Abstract:
Es wird eine Beleuchtungsvorrichtung angegeben. Gemäß zumindest einem Aspekt weist die Beleuchtungsvorrichtung einen vorderseitigen Träger (1), einen rückseitigen Träger (2) und eine Mehrzahl von Leuchtdiodenchips (3) auf, die im Betrieb der Beleuchtungsvorrichtung Licht emittieren und Verlustwärme abgeben. Der rückseitige Träger (2) ist zumindest stellenweise von dem vorderseitigen Träger (1) bedeckt. Die Leuchtdiodenchips (3) sind zwischen dem rückseitigen Träger (2) und dem vorderseitigen Träger (1) angeordnet und von diesen mechanisch arretiert. Sie sind mittels des rückseitigen und/oder des vorderseitigen Trägers (1, 2) elektrisch kontaktiert. Der vorderseitige Träger (1) ist wärmeleitend mit den Leuchtdiodenchips (3) gekoppelt und weist eine von den Leuchtdiodenchips (3) abgewandte Lichtauskoppelfläche (101) auf, die zur Abgabe eines Teils der von den Leuchtdiodenchips (3) erzeugten Verlustwärme an die Umgebung ausgebildet ist.
Abstract:
Es wird ein Strahlungsemittierendes Halbleiterbauteil angegeben, umfassend: einen Leuchtdiodenchip (1) mit zumindest zwei unabhängig voneinander betreibbaren Emissionsbereichen (2a, 2b), zumindest zwei unterschiedlich ausgestalteten Konversionselementen (31, 32), wobei jeder der Emissionsbereiche (2a, 2b) im Betrieb des Leuchtdiodenchips (1) zur Erzeugung von elektromagnetischer Primärstrahlung vorgesehen ist, jeder Emissionsbereich (2a, 2b) eine Emissionsfläche (21, 22) aufweist, durch welche zumindest ein Teil der Primärstrahlung aus dem Leuchtdiodenchips (1) ausgekoppelt wird, die Konversionselemente (31, 32) zur Absorption zumindest eines Teils der Primärstrahlung und zur Re-Emission von Sekundärstrahlung vorgesehen sind, die unterschiedlich ausgestalteten Konversionselemente (31, 32) unterschiedlichen Emissionsflächen nachgeordnet sind, einem elektrischen Widerstandselement (4), das zu zumindest einem der Emissionsbereiche (2a, 2b) in Reihe oder parallel geschaltet ist.
Abstract:
Ein optoelektronisches Bauteil umfasst eine organische Schichtenfolge (1), die im Betrieb eine elektromagnetische Strahlung (15) mit einem ersten Wellenlängenspektrum abstrahlt sowie eine dielektrische Schichtenfolge (2) und einen Wellenlängenkonversionsbereich (3) im Strahlengang der von der organischen Schichtenfolge (1) abgestrahlten elektromagnetischen Strahlung (15). Der Wellenlängenkonversionsbereich (3) ist eingerichtet, zumindest teilweise elektromagnetische Strahlung mit dem ersten Wellenlängenspektrum in eine elektromagnetische Strahlung (16) mit einem zweiten Wellenlängenspektrum umzuwandeln. Die dielektrische Schichtenfolge (2) ist im Strahlengang der von der organischen Schichtenfolge abgestrahlten elektromagnetischen Strahlung (15) zwischen der organischen Schichtenfolge (1) und dem Wellenlängenkonversionsbereich (3) angeordnet und für eine elektromagnetische Strahlung mit einem dritten Wellenlängenspektrum, das zumindest einem Teil des zweiten Wellenlängenspektrums entspricht, wenigstens teilweise undurchlässig.
Abstract:
Eine Ausführungsform der Erfindung gibt eine organische strahlungsemittierende Vorrichtung an, die ein Substrat, und zumindest eine strahlungsemittierende organische Schicht, die zwischen einer ersten und einer zweiten Elektrodenschicht auf dem Substrat angeordnet ist, umfasst, wobei zwischen der ersten Elektrodenschicht und der strahlungsemittierenden organischen Schicht eine erste Ladungsträgertransportschicht angeordnet ist, die ein erstes Ladungsträgertransportmaterial und ein erstes Salz umfasst.
Abstract:
Es wird eine optoelektronische Vorrichtung angegeben mit - einem Sender (1), der dazu eingerichtet ist, elektromagnetische Strahlung (2) zu emittieren und mit einer Eingangsspannung (UI) betrieben zu werden, - einem Träger (7) für den Sender (1), der eine Deckfläche (71) und eine Bodenfläche (72) aufweist,- einem ersten Empfänger (3), der dazu eingerichtet ist, zumindest einen Teil der elektromagnetischen Strahlung (2) zu empfangen und zumindest einen Teil einer Ausgangsspannung (UO) zu liefern, wobei - der Sender (1) zumindest einen Oberflächenemitter (10) umfasst, - der zumindest eine Oberflächenemitter (10) des Senders (1) an der Deckfläche (71) des Trägers (7) befestigt ist und zumindest einen Teil der elektromagnetischen Strahlung (2) durch den Träger (71) abstrahlt, - der erste Empfänger (3) zumindest eine Fotodiode (30) umfasst, und - der erste Empfänger (3) an der Bodenfläche (72) des Trägers (7) angeordnet ist.
Abstract:
Es wird ein optoelektronisches Halbleiterbauelement (1) angegeben, das einen Halbleiterkörper (10) mit einem ersten Bereich (101) einer ersten Leitfähigkeit, einem zweiten Bereich (102) einer zweiten Leitfähigkeit und einem aktiven Bereich (103) umfasst. Ferner umfasst das Halbleiterbauelement (1) einen ersten metallischen Kühlkörper (21), einen zweiten metallischen Kühlkörper (22) und eine Dünnfilmisolationsschicht (30). Der erste Kühlkörper (21) und der zweite Kühlkörper (22) sind auf einer Montageseite (10A) des Halbleiterkörpers (10) angeordnet. Der erste Kühlkörper (21) kontaktiert den ersten Bereich (101) elektrisch. Die Dünnfilmisolationsschicht (30) isoliert den ersten Kühlkörper (21) von dem zweiten Kühlkörper (22) elektrisch. Die Dünnfilmisolationsschicht (30) steht in direktem Kontakt zu dem ersten Kühlkörper (21) und dem zweiten Kühlkörper (22). Weiter wird ein Verfahren zur Herstellung eines optoelektronischen Halbleiterbauelements (1) angegeben.
Abstract:
In einer Ausführungsform ist das Verfahren zur Herstellung von lichtemittierenden Halbleiterbauteilen eingerichtet und umfasst die Schritte: A) Bereitstellen einer Glaskapillare (2) aus einem Glasmaterial, B) Befüllen der Glaskapillare (2) mit Leuchtstoffen (3), C) Versiegeln der Glaskapillare (2) in einem Versieglungsbereich (22) durch Aufschmelzen des Glasmaterials, sodass die Glaskapillare (2) durch das Glasmaterial selbst verschlossen wird, und D) Anbringen der versiegelten Glaskapillare (2) an einen Leuchtdiodenchip (4), sodass im Betrieb die von dem Leuchtdiodenchip (4) emittierte Strahlung durch die Leuchtstoffe (3) in sichtbares Licht umgewandelt wird, wobei im Schritt C) ein Abstand zwischen dem Versieglungsbereich (22) und den Leuchtstoffen (3) bei höchstens 7 mm liegt, und wobei die verschiedenen Leuchtstoffe (3) entlang einer Längsachse (L) der Glaskapillare (2) voneinander getrennt vorliegen.
Abstract:
Ein optoelektronisches Bauelement (100) weist einen Halbleiterchip (1) auf, der in eine Mehrzahl von in lateraler Richtung nebeneinander angeordnete, einzeln und unabhängig ansteuerbare Bildpunkte (10) untergliedert ist. Das Bauelement (100) umfasst weiter ein metallisches Verbindungselement (2) mit einer Oberseite (20) und einer Unterseite (21), wobei der Halbleiterchip (1) in einem Auflagebereich in direktem Kontakt mit der Oberseite (20) des Verbindungselements (2) ist und mit diesem mechanisch stabil verbunden ist. Das Verbindungselement (2) weist eine zusammenhängende metallische Verbindungsschicht (22) auf, die von einer Mehrzahl von in lateraler Richtung nebeneinander angeordneten metallischen ersten Durchkontaktierungen(23) vollständig durchdrungen ist. Die Verbindungsschicht (22) schließt dabei in Richtung senkrecht zur lateralen Richtung bündig mit der Oberseite (20) und der Unterseite (21) ab. Die ersten Durchkontaktierungen (23) sind durch Isolationsbereiche (24) von der Verbindungsschicht (22) elektrisch isoliert und beabstandet. Jede erste Durchkontaktierung (24) ist ferner eindeutig einem Bildpunkt (10) zugeordnet, mit diesem Bildpunkt (10) elektrisch leitend verbunden und bildet einen ersten elektrischen Kontakt zu diesem Bildpunkt(10). Der Halbleiterchip (1) ist außerdem durch das Verbindungselement (2) mechanisch stabil und elektrisch leitend mit einem direkt an der Unterseite (21) des Verbindungselements (2) befindlichen Träger (3) verbunden.
Abstract:
Es wird ein Verfahren zur Herstellung einer Mehrzahl von Halbleiterchips (10) angegeben. Ein Verbund (1), der einen Träger (4) und eine Halbleiterschichtenfolge (2, 3) aufweist wird bereitgestellt. Trenngräben (17) werden in der Halbleiterschichtenfolge (2, 3) entlang eines Vereinzelungsmusters (16) ausgebildet. Eine die Halbleiterschichtenfolge (2, 3) zu den Trenngräben (17) hin begrenzende Füllschicht (11) wird an einer dem Träger (4) abgewandten Seite der Halbleiterschichtenfolge (2, 3) aufgebracht. Ferner wird eine an die Füllschicht (11) grenzende Metallschicht (10) in den Trenngräben (17) aufgebracht. Durch Entfernen der an die Füllschicht (11) grenzenden Metallschicht (10) in den Trenngräben (17) werden die Halbleiterchips (20) vereinzelt. Die vereinzelten Halbleiterchips (20) weisen jeweils einen Teil der Halbleiterschichtenfolge (2, 3) und der Füllschicht (11) auf. Weiterhin wird ein Halbleiterchip (10) angegeben.
Abstract:
Es wird ein Bauelement mit einem Halbleiterkörper (2), einer ersten Metallschicht (3) und einer zweiten Metallschicht (4) angegeben, wobei - die erste Metallschicht zwischen dem Halbleiterkörper und der zweiten Metallschicht angeordnet ist, - der Halbleiterkörper eine erste Halbleiterschicht (21) auf einer der ersten Metallschicht abgewandten Seite, eine zweite Halbleiterschicht (22) auf einer der ersten Metallschicht zugewandten Seite und eine zwischen der ersten Halbleiterschicht und der zweiten Halbleiterschicht angeordnete aktive Schicht (23) aufweist, - das Bauelement eine Durchkontaktierung (24) aufweist, die sich durch die zweite Halbleiterschicht und die aktive Schicht hindurch zur elektrischen Kontaktierung der ersten Halbleiterschicht erstreckt, - die zweite Metallschicht einen ersten Teilbereich (41) und einen von dem ersten Teilbereich durch einen Zwischenraum (40) lateral beabstandeten zweiten Teilbereich (42) aufweist, wobei der erste Teilbereich über die erste Metallschicht mit der Durchkontaktierung elektrisch verbunden ist, - und in Draufsicht die erste Metallschicht den Zwischenraum lateral vollständig bedeckt. Des Weiteren wird ein Verfahren zur Herstellung eines solchen Bauelements angegeben.