Abstract:
본 발명은 파장분할 다중화 통신방식을 위한 위상-고리형 광도파로를 이용한 광 공진기 필터구조에 관한 것이다. 그 구조는, 입력단 광도파로와, 이와 이웃하는 위상-고리형 광도파로, 그리고 이 광도파로와 이웃하는 출력단 광도파로로 구성된다. 그 위상-고리형 광도파로 구조는, 두 개의 반-고리형(half-ring) 광도파로 사이에 광의 진행 경로차에 의한 위상-부정합을 이용할 수 있는 코사인-곡선형 광도파로 구역을 갖는 형태이다. 파장 다중화된 신호광이 입력단 광도파로 내부로 입사되면 이웃하는 위상-고리형 광도파로의 공진 특성을 만족하는 특정 파장의 신호광만 선택되어 위상-고리형 광도파로 내부로 전달된다. 입력단 광도파로에서 위상-고리형 광도파로 내부로 전달되는 파워 비율을 나타내는 결합 계수는, 코사인-곡선형 광도파로 구역의 구조 변경에 의한 위상-부정합 현상 때문에 변화한다. 이렇게 결정된 결합 계수로부터 공진기의 Q(=λ/Δλ) 값을 계산할 수 있다. 그러므로 입력단/출력단 광도파로와 위상-고리형 광도파로 사이의 거리를 고정하는 경우에도 코사인-곡선 광도파로 구역의 구조를 조정하여 공진기의 공진 특성 효율을 조정할 수 있다.
Abstract:
파장 역다중화 소자에서 발생하는 광 도파로의 곡률 손실(Bending Loss)을 최소화시킬 수 있는 직선형 광 도파로를 구비한 파장 역다중화 소자가 개시된다. 본 발명은 광 도파로의 곡률 손실을 최소화시킬 수 있도록 서로 다른 폭을 갖는 단일 물질로 구성된 직선형 도파로를 사용하거나 유효 굴절률이 서로 다른 물질로 구성된 직선형 도파로를 사용하여 각 채널 별로 광 경로차를 부여한다. 본 발명에 따르면, 광 도파로의 구조를 직선화시킴으로써 광 도파 손실을 최소화함과 아울러 파장 분리 특성을 향상시킬 수 있다.
Abstract:
PURPOSE: A laser device incorporating thereinto an astigmatic micro-lens is provided to correct a difference between cutoff angles due to an asymmetric of a laser mode. CONSTITUTION: A laser device incorporating thereinto an astigmatic micro-lens includes a distributed Bragg mirror(13) formed on a top surface of a substrate(10), an active medium(12) formed on a top surface of the distributed Bragg mirror(13), a mirror(11) formed in such a way that the mirror(11) is inclined at a predetermined angle with coexisting in the same plane of the active medium(12) and an astigmatic micro lens(14) formed on a bottom surface of the substrate(10). In the laser device, the astigmatic micro-lens is used to correct a difference between the angles of radiation of a light beam radiated from the bottom surface of the substrate(10) through the distributed Bragg mirror(13).
Abstract:
PURPOSE: A long wavelength surface emitting laser device having a diffusion area on both end parts of an upper mirror layer and a method for fabricating the same are provided to prevent a loss of absorption of a p type doping layer within a resonator and reduce a scattering loss of a mirror layer and a carrier loss by controlling efficiently current flow. CONSTITUTION: A lower mirror layer(22) is formed on an n type InP semiconductor substrate(21). An active layer(23) is formed on the lower mirror layer(22). The active layer(23) is formed with a quantum well layer and a spatial layer. An electron leakage barrier(24) is formed on the active layer(23). A current induction layer(25) is formed on the electron leakage barrier(24). A current expansion layer(26) is formed on the current induction layer(25). The current expansion layer(26) is formed by a p type semiconductor layer. An upper mirror layer(27) is formed on the current expansion layer(26). A Zn diffusion layer(28) is formed on end parts of the upper mirror layer(27). An insulating layer(29) is used for forming an air layer among the current expansion layer(26), the current induction layer(25), and the current leakage barrier(24). The first metallic line(31) is connected with the upper mirror layer(27). The second metallic line(32) is connected with a back side of the n type InP semiconductor substrate(21).
Abstract:
PURPOSE: A reactive ion etching method of a compound semiconductor is provided to reduce optical loss by forming a smooth etching surface, and to improve productivity in manufacturing an optical device by having etch rate which is not too slow. CONSTITUTION: Photoresist or silicon nitride is formed as an etching mask on a multilayered thin film of a compound semiconductor. The multilayered thin film of the compound semiconductor is etched in mixture gas plasma of BCl3, Cl2, CH4 and H2 by a reactive ion etching(RIE) method.
Abstract:
PURPOSE: A long wavelength surface emission type of laser and a method for manufacturing the same are provided to form an air layer having same effect as an oxide layer using a wet etching method without using the oxide layer in forming a current confinement aperture. CONSTITUTION: In a long wavelength surface emission type of laser and a method for manufacturing the same, the long wavelength surface emission type of laser has an under mirror layer(6) formed on a substrate, an air post patterned resonate layer formed on the under mirror layer and an upper mirror layer(20). The under stage part of the upper mirror layer near the resonate layer has the air layer having a desired depth at the side wall of the upper mirror layer.
Abstract:
본 발명은 다중 모드 간섭계 및 회절격자를 이용한 파장 검출기에 관한 것으로, 특히 폭이 좁은 파장을 추출하여 파장에 민감한 광 교환 소자 및 광 논리 소자들의 제어를 확실하게 할 수 있는 파장 검출기에 관한 것이다. 파장 분할 전송에서 많이 이용되고 있는 다중/역다중 방식은 광 도파로 격자를 사용하고, 아울러 매우 극소수로써 다중 모드 간섭계를 이용한 phasar(phased array)를 사용하고 있는 실정이다. 그러나 광도파로 격자를 사용하는 경우, 다중 파장에서 단일 파장을 검출하는데 입력된 빛의 세기가 매우 약하게 감쇄되는 단점과 그 구조의 복잡함으로 인하여 제조가 용이하지 않은 단점이 있다. 본 발명에서는 다중 모드 간섭계로 균등 분할된 광을 다중 회절격자를 사용하여 여러 파장 중에서 단일 파장을 검출한 후, 광들이 서로 위상차를 갖도록 함으로써 특정 포트로 출력된 파장을 민감한 광 교환 소자 및 광 논리 소자에 입력 시킬 수 있는 파장 검출기를 제시한다.
Abstract:
PURPOSE: A single mode surface emission laser and a manufacturing method thereof are provided, which is stably applied to a coupling with an optical fiber and an optical wiring in a free space by enabling a single transverse mode oscillation in a large area and a large size of a device. CONSTITUTION: A single mode surface emission laser comprises an n-type semiconductor substrate(11), a laser column formed on the n-type semiconductor substrate, a regulating layer(18) formed on the laser column, an anti-induction clad layer(17) formed surrounding the laser column and the regulating layer, and an upper electrode on the anti-induction clad layer and the regulating layer. An n-type lower electrode(12) and an anti-reflection layer(13) are formed below the n-type semiconductor substrate. The laser column includes a lower mirror layer(14), an active layer(15), and an upper mirror layer(16) stacked in that order. The thickness of the regulating layer is made thinner as it goes from the center to the periphery. The anti-induction clad layer is made from a material having a refractive index greater than that of the active layer or the upper mirror layer in the laser column. An insulating layer(19) is formed between the anti-induction clad layer and the upper electrode.
Abstract:
본 발명은 광투과 기판을 사용한 병렬 광논리처리 시스템의 구조에 관한 것으로서, 빛을 발진하는 광투과형 표면 방출 레이저가 어레이로 배열된 레이저 어레이 기판과, 상기 레이저 어레이에서 발진된 빛이 평행해지도록 빛을 접속하는 마이크로 렌즈가 어레이로 배열된 마이크로 렌즈 어레이 기판과, 상기 마이크로 렌즈 어레이 기판을 투과한 빛을 논리 회로의 창문으로 투과시켜 데이터를 읽어 논리 기능을 수행하는 광논리 소자 어레이로 이루어진 다수 개의 단위 칩으로 이루어져 빛이 직선적으로 상기 각 기판을 투과하면서 논리를 수행하는 것을 특징으로 한다. 따라서, 빛이 각 기판을 통해 직선적으로 투과되면서 진행되므로 빛의 경로를 최단 거리로 할 수 있으며, 빛이 레이저 어레이 기판을 투과하므로 투과 면적이 증가되어 단위 칩 사이의 빛의 진행 경로를 맞추기 위한 정렬이 용이하다.