Abstract:
Ein Verfahren zum Herstellen eines optoelektronischen Bauelements umfasst Schritte zum Bereitstellen eines optoelektronischen Halbleiterchips mit einer Vorderseite und einer Rückseite, zum Aufbringen einer Opferschicht auf der Rückseite, zum Ausbilden eines Formkörpers, wobei der optoelektronische Halbleiterchip zumindest teilweise in den Formkörper eingebettet wird, und zum Entfernen der Opferschicht.
Abstract:
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung eines optoelektronischen Bauelementes und ein optoelektronisches Bauelement mit wenigstens einem ersten Träger (1) mit wenigstens zwei Licht emittierenden Dioden (2) und/oder mit zwei ersten Trägern mit jeweils einer Licht emittierenden Diode (2), wobei jede Diode (2) zwei elektrische Anschlüsse (4, 5) aufweist, wobei jeder elektrische Anschluss (4, 5) zu einer Kontaktfläche (7, 8) geführt ist, wobei die Kontaktflächen (7, 8) auf einer Unterseite (6) eines ersten Träger (1) angeordnet sind, mit einem zweiten Träger (9), wobei im zweiten Träger (9) wenigstens zwei Z-Dioden (10) angeordnet sind, wobei die Z-Dioden (10) weitere elektrische Anschlüsse (11, 12) aufweisen, wobei jeder weitere elektrische Anschluss (11, 12) zu einer weiteren Kontaktfläche (13, 14) geführt ist, wobei die weiteren Kontaktflächen (13,14) auf einer Oberseite (16) des zweiten Trägers (9) angeordnet sind, wobei der erste Träger (1) und/oder die ersten Träger (1) mit der Unterseite (6) auf der Oberseite (16) des zweiten Träger (9) aufliegen und mit dem zweiten Träger (9) fest verbunden sind, wobei die Z-Dioden (10) antiparallel zu den Dioden (2) angeordnet sind, wobei eine elektrische Leitung (15) vorgesehen ist, die die Z- Dioden (10) in einer Serienschaltung verbindet, und wobei die Kontaktflächen (7, 8) einer Diode (2) mit den weiteren Kontaktflächen (13, 14) einer Z-Diode (10) elektrisch in Kontakt stehen.
Abstract:
Ein optoelektronisches Halbleiterbauteil umfasst einen optoelektronischen Dünnfilmchip und ein thermisch leitendes und elektrisch isolierendes Element. Dabei sind der Dünnfilmchip und das Element gemeinsam in einen Formkörper eingebettet.
Abstract:
Ein optoelektronisches Modul (202, 204, 206, 208, 210, 212, 214, 216) weist mindestens einen Halbleiterchip (104) zur Emission elektromagnetischer Strahlung (118) auf. Der Halbleiterchip (104) weist eine Schicht einer ersten Leitfähigkeit (120), insbesondere einer p- Leitfähigkeit, eine Schicht einer zweiten Leitfähigkeit (124), insbesondere einer n-Leitfähigkeit, eine Abstrahlfläche (108) und eine der Abstrahlfläche (108) gegenüberliegende Kontaktfläche (106) auf. Auf der Abstrahlfläche (108) ist ein Kontakt (110, 117) aufgebracht. Ein Rahmen (103) aus Vergussmasse (102) umschließt den Halbleiterchip (104) seitlich zumindest bereichsweise derart, dass die Abstrahlfläche (108) und die Kontaktfläche (106) im Wesentlichen frei von Vergussmasse (102) sind. Eine erste Kontaktstruktur (114), ist zumindest bereichsweise auf dem Rahmen (103) und zumindest bereichsweise auf der Kontaktfläche (106) angeordnet und dient zur elektrischen Kontaktierung der Schicht einer ersten Leitfähigkeit (120). Eine zweite Kontaktstruktur (116, 138) ist zumindest bereichsweise auf dem Rahmen (103) und zumindest bereichsweise auf dem Kontakt (110, 117) der Abstrahlfläche (108) angeordnet und dient zur elektrischen Kontaktierung der Schicht einer zweiten Leitfähigkeit (124).
Abstract:
In mindestens einer Ausführungsform umfasst das Halbleiterbauteil (1) mindestens einen optoelektronischen Halbleiterchip (3), der eine Strahlungsaustrittsseite (30) aufweist. Das oberflächenmontierbare Halbleiterbauteil (1) beinhaltet einen Formkörper (4), der Seitenflächen (34) des Halbleiterchips (3) formschlüssig und unmittelbar bedeckt. In Draufsicht auf die Strahlungsaustrittsseite (30) gesehen überlappen der Formkörper (4) und der Halbleiterchip (3) nicht.
Abstract:
In mindestens einer Ausführungsform weist das optoelektronische Halbleiterbauteil (1) einen Träger (2) auf. An einer Montageseite (20) ist ein Halbleiterchip (3) zur Erzeugung einer elektromagnetischen Primärstrahlung angebracht. Mindestens ein Konversionselement (4) zur wenigstens teilweisen Umwandlung der Primärstrahlung in eine Sekundärstrahlung, die eine größere Wellenlänge aufweist als die Primärstrahlung, ist auf einer Strahlungsaustrittsseite (30) des Halbleiterchips (3) angebracht. Das Halbleiterbauteil (1) beinhaltet eine Wärmeleitstruktur (5) zur Entwärmung des Konversionselements (4). Die Wärmeleitstruktur (5) befindet sich außerhalb des Konversionselements (4) und steht mindestens stellenweise in direktem Kontakt zu dem Konversionselement (4).
Abstract:
Es wird ein zur Herstellung zumindest eines optoelektronischen Halbleiterchips mit den folgenden Schritten angegeben: Bereitstellen zumindest einer optoelektronischen Struktur (2) umfassend einen Aufwachsträger (1) und eine Halbleiterschichtenfolge (20) mit einem aktiven Bereich (23), die auf dem Aufwachsträger (1) epitaktisch abgeschieden ist, Bereitstellen eines Trägers (4), Aufbringen der zumindest einen optoelektronischen Struktur (2) auf den Träger (4) mit ihrer dem Aufwachsträger (1) abgewandten Seite, Beschichten der zumindest einen optoelektronischen Struktur (2) mit einem Schutzmaterial (5), wobei das Schutzmaterial (5) die dem Träger (4) abgewandte Außenfläche des Aufwachsträgers (1) sowie Seitenflächen des Aufwachsträgers (1) und der Halbleiterschichtenfolge (20) bedeckt, Ablösen des Aufwachsträger (1) von der Halbleiterschichtenfolge (20) der zumindest einen optoelektronischen Struktur (2).
Abstract:
Es wird ein Träger (1) für eine optoelektronische Struktur (2) angegeben, bei dem stellenweise ein elektrisch isolierendes Passivierungsmaterial (16) zwischen einer elektrisch leitenden Schicht (14) des Trägers (1) und einer trägerseitigen Verbindungsmittelschicht (15) angeordnet ist. Darüber hinaus wird ein optoelektronischer Halbleiterchip mit solch einem Träger sowie einer optoelektronischen Struktur (2) angegeben, die mittels der trägerseitigen Verbindungsmittelschicht (15) elektrisch leitend und mechanisch mit dem Träger (1) verbunden ist.
Abstract:
Es wird ein optoelektronisches Bauteil angegeben, mit - einer optischen Pumpvorrichtung (2), die eine erste strahlungserzeugende Schicht (21) und eine erste Strahlungsaustrittsfläche (2a) an der Oberseite (2b) der Pumpvorrichtung (2) umfasst, wobei im Betrieb der Pumpvorrichtung (2) erzeugte elektromagnetische Strahlung (7) quer, insbesondere zumindest teilweise nicht senkrecht, zur ersten strahlungserzeugenden Schicht (21) durch die erste Strahlungsaustrittsfläche (2a) aus der Pumpvorrichtung (2) ausgekoppelt wird, und - einem oberflächenemittierenden Halbleiterlaserchip (1) mit einer reflektierenden Schichtenfolge (14), insbesondere einem Bragg-Spiegel, und einer zweiten strahlungserzeugenden Schicht (11), wobei - der oberflächenemittierende Halbleiterlaserchip (1) an der Oberseite (2b) der Pumpvorrichtung (2) befestigt ist, und - die reflektierende Schichtenfolge (14) zwischen der ersten Strahlungsaustrittsfläche (2a) und der zweiten strahlungserzeugenden Schicht (11) angeordnet ist.
Abstract:
Es wird ein oberflächenemittierender Halbleiterlaser mit einem Halbleiterkörper (10), der eine aktive Zone (1) mit einer Quantentopfstruktur aufweist, wobei die Quantentopfstruktur mehrere Quantentöpfe (2) enthält, die jeweils aus einer zwischen Barriereschichten (4) angeordneten Quantentopfschicht (3) gebildet sind, und einem monolithisch in den Halbleiterkörper (10) integrierten Pumplaser (6), der Pumpstrahlung zum optischen Pumpen der aktiven Zone (1) emittiert, angegeben. Dabei bildet die Pumpstrahlung ein Modenprofil (21) in dem Halbleiterkörper (10) aus und die Quantentöpfe (2) sind derart voneinander beabstandet, dass sie jeweils im Bereich eines Maximums (22) des Modenprofils (21) der Pumpstrahlung angeordnet sind.