Abstract:
본 발명은 회전에 따른 계통 오차를 제거하여 오차를 최소화하는 회전오차를 감소시킨 광학계 보정 방법에 관한 것이다. 이를 위한 본 발명의 회전오차를 감소시킨 광학계 보정 방법은, 측정대상물 상의 임의의 한 픽셀 i에서의 형상 오차 P i0 를 삼각함수의 무한급수의 합으로 나타낸 수학식 3( )과, 측정 대상물을 임의의 각도 α j 만큼 회전한 측정대상물의 형상오차 P j 를 삼각함수의 무한급수의 합으로 나타낸 수학식 4[ (여기서 c ik, 와 d ik 는 각 삼각함수의 계수로서 , )]를 구하는 단계와, 상기 P i0 값과 P j 값을 수학식 2( )을 이용하여 수학식 5[ ,여기서, ]로 정리하는 단계와, 상기 측정 대상물의 상부에서 등간격으로 n번 회전하면서 측정한 결과를 모두 더하여 수학식 6( 값을 구하는 단계와, 상기 수학식 6에서 삼각함수를 주기적으로 나눠서 더한 값 수학식 8[ ( ij 는 D ij 의 실제 측정값)]을 구하는 단계로 포함되어 측정대상물에 대한 측정 결과값(W)으로부터 계통 오차(T)를 제거한 형상 오차(P)를 보정하는 방법에 있어서, P i0 를 광학계의 형상정보를 나타내는 저니크(Zernike) 계수 x lk 와 α j 를 미지수로 놓고 해를 구하는 것을 특징으로 한다. 회전, 간섭계, 형상 오차, 계통오차, 저니크(Zernike) 다항식
Abstract:
본 발명은 박막 두께 및 형상의 신호 처리 방법을 제공한다. 이 신호 처리 방법은 주어진 박막의 굴절률과 주어진 입사각에서 박막 두께 정보 및 표면 형상 정보를 포함하는 간섭 신호를 처리하여 측정 위상 신호를 추출하는 단계, 박막 두께 및 파수에 따른 이론적 박막 위상과 측정 위상 신호를 이용하여 박막 두께 정보에 대응하는 박막 두께를 산출하는 단계, 및 측정 위상 신호와 이론적 박막 위상의 차이를 이용하여 표면 형상 정보에 대응하는 상부면 높이를 추출하는 단계를 포함한다.
Abstract:
본 발명은 거울 연마 장치 및 거울 연마 방법을 제공한다. 이 거울 연마 장치는 일면은 경량화 패턴을 포함하고 타면은 연마되는 경량화 처리된 거울, 거울이 삽입되어 걸치는 제1 깊이의 제1 홈을 포함하고 제1 홈의 하부면에 제1 깊이보다 큰 제2 깊이의 제2 홈을 포함하는 금속 재질의 고정 블록, 거울의 측면과 제1 홈의 측벽 사이에 삽입되어 유체를 밀폐시키는 밀폐 부재, 유체를 제공받아 제2 홈에 제공하고 제2 홈의 압력을 일정하게 제공하는 유체 압력 조절부, 및 유체 압력 조절부에 유체를 제공하는 유체 공급부를 포함한다.
Abstract:
본 발명은 레이저 주사 방식에서 편광 간섭을 이용한 미세 패턴 제조장치 및 그 제조장치를 이용한 미세패턴 제조방법에 대한 것이다. 보다 상세하게는, 레이저 주사 방식에서 간섭 무늬방향의 변환이 가능한 미세 패턴 제조장치에 있어서, 레이저 광을 발생시키는 레이저 발생부; 발생된 레이저광을 편광방향이 서로 수직인 S파 및 P 파로 편광시키는 편광판; 편광관을 투과한 S파 및 P파가 입사되어, S파는 반사시키고, P파는 통과시키는 편광빔 스플리터; 편광빔 스플리터에 의해 반사된 S파와 통과된 P파의 경로 각각에 설치되어 편광방향을 45° 만큼 변환시키는 쿼터 파장판; 퀴터 파장판에 의해 45°만큼 편광방향이 변환된 광 경로 각각에 설치되어 변환된 광을 반사시켜 퀴터 파장판에 투과시켜 편광빔 스플리터에 다시 입사시키는 미러; 미러 중 어느 하나는 각도변환미러로 구성되고, 각도변환미러를 수평면과 평행한 X축을 중심으로 회전시키는 X축 회전 구동부와 각도변환미러를 수직축인 Z축을 중심으로 회전시키는 Z축 회전 구동부를 구비하는 미러 각도변환부; 미러에 반사된 광과 각도변환미러에 반사된 광이 서로 미세간격으로 이격되어 편광 빔스플리터에서 출사되고, 서로 미세간격으로 이격된 광의 편광방향을 서로 일치시키는 검광기; 검광기에 의해 편광방향이 일치된 광을 투과시켜 기판에 코팅된 감광막에 주사시키는 노광렌즈; 내부에 편광판, 퀴터 파장판, 미러, 각도변환미러, 미러각도변환부, 검광기 및 노광렌즈가 설치되는 노광헤드; 노광헤드를 X축 방향으로 이동시키는 X스테이지; 기판이 설치되는 기판 설치부; 및 기판설치부를 Y축 방향으로 이동시키는 Y 스테이지;를 포함하는 것을 특징으로 하는 간섭 무늬방향의 변환이 가능한 미세 패턴 제조장치 및 방법에 관한 것이다.