Abstract:
Ein optoelektronisches Halbleiterbauelement umfasst einen ersten Resonatorspiegel (110), einen zur Strahlungserzeugung geeigneten aktiven Bereich (115), und einen zweiten Resonatorspiegel (120), die jeweils entlang einer ersten Richtung übereinander angeordnet sind. Das optoelektronische Halbleiterbauelement (10) umfasst weiterhin eine Brechungsindexmodulationsschicht (133) innerhalb eines optischen Resonators zwischen dem ersten Resonatorspiegel (110) und dem zweiten Resonatorspiegel (120). Die Brechungsindexmodulationsschicht (133) weist erste Bereiche (136) eines ersten Materials mit einem ersten Brechungsindex sowie zweite Bereiche (138) eines zweiten Materials mit einem zweiten Brechungsindex auf, wobei die ersten Bereiche (136) in einer zur ersten Richtung senkrechten Ebene angrenzend an die zweiten Bereiche (138) angeordnet sind.
Abstract:
Es wird eine Strahlungsquelle zur Emission von Terahertz-Strahlung (6) angegeben, umfassend mindestens zwei Laserlichtquellen, die Laserstrahlung (11, 12) verschiedener Frequenzen emittieren, und einen Photomischer (5), der ein photoleitendes Halbleitermaterial (51) und eine Antennenstruktur (52) aufweist, wobei der Photomischer (5) dazu eingerichtet ist, die Laserstrahlung (11, 12) der Laserlichtquellen (1, 2) zu empfangen und Terahertz-Strahlung (6) mit mindestens einer Schwebungsfrequenz der Laserlichtquellen abzustrahlen, und wobei die mindestens zwei Laserlichtquellen oberflächenemittierende Halbleiterlaser (1, 2) sind, die in einem eindimensionalen oder zweidimensionalen Array auf einem gemeinsamen Träger (10) angeordnet sind.
Abstract:
Es wird ein strahlungsemittierendes Halbleiterbauelement (1) angegeben, umfassend einen Halbleiterkörper (2) mit einem zur Erzeugung von Strahlung vorgesehenen aktiven Bereich (20), einen Träger (3), auf dem der Halbleiterkörper angeordnet ist und ein optisches Element (4), wobei das optische Element mit einer direkten Bondverbindung an dem Halbleiterkörper befestigt ist. Weiterhin wird ein Verfahren zur Herstellung von strahlungsemittierenden Halbleiterbauelementen angegeben.
Abstract:
Die Erfindung betrifft ein optoelektronisches Bauelement (100) aufweisend, ein diffraktives optisches Element (1), das zumindest ein Konversionsmaterial (2) aufweist, eine Lichtquelle (3), die zur Emission von Primärstrahlung (4) eingerichtet ist, wobei das Konversionsmaterial (2) in dem diffraktiven optischen Element (1) eingekapselt ist, wobei das Konversionsmaterial (2) im Strahlengang der Primärstrahlung (4) angeordnet ist und dazu eingerichtet ist, die Primärstrahlung (4) zumindest teilweise in Sekundärstrahlung (5) zu konvertieren.
Abstract:
In einer Ausführungsform umfasst die Halbleiterstrahlungsquelle (1) einen Halbleiterchip (2) zur Strahlungserzeugung sowie einen Kondensatorkörper (3). Der Halbleiterchip (2) und der Kondensatorkörper (3) sind übereinander gestapelt angeordnet. Ferner ist der Halbleiterchip (2) flächig und direkt elektrisch mit dem Kondensatorkörper (3) verbunden.
Abstract:
Es wird eine Anzeigevorrichtung mit einer Mehrzahl von Bildpunkten (1) und mit zumindest einem optoelektronischen Halbleiterbauelement (7) angegeben, wobei - jeder Bildpunkt zumindest einen ersten Subbildpunkt (21) für die Erzeugung von Strahlung in einem ersten Spektralbereich (921) und einen zweiten Subbildpunkt (22) für die Erzeugung von Strahlung in einem vom ersten Spektralbereich verschiedenen zweiten Spektralbereich (922) aufweist; - den ersten und zweiten Subbildpunkten jeweils ein zur Erzeugung einer Primärstrahlung vorgesehener aktiver Bereich (70) des Halbleiterbauelements zugeordnet ist, - zumindest einigen der aktiven Bereiche ein Strahlungskonversionselement (5) nachgeordnet ist, wobei das Strahlungskonversionselement im Betrieb der Anzeigevorrichtung die Primärstrahlung zumindest teilweise in eine Sekundärstrahlung umwandelt und das Strahlungskonversionselement die Sekundärstrahlung engwinklig abstrahlt.
Abstract:
In einer Ausführungsform umfasst der Halbleiterlaser (1) einen oberflächenemittierenden Halbleiterlaserchip (4), der eine Halbleiterschichtenfolge (40) mit einer aktiven Zone (41) zur Erzeugung von Laserstrahlung (L) und eine Lichtaustrittsfläche (44), die senkrecht zu einer Wachstumsrichtung (G) der Halbleiterschichtenfolge (40) orientiert ist, aufweist. Ferner beinhaltet der Halbleiterlaser (1) ein diffraktives optisches Element (3), das zur Aufweitung und Verteilung der Laserstrahlung (L) eingerichtet ist, so dass der Halbleiterlaser (1) bevorzugt augensicher ist. Eine optisch wirksame Struktur (33) des diffraktiven optischen Elements (3) ist aus einem Material mit einem Brechungsindex von mindestens 1,65 oder 2,0.
Abstract:
Eine elektromagnetische Anordnung zur Erzeugung eines Lichtmusters umfasst einen Superlumineszenzdiodenchip und ein diffraktives optisches Element, das ausgebildet ist, aus von dem Superlumineszenzdiodenchip abgestrahlter elektromagnetischer Strahlung ein Lichtmuster zu erzeugen.
Abstract:
Ein optoelektronisches Bauelement (10, 20) weist ein Gehäuse (100) auf, in dem ein zur Emission von Nutzlicht ausgebildeter optoelektronischer Halbleiterchip (110) und ein Lichtdetektor (140) angeordnet sind. Von dem optoelektronischen Halbleiterchip emittiertes Nutzlicht kann durch ein optisches Element (130) des optoelektronischen Bauelements aus dem Gehäuse austreten. Der Lichtdetektor ist vorgesehen, an dem optischen Element reflektiertes Nutzlicht zu detektieren.
Abstract:
Es wird ein optoelektronisches Halbleiterbauteil angegeben, umfassend: eine auf einer ersten Halbleiterschicht (11) epitaktisch aufgewachsene aktive Zone (2) mit zumindest zwei Quantentopfschichten (20) und zumindest einer zwischen den zumindest zwei Quantentopfschichten (20) angeordneten Barriereschicht (21), wobei - die Barriereschicht (21) mit X: Al y Ga 1-y As z P 1-z , wobei 0 ≤ γ ≤ 1 und 0 ≤ z ≤ 1, gebildet ist, wobei X ein Dotierstoff ist.