Abstract:
Die Erfindung betrifft eine Anordnung mit einem Substrat (23) und einem Halbleiterlaser (11), wobei das Substrat eine Oberseite (3), Seitenflächen (28, 29) und eine Unterseite (14) aufweist, wobei wenigstens eine erste Ausnehmung (7) in die Oberseite eingebracht ist, wobei der Halbleiterlaser in der Weise auf der Oberseite des Substrates angeordnet ist, dass ein Bereich der Seitenfläche (24) des Halbleiterlasers, über den elektromagnetische Strahlung abgegeben wird, über der ersten Ausnehmung angeordnet ist. Ein Vorteil der vorgeschlagenen Anordnung besteht darin, dass die vom Halbleiterlaser abgegebene elektromagnetische Strahlung weniger von dem Substrat beeinflusst wird. Eine Kontaktfläche (4) für einen elektrischen Anschluss (36) des Halbleiterlasers kann von der Oberseite des Substrates über die erste Ausnehmung bis zur Unterseite des Substrates geführt werden, so dass der elektrische Anschluss des Halbleiterlasers über die Unterseite des Substrates elektrisch kontaktiert werden kann.
Abstract:
Eine elektromagnetische Anordnung zur Erzeugung eines Lichtmusters umfasst einen Superlumineszenzdiodenchip und ein diffraktives optisches Element, das ausgebildet ist, aus von dem Superlumineszenzdiodenchip abgestrahlter elektromagnetischer Strahlung ein Lichtmuster zu erzeugen.
Abstract:
Die vorliegende Anmeldung betrifft ein optoelektronisches Halbleiterbauelement (1) mit einem zur Erzeugung von Strahlung vorgesehenen Halbleiterchip (2) und einem Gehäuse (3), in dem der Halbleiterchip angeordnet ist, wobei - das Gehäuse einen Leiterrahmen (5) mit einem ersten Anschlussleiter (51) und einem zweiten Anschlussleiter (52) aufweist; - das Gehäuse einen den Leiterrahmen bereichsweise umgebenden Gehäusekörper (4) aufweist, wobei sich der Gehäusekör per in einer vertikalen Richtung zwischen einer Montageseite (42) und einer Vorderseite (41) erstreckt; - der erste Anschlussleiter eine Vertiefung (6) aufweist, in der der Halbleiterchip an dem ersten Anschlussleiter befestigt ist; - eine Seitenfläche (60) der Vertiefung einen Reflektor für die im Betrieb vom Halbleiterchip abgestrahlte Strahlung bildet; - der erste Anschlussleiter auf der Montageseite aus dem Gehäusekörper herausragt; und - der Halbleiterchip zumindest bereichsweise frei von einem an den Halbleiterchip angrenzenden Verkapselungsmaterial ist. Weiterhin wird ein Verfahren zum Herstellen eines Leiterrahmenverbunds angegeben.
Abstract:
Eine optoelektronische Anordnung zur Erzeugung eines Lichtmusters umfasst einen Leuchtdiodenchip, der ausgebildet ist, an seiner Oberseite elektromagnetische Strahlung abzustrahlen, die an der Oberseite des Leuchtdiodenchips ein zweidimensionales Muster bildet. Die optoelektronische Anordnung umfasst außerdem ein optisch abbildendes Element, das ausgebildet ist, von dem Leuchtdiodenchip abgestrahlte elektromagnetische Strahlung in eine Umgebung der optoelektronischen Anordnung abzubilden.
Abstract:
Es wird ein Gehäuse (1) für ein optoelektronisches Halbleiterbauelement (10) angegeben, das einen Gehäusekörper (2) mit einer Montageebene (20) und einen Leiterrahmen (3) mit einem ersten Anschlussleiter (31) und einem zweiten Anschlussleiter (32) aufweist. Der Gehäusekörper (2) umformt den Leiterrahmen (3) bereichsweise. Der Leiterrahmen (3) weist eine Haupterstreckungsebene auf, die schräg oder senkrecht zur Montageebene (20) verläuft. Weiterhin werden ein Halbleiterbauelement (10) mit einem solchen Gehäuse (1) und einem Halbleiterchip (6) und ein Verfahren zur Herstellung eines Gehäuses (1) angegeben.
Abstract:
Eine elektromagnetische Anordnung zur Erzeugung eines Lichtmusters umfasst einen Superlumineszenzdiodenchip und ein diffraktives optisches Element, das ausgebildet ist, aus von dem Superlumineszenzdiodenchip abgestrahlter elektromagnetischer Strahlung ein Lichtmuster zu erzeugen.
Abstract:
Es wird ein Gehäuse (1) für ein optoelektronisches Halbleiterbauelement (10) angegeben. Das Gehäuse (1) weist einen Gehäusekörper (2), einen ersten Anschlussleiter (31) und einen zweiten Anschlussleiter (32) auf, wobei sich der erste Anschlussleiter (31) und der zweite Anschlussleiter (32) in einer vertikalen Richtung jeweils durch den Gehäusekörper (2) hindurch erstrecken. Weiterhin wird ein Halbleiterbauelement (10) mit einem solchen Gehäuse (1) und einem Halbleiterchip (6) angegeben.
Abstract:
Die Erfindung betrifft einen Detektor für ein Lidar-System. Der Detektor weist eine Reihe aus nebeneinander angeordneten strahlungsempfindlichen Pixeln auf. Die Pixel der Reihe weisen solche Konturen auf, dass gegenüberliegende Seiten von benachbarten Pixeln wenigstens teilweise abweichend von einer senkrechten Richtung zu einer Erstreckungsrichtung der Reihe verlaufen. Die Erfindung betrifft ferner ein Lidar-System mit einem solchen Detektor.
Abstract:
In mindestens einer Ausführungsform ist das Verfahren zur Herstellung von Halbleiter-Laserelementen (1) eingerichtet undumfasst die folgenden Schritte: A) Bereitstellen eines Trägerverbunds (20) mit einer Vielzahl von Trägern (2) für die Halbleiter-Laserelemente (1), B) Bereitstellen eines Laserbarrens (30) mit einer Vielzahl von Halbleiter-Laserdioden (3), die ein gemeinsames Aufwachssubstrat (31) und eine darauf aufgewachsene Halbleiterschichtenfolge (32) umfassen, C) Erzeugen von Sollbruchstellen (35) an einer der Halbleiterschichtenfolge (32) abgewandten Substratunterseite (34) des Aufwachssubstrats (31), D) Anbringen des Laserbarrens (30) auf einer Trägeroberseite (23) des Trägerverbunds (20), wobei das Anbringen bei einer erhöhten Temperatur erfolgt und von einem Abkühlen gefolgt wird, und E) Vereinzeln zu den Halbleiter-Laserelementen (1), wobei die Schritte B) bis E) in der angegebenen Reihenfolge durchgeführt werden.
Abstract:
In mindestens einer Ausführungsform umfasst das Verfahren zur Herstellung von Halbleiter-Laserelementen (1) die folgenden Schritte : A) Bereitstellen mindestens eines Trägerverbunds (20) mit einer Vielzahl von Trägern (2) für die Halbleiter- Laserelemente (1), C) Bereitstellen mindestens eines Laserbarrens (30) mit einer Vielzahl von Halbleiter-Laserdioden (3), die ein gemeinsames Aufwachssubstrat (31) und eine darauf aufgewachsene Halbleiterschichtenfolge (32) umfassen, D) Anbringen des Laserbarrens (30) auf einer Oberseite (23) des Trägerverbunds (20), und E) Vereinzeln zu den Halbleiter-Laserelementen (1). Der Verfahrensschritt E) folgt hierbei dem Verfahrensschritt D) nach.