회전오차를 감소시킨 광학계 보정 방법
    31.
    发明授权
    회전오차를 감소시킨 광학계 보정 방법 失效
    用于最小化旋转错误的光学系统自我校准算法

    公开(公告)号:KR100973525B1

    公开(公告)日:2010-08-02

    申请号:KR1020080037211

    申请日:2008-04-22

    Inventor: 이혁교 이윤우

    Abstract: 본 발명은 회전에 따른 계통 오차를 제거하여 오차를 최소화하는 회전오차를 감소시킨 광학계 보정 방법에 관한 것이다.
    이를 위한 본 발명의 회전오차를 감소시킨 광학계 보정 방법은, 측정대상물 상의 임의의 한 픽셀 i에서의 형상 오차 P
    i0 를 삼각함수의 무한급수의 합으로 나타낸 수학식 3( )과, 측정 대상물을 임의의 각도 α
    j 만큼 회전한 측정대상물의 형상오차 P
    j 를 삼각함수의 무한급수의 합으로 나타낸 수학식 4[ (여기서 c
    ik, 와 d
    ik 는 각 삼각함수의 계수로서 , )]를 구하는 단계와, 상기 P
    i0 값과 P
    j 값을 수학식 2( )을 이용하여 수학식 5[ ,여기서, ]로 정리하는 단계와, 상기 측정 대상물의 상부에서 등간격으로 n번 회전하면서 측정한 결과를 모두 더하여 수학식 6( 값을 구하는 단계와, 상기 수학식 6에서 삼각함수를 주기적으로 나눠서 더한 값 수학식 8[ (
    ij 는 D
    ij 의 실제 측정값)]을 구하는 단계로 포함되어 측정대상물에 대한 측정 결과값(W)으로부터 계통 오차(T)를 제거한 형상 오차(P)를 보정하는 방법에 있어서, P
    i0 를 광학계의 형상정보를 나타내는 저니크(Zernike) 계수 x
    lk 와 α
    j 를 미지수로 놓고 해를 구하는 것을 특징으로 한다.
    회전, 간섭계, 형상 오차, 계통오차, 저니크(Zernike) 다항식

    광학계 연마 자동화 공정을 위한 연마툴 장치 및 그 작동방법

    公开(公告)号:KR101913496B1

    公开(公告)日:2018-11-01

    申请号:KR1020170024712

    申请日:2017-02-24

    Abstract: 본발명은광학계가공을위한연마툴장치및 그작동방법에대한것이다. 보다상세하게는광학계의연마면을연마하기위해, 자전운동과공전운동을동시에갖는연마툴장치에있어서, 제1회전축의일단에구비되어상기제1회전축을길이방향기준으로회전구동시키는구동모터; 상기제1회전축타단에구비되는제1기어; 중공부가형성되며, 중공부중심부에상기제1기어가위치되며, 중공부내면에톱니가구비된하우징; 상기하우징의톱니와상기제1기어사이에위치되는제1연결기어와, 일단에상기제1연결기어가결합되고타단에제2연결기어가결합되는연결회전축을갖는연결기어단; 및상기제2연결기어와맞물려회전되는제2기어와상기제2기어의회전에의해자전되는연마툴을포함하는것을특징으로하는광학계가공을위한연마툴장치에관한것이다.

    증착장치의 척 가공방법 및 가공장치

    公开(公告)号:KR101907728B1

    公开(公告)日:2018-10-15

    申请号:KR1020150010452

    申请日:2015-01-22

    Abstract: 본발명은증착장치에사용되는척을가공하는방법및 가공하는장치에관한것이다. 본발명의일예와관련된척 가공방법은척이사용되는공정의온도환경및 상기척의물성을이용하는유한요소법(FEM, Finite Elements Method)에따라상기척의변형을예측하는제 1 단계; 상기예측된변형의역변형형태를상기척의가공형태인제 1 형태로결정하는제 2 단계; 및상기제 1 형태에따라상기척을가공하는제 3 단계;를포함할수 있다.

    회전 반사미러를 이용한 파장가변 레이저 공진기 및 그 공진기를 이용한 파장가변 공진방법
    37.
    发明公开
    회전 반사미러를 이용한 파장가변 레이저 공진기 및 그 공진기를 이용한 파장가변 공진방법 审中-实审
    使用旋转镜的可调谐激光谐振器和使用谐振器的波长可调谐振法

    公开(公告)号:KR1020170116295A

    公开(公告)日:2017-10-19

    申请号:KR1020160043486

    申请日:2016-04-08

    CPC classification number: H01S5/14 H01S3/0071 H01S3/08009 H01S5/1092

    Abstract: 본발명은회전반사미러를이용한파장가변레이저공진기및 그공진기를이용한파장가변공진방법에대한것이다. 보다상세하게는파장가변레이저공진기에있어서, 레이저광원을발진시키는레이저발진부; 상기레이저발진부에서발진된레이저광원이입사되어회절되는회절격자; 및상기회절격자의표면의연장선상에위치하는회전중심점을기준으로회전되며, 상기회절격자에서회절된레이저광원중 일부가수직입사되어상기회절격자로수직반사시켜공진시키는회전반사미러;를포함하는것을특징으로하는회전반사미러를이용한파장가변레이저공진기에관한것이다.

    Abstract translation: 波长可调谐激光谐振器和使用该谐振器的波长可变谐振方法技术领域本发明涉及使用旋转反射镜的波长可调谐激光谐振器和使用该谐振器的波长可变谐振方法。 更具体地说,本发明涉及一种可调激光谐振器,包括:激光振荡单元,用于振荡激光源; 衍射光栅,其中由激光振荡单元振荡的激光光源入射和衍射; 以及绕旋转中心点旋转的旋转反射镜,该旋转中心点位于衍射光栅的表面的延长线上,并部分反射在衍射光栅中衍射的激光源,以便被衍射光栅垂直反射以共振 以及使用旋转镜的波长可调激光谐振器。

    삼차원 박막 두께 형상 측정 방법
    38.
    发明授权
    삼차원 박막 두께 형상 측정 방법 有权
    三维厚度剖面测量方法

    公开(公告)号:KR101486271B1

    公开(公告)日:2015-01-27

    申请号:KR1020130053536

    申请日:2013-05-13

    Abstract: 본 발명은 박막 두께 및 형상의 신호 처리 방법을 제공한다. 이 신호 처리 방법은 주어진 박막의 굴절률과 주어진 입사각에서 박막 두께 정보 및 표면 형상 정보를 포함하는 간섭 신호를 처리하여 측정 위상 신호를 추출하는 단계, 박막 두께 및 파수에 따른 이론적 박막 위상과 측정 위상 신호를 이용하여 박막 두께 정보에 대응하는 박막 두께를 산출하는 단계, 및 측정 위상 신호와 이론적 박막 위상의 차이를 이용하여 표면 형상 정보에 대응하는 상부면 높이를 추출하는 단계를 포함한다.

    거울 연마 장치 및 거울 연마 방법
    39.
    发明授权
    거울 연마 장치 및 거울 연마 방법 有权
    镜面抛光装置和镜面抛光方法

    公开(公告)号:KR101406124B1

    公开(公告)日:2014-06-27

    申请号:KR1020120124558

    申请日:2012-11-06

    Abstract: 본 발명은 거울 연마 장치 및 거울 연마 방법을 제공한다. 이 거울 연마 장치는 일면은 경량화 패턴을 포함하고 타면은 연마되는 경량화 처리된 거울, 거울이 삽입되어 걸치는 제1 깊이의 제1 홈을 포함하고 제1 홈의 하부면에 제1 깊이보다 큰 제2 깊이의 제2 홈을 포함하는 금속 재질의 고정 블록, 거울의 측면과 제1 홈의 측벽 사이에 삽입되어 유체를 밀폐시키는 밀폐 부재, 유체를 제공받아 제2 홈에 제공하고 제2 홈의 압력을 일정하게 제공하는 유체 압력 조절부, 및 유체 압력 조절부에 유체를 제공하는 유체 공급부를 포함한다.

    레이저 주사 방식에서 편광 간섭무늬방향의 변환이 가능한 미세 패턴 제조장치 및 그 제조장치를 이용한 미세패턴 제조방법
    40.
    发明授权

    公开(公告)号:KR101211634B1

    公开(公告)日:2013-01-21

    申请号:KR1020100105062

    申请日:2010-10-27

    Inventor: 이혁교 이윤우

    Abstract: 본 발명은 레이저 주사 방식에서 편광 간섭을 이용한 미세 패턴 제조장치 및 그 제조장치를 이용한 미세패턴 제조방법에 대한 것이다. 보다 상세하게는, 레이저 주사 방식에서 간섭 무늬방향의 변환이 가능한 미세 패턴 제조장치에 있어서, 레이저 광을 발생시키는 레이저 발생부; 발생된 레이저광을 편광방향이 서로 수직인 S파 및 P 파로 편광시키는 편광판; 편광관을 투과한 S파 및 P파가 입사되어, S파는 반사시키고, P파는 통과시키는 편광빔 스플리터; 편광빔 스플리터에 의해 반사된 S파와 통과된 P파의 경로 각각에 설치되어 편광방향을 45° 만큼 변환시키는 쿼터 파장판; 퀴터 파장판에 의해 45°만큼 편광방향이 변환된 광 경로 각각에 설치되어 변환된 광을 반사시켜 퀴터 파장판에 투과시켜 편광빔 스플리터에 다시 입사시키는 미러; 미러 중 어느 하나는 각도변환미러로 구성되고, 각도변환미러를 수평면과 평행한 X축을 중심으로 회전시키는 X축 회전 구동부와 각도변환미러를 수직축인 Z축을 중심으로 회전시키는 Z축 회전 구동부를 구비하는 미러 각도변환부; 미러에 반사된 광과 각도변환미러에 반사된 광이 서로 미세간격으로 이격되어 편광 빔스플리터에서 출사되고, 서로 미세간격으로 이격된 광의 편광방향을 서로 일치시키는 검광기; 검광기에 의해 편광방향이 일치된 광을 투과시켜 기판에 코팅된 감광막에 주사시키는 노광렌즈; 내부에 편광판, 퀴터 파장판, 미러, 각도변환미러, 미러각도변환부, 검광기 및 노광렌즈가 설치되는 노광헤드; 노광헤드를 X축 방향으로 이동시키는 X스테이지; 기판이 설치되는 기판 설치부; 및 기판설치부를 Y축 방향으로 이동시키는 Y 스테이지;를 포함하는 것을 특징으로 하는 간섭 무늬방향의 변환이 가능한 미세 패턴 제조장치 및 방법에 관한 것이다.

    Abstract translation: 一种用于通过在激光扫描方法中使用偏振干涉来形成精细图案的装置包括:激光发生器; 被配置为折射由偏振板偏振的S波和P波中的至少一个的方解石波片,被配置为使S波的极化方向和具有间隔开的路径的P波彼此一致的分析器 由方解石波片相互作用; 曝光镜片; 曝光头; X阶段 以及旋转台,被配置为使基板安装单元围绕作为垂直轴的Z轴移动。

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