Abstract:
본발명은호스트액정에대한용해도가향상된불소도입페닐-싸이오펜계중합성메조겐화합물, 이의제조방법및 이를포함하는중합성액정조성물에관한것으로, 본발명의페닐-싸이오펜계중합성메조겐화합물은용해도향상기로불소기를페닐-싸이오펜코어에비대칭적으로도입하여수직배향형호스트액정에대한용해도를증가시키고광반응성기로메타아크릴레이트를도입함으로써광가교후 선경사각의안정성을향상시키는효과가있으므로중합성액정조성물, 특히, 고분자안정화배향유형의액정디스플레이용중합성액정조성물로유용하게사용될수 있다.
Abstract:
본 발명은 우수한 절연성 및 내열성을 갖는 신규한 폴리이미드 중합체, 이의 제조방법 및 이를 포함하는 유기절연막에 관한 것으로, 본 발명에 따른 신규한 폴리이미드 중합체는 약 300℃ 이상의 높은 유리전이온도 및 약 460℃ 이상의 5% 중량 열분해 온도를 가져 고온에 대한 열적 안정성이 뛰어날 뿐만 아니라, 1 내지 1000 kHz에서 2.9 이하의 낮은 유전상수를 가져 전기적 절연성이 상당히 우수하다. 따라서, 본 발명에 따른 신규한 폴리이미드 중합체는 발광다이오드(LED), 유기박막트랜지스터(OTFT) 등의 전자소자용 유기절연막 또는 연성금속박적층필름(FMCL) 소재 등으로 유용하게 사용할 수 있다.
Abstract:
The purpose of the present invention is to provide a method for patterning an electrode by using a photopolymer polyimide and a pattern manufactured through the same. For this, the present invention provides the method for pattering the electrode including a first step of forming a photopolymer polyimide insulating layer on a substrate, a second step of performing photopolymer after masking the insulating layer with a photo mask, a third step of forming an electrode layer on the insulating layer after removing the photo mask, and a fourth step of removing the insulating layer of a part that is not photopolymer through masking and the electrode layer placed on its top. According to the invention, to form an electrode pattern on an organic thin film transistor, a processing step is reduced because a polyimide removal process is performed only once by using the photopolymer polyimide instead of a photoresist. In addition, there are economic and environmental advantages because by-products of strong base or phenols used as a developer are not generated and solvents such as NMP, DMAc, DMSO, GBL, and others are used. [Reference numerals] (AA) Substrate; (BB) Gold; (CC) Photo resist
Abstract:
본 발명은, 2,7-다이에티닐-플루오렌을 분자의 중심에 도입한 하기 화학식 1로 표시되는 신규 중합성 액정화합물을 제공한다. 이러한 신규 중합성 액정화합물은 넓은 액정상 온도범위, 우수한 용해도, 높은 등방상 전이온도, 높은 광학 이방성, 높은 전하이동도, 낮은 점도, 다른 액정과의 우수한 상용성, 뛰어난 배향특성, 우수한 고분자화도를 제공한다. 또한 본 발명은 단일 성분의 중합성 액정화합물만으로도 실온을 포함한 광범위한 온도 범위에서 액정상을 유지하는 중합성 액정조성물을 간편하게 제조라고, 실온을 포함한 넓은 온도 범위에서 자외선 및/또는 열 중합 공정을 통하여 유기반도체 및/또는 유기발광체용 고분자를 제공한다.
Abstract:
PURPOSE: A triphenylene-based reactive mesogen compound is provided to have high double refraction ratio, thereby capable of manufacturing a compensation film to thin film, and providing a liquid crystal display device capable of obtaining wide viewing angle. CONSTITUTION: A triphenylene-based reactive mesogen compound is in chemical formula 1. In chemical formula 1, X is one selected from a bromo group, a chloro group and iodo group, Y is one selected from O, NH and S, L is selected from -R-, -C(=O)-R-, -C(=O)-Ar-O-R- and C(=O)-Ar-NH-R-, R is linear or branched C1-20 alkylene group, Ar is C6-30 arylene group, Z is selected from -OCOCHCH2, -OCOC(CH3)CH2, -OCOCHCH-Ph, -OCOCHCH-furanyl, -NHCOCHCH2, -HNCOC(CH3)CH2, -HNCOCHCH-Ph, and -NHCOCHCH-furanyl.