포의 대사 작용을 측정할 수 있는 장치에 관한 것이다. 부가적으로 가시광 현미경과 결합하여 적외선 특성 분석 대상이 되는 세포의 위치를 파악할 수 있도록 하는 장치에 관한 것이다. 적외선, 세포, 이동, 실시간
Abstract:
본 발명은 강유전체 결정의 비선형 특성을 이용한 파장가변기를 제작함에 있어 광도파로 기술, 분극반전기술, 정밀가공 기술, 온도제어 기술, EO특성에 의한 미세 광굴절 변환 기술 및 마이크로 렌즈 집적화 기술을 접목함으로써 소형, 저가격, 생산성 및 저전력 구동의 에 의한 파장변환 장치에 대한 것이다. 본 발명에 의한 파장변환 장치는 광도파로 및 주기적 분극 반전 패턴을 포함하는 비선형 매질의 강유전체 결정 기판, 상기 광도파로와 분극 반전 패턴 상의 버퍼층, 상기 강유전체 결정 기판과 버퍼층의 일 측면에 형성된 앵글 폴리싱 면, 상기 앵글 폴리싱 면 상에 형성된 코팅층, 온도제어부 그리고 서브마운트를 포함하는 비선형 칩, 광원 및 위 앵글 폴리싱 면의 반대 방향에 위치하고 상기 광원과 상기 광원 사이에 위치하는 집속 렌즈를 포함한다. 광도파로, 파장 변환, 분극 반전, 2차조화파, 앵글 폴리싱
Abstract:
본 발명은 LiNbO 3 , LiTaO 3 , MgO:LiNbO 3 , ZnO:LiNbO 3 등과 같은 강유전체기판을 이용한 초소형 고효율 도파관을 제작하는 방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 유사위상정합 도파관의 제조방법은 강유전체 기판상에 일정간격으로 분극 영역을 형성하는 단계; 상기 분극 영역상에 건식식각공정을 통하여 도파관을 형성하는 단계; 상기 도파관에 더미기판을 접합하는 단계; 및 상기 강유전체 기판을 평탄화하는 단계를 포함할 수 있다. 따라서, 본 발명의 제조방법에 따라 제조된 강유전체 도파관은 종래의 열처리 공정을 생략함으로써, 비선형 특성의 손실을 막을 수 있으며, 순수 강유전체만을 도파관으로 이용함으로써, 파장변환소자의 고효율 및 소형화의 구현이 가능하다. 강유전체, 주기적 분극, 도파관
Abstract:
본 발명은 집적형 광변조기 및 그 제작 방법에 관한 것으로, 보다 자세하게는 양측파대(double side band) 변조방식의 반송파대역변조기와 단측파대(single side band) 변조방식의 중간주파수대역변조기를 포함하는 색분산이 없는 집적형 광변조기 및 그 제작 방법에 관한 것이다. 본 발명의 집적형 광변조기 및 그 제작 방법은 양측파대 변조방식의 반송파 대역 변조기와 단측파대 변조방식의 중간주파수 대역 변조기가 직렬연결된 구조인 것에 기술적 특징이 있다. 광변조기, 양측파대 변조, 단측파대 변조, 분극 반전, 색분산
Abstract:
본 발명은 가변 광 감쇠기에 관한 것으로, 개량된 구조를 가지는 하나의 이심 광 콜리메이터와 비교적 저렴한 비용의 고반사율의 반사미러를 사용해 파장의존손실을 줄이며 반사미러를 전/후 방향으로 이송가능하도록 함으로써 소형화 제작이 가능한데, 이를 위해 첫 번째로 하나의 이심 광 콜리메이터의 광축 방향으로 반사미러를 설치하고 모터구동에 따라 반사미러를 홀딩하고 있는 소정의 이송수단을 전/후 방향으로 움직여 그와 연동적으로 반사미러를 이동시킴으로 그를 통해 광 출력 링크로 집광되는 광량을 가변적으로 조절할 수 있도록 하고, 두 번째로, 반사미러를 홀딩하고 있는 소정의 지지수단을 스크류로 나사결합시켜 사용자가 직접 그 지지수단과 나사결합된 스크류를 원주방향으로 회전시키도록 함으로써 원하는 거리만큼 반사미러를 수동으로 이송시킬 수 있게 되어 그를 통해 광 출력 링크로 집광되는 광의 양을 가변적으로 조절할 수 있도록 한다. 가변, 광, 감쇠기
Abstract:
본 발명은 가변 광 감쇠기에 관한 것으로, 개량된 구조를 가지는 하나의 이심 광 콜리메이터와 비교적 저렴한 비용의 고반사율의 반사미러를 사용해 파장의존손실을 줄이며 반사미러를 전/후 방향으로 이송가능하도록 함으로써 소형화 제작이 가능한데, 이를 위해 첫 번째로 하나의 이심 광 콜리메이터의 광축 방향으로 반사미러를 설치하고 모터구동에 따라 반사미러를 홀딩하고 있는 소정의 이송수단을 전/후 방향으로 움직여 그와 연동적으로 반사미러를 이동시킴으로 그를 통해 광 출력 링크로 집광되는 광량을 가변적으로 조절할 수 있도록 하고, 두 번째로, 반사미러를 홀딩하고 있는 소정의 지지수단을 스크류로 나사결합시켜 사용자가 직접 그 지지수단과 나사결합된 스크류를 원주방향으로 회전시키도록 함으로써 원하는 거리만큼 반사미러를 수동으로 이송시킬 수 있게 되어 그를 통해 광 출력 링크로 집광되는 광의 양을 가변적으로 조절할 수 있도록 한다.
Abstract:
PURPOSE: A multi-channel wavelength locker and a locking method thereof are provided to perform a wavelength locking operation of multi-channel without accurately control environmental factor, such as temperature. CONSTITUTION: A multi-channel wavelength locker includes a polarization beam splitter(110), a wavelength filter(120), a linear polarizer(130), a plurality of detectors(141,143), and a stabilizer circuit(150). The polarization beam splitter(110) is used for splitting an optical signal into two linear-polarized beams when receiving the optical signal. The wavelength filter(120) is used for transmitting the beams having different polarization according to the wavelengths. The linear polarizer(130) is used for transmitting selectively only the linear-polarized beams from the wavelength filter(120) to a desired optical axis. The detectors(141,143) are used for measuring the intensity of the beams the polarization beam splitter(110) and the linear polarizer(130). The stabilizer circuit(150) is used for comparing the intensity of the beams detected by the detectors(141,143) and outputting a feedback signal to a light source according to the compared result.
Abstract:
The present invention relates to a printing pattern forming method and a device thereof and, more particularly, to a method to manufacture an electronic element by applying a multi-resolution pattern manufacturing technology. To achieve this purpose, the printing pattern forming method includes a step of coding ink on a printing pattern by rotating a part of a printing roll forming the printing pattern in a solution tub containing the ink; a step of coding the ink coded on the printing pattern on a printing film supplied between pressurizing rolls rotating by being attached to the printing roll; a step of drying the printing pattern after forming a mask on the top of an area on which a fine printing pattern having a relatively thinner width is formed in the printing pattern coded on the printing film; and a step of forming a fine pattern on an area on which the fine printing pattern is formed by using a laser patterning device.
Abstract:
PURPOSE: An evanescent wave surface sensor and a manufacturing method thereof are provided to improve sensitivity and measurement efficiency since surface variation is measured by interference change of light according to surface variation. CONSTITUTION: An evanescent wave surface sensor comprises a lower clad layer(120), a core layer(130), and an upper clad layer(140). The lower clad layer is installed on the upper part of a substrate(110). The core layer is formed on upper side of the lower clad layer. The upper clad layer exposes the upper side of the core layer. An optical waveguide is formed on the upper clad layer. The upper clad layer is formed on the lower clad layer and the core layer.
Abstract:
PURPOSE: A method of bonding a first substrate and a second substrate which is used in a waveguide manufacturing is provided to adhere a substrate having a periodically reversed pole to a lower substrate without a thickness variation by utilizing the organic bonding agent. CONSTITUTION: A fist substrate(1b) with a periodically reversed pole and a second substrate(3b) to be bonded are washed. The cleaning process comprises the steps of sequentially washing using the acetone, the H2O:H2O2:H2SO4, and the H2O:H2O2:HCL solution and the step of drying using DI water rinse and argon gas. A SiO2 film with thickness of about 100 ~ 500nm is deposited on a surface(1a) of the first substrate by the sputtering, the chemical vapor deposition, and the vapor deposition.
Abstract translation:目的:提供一种接合在波导制造中使用的第一基板和第二基板的方法,其通过利用有机粘合剂将具有周期性反转的极的基板附着到下基板而没有厚度变化。 构成:洗涤具有周期性反转极的第一基板(1b)和待接合的第二基板(3b)。 清洗方法包括以下步骤:使用丙酮,H 2 O:H 2 O 2 :H 2 SO 4和H 2 O:H 2 O 2 :HCl溶液顺序洗涤,并使用去离子水冲洗和氩气干燥步骤。 通过溅射,化学气相沉积和气相沉积,在第一衬底的表面(1a)上沉积厚度约为100〜500nm的SiO 2膜。