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公开(公告)号：KR100376166B1
公开(公告)日：2003-03-15
申请号：KR1019990037637
申请日：1999-09-06
Applicant: 한국전자통신연구원
IPC: G02B6/02
Abstract: PURPOSE: A device of flame hydrolysis deposition(FHD) for manufacturing a fiber-optic amplifier is provided to supply Eribum(Er) and Ytterbium(Yb) in the state of liquid through a pipe into the FHD reaction chamber to control the temperature. CONSTITUTION: In a device of flame hydrolysis deposition(FHD) for manufacturing fiber-optic amplifier, a supplier of reaction gas(11) supplies an FHD reaction chamber(12) with liquid reaction gas, inactive gas for transferring the liquid reaction gas and gas used for FHD. The liquid reaction gas undergoes FHD in a FHD reaction chamber(12). A thermostat(13) provides the FHD reaction chamber(12) with solid fuel evaporated by heat. An aerosol generator(14) provides the FHD reaction chamber with dissolved Erbium(Er) and Ytterbium(Yb).
Abstract translation: 目的：提供用于制造光纤放大器的火焰水解沉积（FHD）装置，以通过管道将液态的Eribum（铒）和镱（Yb）供应到FHD反应室中以控制温度。 构成：在用于制造光纤放大器的火焰水解沉积（FHD）装置中，反应气体（11）的供应者向FHD反应室（12）供应液态反应气体，惰性气体用于将液态反应气体和气体 用于FHD。 液态反应气体在FHD反应室（12）中经历FHD。 恒温器（13）为FHD反应室（12）提供热量蒸发的固体燃料。 气溶胶发生器（14）为FHD反应室提供溶解的铒（Er）和镱（Yb）。
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公开(公告)号：KR1020010076769A
公开(公告)日：2001-08-16
申请号：KR1020000004124
申请日：2000-01-28
Applicant: 한국전자통신연구원
IPC: H01L31/14
Abstract: PURPOSE: An optical device of a plane waveguide type and a method for manufacturing an optical amplifier are provided to embody an optical device and an optical amplifier of low loss by adding an effective element to an optical waveguide. CONSTITUTION: The method includes four steps. The first step is to form a buffering layer(402) to a predetermined thickness as a lower clad layer using a Flame Hydrolysis Deposition(FHD) on a silicon substrate(401), and form a predetermined thickness or more core layer(403) having a predetermined difference of refractive index as an optical waveguide on the buffering layer via high densification using an Aerosol Flame Deposition(AFD). The second step is to form a predetermined thickness or more Cr or Al film on the core layer via a thermal deposition and then form a waveguide pattern via photolithography. The third step is to leave only the waveguide pattern protected by the Cr or Al film via a dry or wet etch, perform a relief etch to the core layer using an Ion Coupled Plasma(ICP) etch to form a signal light transmitting line(404) which is a waveguide having a constant size capable of transmitting an optical signal, and remove the Al or Cr film used as a protecting film. The fourth step is to form an upper clad layer(405) on the exposed buffering layer and the signal light transmitting line.
Abstract translation: 目的：提供一种平面波导型的光学装置和用于制造光放大器的方法，通过向光波导添加有效元件来实现低损耗的光学装置和光放大器。 规定：该方法包括四个步骤。 第一步是在硅衬底（401）上使用火焰水解沉积（FHD）形成预定厚度的作为下包层的缓冲层（402），并且形成预定厚度或更多的芯层（403），其具有 通过使用气溶胶火焰沉积（AFD）的高致密度，在缓冲层上作为光波导的预定折射率差。 第二步是通过热沉积在芯层上形成预定厚度或更多的Cr或Al膜，然后通过光刻形成波导图案。 第三步是仅通过干蚀刻或湿蚀刻仅留下由Cr或Al膜保护的波导图案，使用离子耦合等离子体（ICP）蚀刻对芯层进行浮雕蚀刻，以形成信号光传输线（404 ），其是具有能够透射光信号的恒定尺寸的波导，并且去除用作保护膜的Al或Cr膜。 第四步骤是在暴露的缓冲层和信号光传输线上形成上覆层（405）。
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公开(公告)号：KR100261308B1
公开(公告)日：2000-07-01
申请号：KR1019970070325
申请日：1997-12-19
IPC: G02B6/126
Abstract: PURPOSE: A method of fabricating a plane waveguide type grating optical filter is provided which patterns the plane waveguide and forms a plane waveguide pattern for forming the grating optical fiber, simultaneously, to simplify the fabrication process and forms the plane waveguide and the grating optical filter on the same substrate to highly integrate an optical integrated circuit. CONSTITUTION: A lower clad layer and a core layer are sequentially deposited on a substrate. The core layer is patterned to form a plane waveguide and, simultaneously, a plane waveguide pattern for forming a grating optical filter(9) is formed at a predetermined portion of the plane waveguide. An upper clad layer(8) is coated to cover the overall surface of the plane waveguide and the plane waveguide pattern to form the grating optical filter constructed in a manner that the multiple plane waveguide patterns and the upper clad layer are alternately arranged.
Abstract translation: 目的：提供一种制造平面波导型光栅滤光片的方法，其对平面波导进行图案化并形成平面波导图案以形成光栅光纤，同时简化制造工艺并形成平面波导和光栅滤光片 在同一基板上高度集成光集成电路。 构成：将下包层和芯层依次沉积在基底上。 将芯层图案化以形成平面波导，并且同时，在平面波导的预定部分处形成用于形成光栅滤光器（9）的平面波导图案。 涂覆上覆盖层（8）以覆盖平面波导和平面波导图案的整个表面，以形成以多平面波导图案和上覆层交替布置的方式构造的光栅滤光器。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1020000025626A
公开(公告)日：2000-05-06
申请号：KR1019980042782
申请日：1998-10-13
Applicant: 한국전자통신연구원
IPC: G02F1/39
Abstract: PURPOSE: A device and method is provided to be applied to variety of optical devices like WDM and laser by using an eribum doped planar amplifier to reduce transfer loss and contact loss with optical fibers. CONSTITUTION: A device comprises an erbium doped core layer(ED), an erbium-undoped core layer(UD), an inputting element(1) a WDM coupler(2), a wave guide(3), a wave length separator(4), an anti-reflective angled wave guide(5), a lower clad layer(10), and an upper clad layer(12). A method comprises a step of forming the ER-undoped core layer on the lower clad layer; a step of forming defining the optical amplifier area by selectively etching the ER-undoped core layer; and a step of forming the ER-doped core layer at the optical amplifier area. The method further comprises a step of forming the wave guide at the optical amplifier area between the input part and the output part and a step of forming the upper clad layer at the whole structure.
Abstract translation: 目的：通过使用磨耗掺杂的平面放大器来减少传输损耗和光纤接触损耗，提供了一种器件和方法应用于各种光器件如WDM和激光器。 构成：器件包括掺铒核心层（ED），铒未掺杂核心层（UD），输入元件（1），WDM耦合器（2），波导（3），波长分离器（4） ），防反射角度波导（5），下包层（10）和上包层（12）。 一种方法包括在下包层上形成未掺杂的ER层的步骤; 通过选择性地蚀刻所述ER未掺杂的芯层来形成所述光放大器区域的步骤; 以及在光放大器区域形成ER掺杂核心层的步骤。 该方法还包括在输入部分和输出部分之间的光学放大器区域处形成波导的步骤，以及在整个结构处形成上部包层的步骤。
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公开(公告)号：KR100211048B1
公开(公告)日：1999-07-15
申请号：KR1019960069783
申请日：1996-12-21
IPC: G02B6/13
Abstract: 1. 청구범위에 기재된 발명이 속한 기술분야
수직형 자기 정렬 화염가수분해(FHD) 반응토치.
2. 발명이 해결하고자 하는 기술적 과제
본 발명은 FHD의 기존 토치의 앵글증착(40∼50도)에서 수직하향과 수직상향을 동시에 수용하므로써 안정한 화염형성, 반응길이의 증가로 기존의 문제점인 불안정한 화염과 기판과의 특정한 각도를 유지해야 하는 원료의 비효율성등과 시스템 구성의 제한등을 해소한 화염 가수분해 반응토치를 제공함에 그 목적이 있다.
3. 발명의 해결방법의 요지
본 발명은 기판상에 실리카 미립자를 증착할 수 있도록 길이가 차별화된 다수의 동심원 관을 구비하여 반응원료 및 가스를 가수분해반응시키는 버너를 포함하되, 상기 길이가 차별화된 동심원 관에 의해 방사되는 토치화염과 기판과의 접촉길이를 소정길이만큼 길게하여 상대적으로 저온화시켜 고균질의 실리카막을 기판에 증착하는 수직형 자기정렬 화염가수분해 반응 토치를 제공한다.
4. 발명의 중요한 용도
화염가수분해 토치의 화염을 기판과의 접촉길이를 늘려 상대적으로 저온화시켜 실리카막을 증착할 수 있도록 한 것임.-
公开(公告)号：KR100198965B1
公开(公告)日：1999-06-15
申请号：KR1019960052472
申请日：1996-11-06
IPC: G02B6/00
Abstract: 1. 청구범위에 기재된 발명이 속한 기술분야
광 도파로 제조 기술중, 석영유리 광 도파 박막
2. 발명이 해결하고자 하는 기술적 과제
저렴한 단가로 제조상의 어려움 없이 양질의 광 도파 박막을 제조 하고자 함.
3. 발명의 해결 방법의 요지
실리카 성분을 포함하는 강 염기성 원료 수용액을 강산으로 중화시켜 수트상의 수산화 실리케이트 박막을 기판상에 침전 증착하고, 상기 수트상의 수산화 실리케이트 박막을 열분해 및 유리화한다.
4. 발명의 중요한 용도
석영유리 광 도파 박막의 제조-
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公开(公告)号：KR1019970048650A
公开(公告)日：1997-07-29
申请号：KR1019950049257
申请日：1995-12-13
Applicant: 한국전자통신연구원
IPC: G02B6/10
Abstract: 본 발명은 광통신에 사용되는 수동부품을 별도의 기판위에 도파로를 형성하여 광신호의 흐름을 구성하고 광회로를 구현하는 유리막을 용이하게 형성하기 위한 실리카 미립자의 저온 고밀화 공정 및 그 장치에 관한 것으로 통상 화염가수분해법은 광섬유의 제조법인 VAD법에서 파생된 방법으로 상압, 고온의 토치내에 원료를 반응시켜 산화물 미립자를 형성하여 열처리로 고밀화된 유리막을 얻는 방법으로서 종래의 방법은 화염온도가 1200∼1250℃의 고온토치반응이라는 점과 미립자의 녹임공정온도가 1250∼1380℃로 높은 이유 때문에 발생하는 복굴절, 균열등의 문제가 완전히 배제되지 못하며 또한 동일한 고밀화 공정온도에서 점도의 조절이 용이하지 않아 오버 클래드막 증착후 평탄성이 열악한 문제가 있었다.
이와 같은 문제점을 해소하기 위하여 안출된 본 발명은 양질의 유리막을 형성하여 광부품의 손실을 근본적으로 개선하고 향후 광통신에서 사용될 각종 광부품의 질적향상을 위하여 고밀화 공정 최적화를 위한 공정방법 및 시스템으로서 실리콘기판과 유리막의 열팽창 계수의 차이에 따른 복굴절, 균열등의 문제를 해소하고 실리콘, 석영등의 기판위에 광회로를 구성하여 극저손실의 광수동부품을 제조할 수 있도록 FHD(화염 가수분해 증착)법을 이용하여 실리콘 기판위에 저손실의 실리카 도파로를 제조하기 위한 입자상의 실리카를 용융, 균일화하는 것이다.
본 발명은 저온화염으로 형성된 실리카 미립자의 고밀화를 기존의 방법보다 저온에서 공정하여 복굴절, 균열등의 문제를 감소시켜 FHD방법에서 가장 문제시 되는 기판의 크기를 증가시킬 수 있고, 또한 기존의 수평형으로 사용되던 고밀화 전기로를 수직형으로 설계하여 고온에서 석영 튜브의 휨현상을 제거 하였으며 좁은 가열 영역에서도 대량의 기판을 공정할 수 있게 함을 특징으로 하는 것임.
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