양쪽성 용매 함유 흑연산화물 코팅액 제조 방법 및 흑연산화물 코팅물 제조 방법
    31.
    发明授权
    양쪽성 용매 함유 흑연산화물 코팅액 제조 방법 및 흑연산화물 코팅물 제조 방법 有权
    两亲溶剂型石墨氧化物涂层剂制造方法石墨氧化物涂层制造方法

    公开(公告)号:KR101581449B1

    公开(公告)日:2015-12-30

    申请号:KR1020130168265

    申请日:2013-12-31

    Inventor: 허승헌 송철규

    Abstract: 본발명은흑연산화물표면의물분자를열처리없이원하는용매로치환함으로써흑연산화물의판형구조가유지되는흑연산화물코팅액제조방법및 이를기반으로한 흑연산화물코팅물제조방법에관한것이다. 본발명은「(a) 흑연을산화시켜수계흑연산화물슬러리를제조하는단계; (b) 상기수계흑연산화물슬러리에과량의양쪽성용매를투입한용액을제조하는단계; (c) 상기용액에분자단위충격파를제공하는단계; 및 (d) 상기 (b)단계내지 (c)단계를 2회이상반복하여코팅액을제조하는단계; 를포함하는것을특징으로하는양쪽성용매함유흑연산화물코팅액제조방법」을제공한다.

    공용매 함유 흑연산화물 코팅액 제조 방법 및 흑연산화물 코팅물 제조 방법
    32.
    发明授权
    공용매 함유 흑연산화물 코팅액 제조 방법 및 흑연산화물 코팅물 제조 방법 有权
    含氧化石墨涂料的共溶剂制备方法石墨氧化物涂层的制造方法

    公开(公告)号:KR101575221B1

    公开(公告)日:2015-12-09

    申请号:KR1020130168268

    申请日:2013-12-31

    Inventor: 허승헌 송철규

    Abstract: 본발명은흑연산화물표면의물분자를열처리없이원하는용매로치환함으로써흑연산화물의판형구조가유지되는흑연산화물코팅액제조방법및 이를기반으로한 흑연산화물코팅물제조방법에관한것이다. 본발명은「(a) 흑연을산화시켜수계흑연산화물슬러리를제조하는단계; (b) 상기수계흑연산화물슬러리에과량의양쪽성용매를투입한용액을제조하는단계; (c) 상기용액에분자단위충격파를제공하는단계; (d) 상기 (b)단계내지 (c)단계를 2회이상반복하여코팅액을제조하는단계; 및 (e) 상기코팅액에정량의공용매를첨가하는단계; 를포함하는것을특징으로하는공용매함유흑연산화물코팅액제조방법」을제공한다.

    레이저 스크라이빙 기술을 이용한 투명전도막 미세 패터닝 방법
    35.
    发明公开
    레이저 스크라이빙 기술을 이용한 투명전도막 미세 패터닝 방법 有权
    使用激光扫描的精细TCO绘图方法

    公开(公告)号:KR1020140021138A

    公开(公告)日:2014-02-20

    申请号:KR1020120086692

    申请日:2012-08-08

    CPC classification number: Y02E10/542 Y02P70/521

    Abstract: The present invention relates to a patterning method to form a leading wire having a line width no wider than 30μm from a transparent conducting oxide coated on a substrate using a laser beam. Provided in the present invention is a fine patterning method for a transparent conducting oxide using laser scribing which includes: (a) a phase for preparing a substrate coated with a transparent conducing oxide; (b) a phase for rounding off the transparent conducing oxide, leaving with a flank around the transparent conducing wire portion using a broad-width laser beam; and (c) a phase for rounding off the flank with a narrow-width laser beam. [Reference numerals] (AA) FTO film(top); (BB) FTO film; (CC) Cross section; (DD) Substrate(PI, glass, plastic, ceramic, metal); (EE) FTO laser etching; (FF) FTO etched part(scribbing)

    Abstract translation: 本发明涉及一种使用激光束从涂覆在基板上的透明导电氧化物形成线宽不大于30μm的引线的图案化方法。 在本发明中提供了一种使用激光划线的透明导电氧化物的精细图案化方法,其包括:(a)用于制备涂覆有透明导电氧化物的基底的相; (b)用于使透明导电氧化物四舍五入的相位,使用宽幅激光束在透明导电线部分周围留下一个侧面; 和(c)用窄宽度激光束使侧面倒圆的相位。 (附图标记)(AA)FTO膜(顶部); (BB)FTO电影; (CC)截面; (DD)基材(PI,玻璃,塑料,陶瓷,金属); (EE)FTO激光蚀刻; (FF)FTO蚀刻部分(划线)

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