Abstract:
In einer Ausführungsform dient das Verfahren zur Herstellung einer optischen Komponente (23) für ein optoelektronisches Halbleiterbauteil (1) und umfasst die Schritte: - A) Bereitstellen einer Vielzahl von Optikkörpern (2), - C) Aufbringen eines flüssigen Beschichtungsmaterials (30) direkt auf die Optikkörper (2), - D) Verfestigen des Beschichtungsmaterials (30) zu einer Beschichtung (3), und - E) Vereinzeln durch die Beschichtung (3) hindurch zu den optischen Komponenten (23), wobei die fertige Beschichtung (3) eine mittlere Dicke zwischen einschließlich 10 Mikrometern und 200 Mikrometern aufweist, als Basismaterial (31) ein Polysiloxan aufweist, das -Si0 3/2 - Einheiten / trifunktionale Polysiloxane umfasst, und reflektierende Mikropartikel enthält, so dass ein Reflektionsgrad von 80% und mehr erreicht wird.
Abstract:
Es wird ein strahlungsemittierendes Bauelement mit den folgenden Merkmalen angegeben: einem strahlungsemittierenden Halbleiterchip (1) und einer transparenten Fügeschicht (3), die den strahlungsemittierenden Halbleiterchip (1) mit einem Träger (4) mechanisch stabil verbindet, wobei die transparente Fügeschicht (3) ein Matrixmaterial (10) aufweist, in das eine Vielzahl an Nanopartikeln (11) eingebracht ist.
Abstract:
A ceramic conversion element, a light-emitting device and a method for producing a ceramic conversion element are disclosed. In an embodiment a ceramic conversion element includes a central region with a structured top surface including a plurality of structure elements and a frame surrounding the central region, the frame having a planar top surface, wherein the central region and the frame are formed as one piece, and wherein the ceramic conversion element is configured to convert primary radiation into secondary radiation of a different wavelength range.
Abstract:
Es wird ein optoelektronisches Bauelement (1) angeben. Dieses umfassteine Schichtenfolge (2) mit einer aktiven Schicht, die dazu eingerichtet ist im Betrieb des Bauelements eine elektromagnetische Primärstrahlung zu emittieren und zumindest ein Konversionselement (3). Daszumindest eine Konversionselement (3) ist im Strahlengang der elektromagnetischen Primärstrahlung angeordnet und umfasst Quantenpunkte (3a) und ein anorganisches Matrixmaterial. Die Quantenpunkte (3a) sind in dem anorganischen Matrixmaterial verteilt und dazu eingerichtet sind im Betrieb des Bauelements (1) zumindest teilweise die elektromagnetische Primärstrahlung in eine elektromagnetische Sekundärstrahlung zu konvertieren.
Abstract:
In mindestens einer Ausführungsform umfasst der optoelektronische Halbleiterchip (100) eine Halbleiterschichtenfolge (1) mit einer Oberseite (2), einer der Oberseite (2) gegenüberliegende Unterseite (3) und einer aktiven Schicht (11) zur Erzeugung elektromagnetischer Strahlung einer ersten Wellenlänge (10), wobei der Halbleiterchip (100) frei von einem Aufwachssubstrat für die Halbleiterschichtenfolge (1) ist. Weiter umfasst der Halbleiterchip (100) eine Mehrzahl von auf der Unterseite (3) angeordneten Kontaktelementen (30), die einzeln und unabhängig voneinander elektrisch ansteuerbar sind. Dabei ist die Halbleiterschichtenfolge (1) in eine Mehrzahl von in lateraler Richtung nebeneinander angeordneten Emissionsbereichen (20) unterteilt, die dazu eingerichtet sind, im Betrieb Strahlung zu emittieren. Jedem Emissionsbereich (20) ist dabei eines der Kontaktelemente (30) zugeordnet. Ferner umfasst jeder Emissionsbereich (20) eine Ausnehmung in der Halbleiterschichtenfolge (1), die sich von der Oberseite (2) in Richtung aktive Schicht (11) erstreckt. In Draufsicht auf die Oberseite (2) ist die Ausnehmung eines jeden Emissionsbereichs (20) vollständig von einer zusammenhängenden Bahn aus Trennwänden (21) umgeben, wobei die Trennwände (21) aus der Halbleiterschichtenfolge (1) gebildet sind.
Abstract:
Es wird ein Verfahren zur Herstellung eines Wellenlängenkonversionselements (10) angegeben, bei dem eine Wellenlangenkonversionsschicht (100) bereitgestellt, ihre Oberfläche mit einem Plasma (50) behandelt und die Wellenlängenkonversionsschicht gestanzt wird. Weiterhin werden eine Wellenlängenkonversionsschicht und ein optoelektronische Bauelement mit einer Wellenlängenkonversionsschicht angegeben.
Abstract:
Es wird eine Anzeigevorrichtung (1) mit einem Schichtstapel (2) angegeben, der eine Halbleiterschichtenfolge (20) mit einem zur Erzeugung von Strahlung vorgesehenen aktiven Bereich (200) und eine Schaltungsschicht (25) aufweist. Die Halbleiterschichtenfolge bildet eine Mehrzahl von Bildpunkten (3). In der Schaltungsschicht ist für jeden Bildpunkt ein Schalter (4), der mit dem jeweiligen Bildpunkt elektrisch leitend verbunden ist, ausgebildet. Weiterhin wird ein Verfahren zur Herstellung einer Anzeigevorrichtung angegeben.
Abstract:
In mindestens einer Ausführungsform ist das Verfahren zur Herstellung eines Leuchtdioden-Displays (1) eingerichtet. Das Verfahren umfasst die folgenden Schritte: • A) Bereitstellen eines Aufwachssubstrats (2), • B) Aufbringen einer Pufferschicht (4) mittelbar oder unmittelbar auf eine Substratoberseite (20), • C) Erzeugen einer Vielzahl von separaten Anwachspunkten (45) auf oder an der Pufferschicht (4), • D) Erzeugen von einzelnen, strahlungsaktiven Inseln (5), ausgehend von den Anwachspunkten (45), wobei die Inseln (5) jeweils eine anorganische Halbleiterschichtenfolge (50) mit mindestens einer aktiven Zone (55) umfassen und ein mittlerer Durchmesser der Inseln (5), in Draufsicht auf die Substratoberseite (20) gesehen, zwischen einschließlich 50 nm und 20 μm liegt, und • E) Verschalten der Inseln (5) mit Transistoren (6) zu einer elektrischen Ansteuerung der Inseln (5).
Abstract:
In mindestens einer Ausführungsform umfasst der optoelektronische Halbleiterchip (1) einen Träger (2). Eine Halbleiterschichtenfolge (3) mit einer aktiven Schicht (33) zur Erzeugung einer elektromagnetischen Strahlung, die sich zwischen einer n-Schicht (31) und einer p-Schicht (35) befindet, ist auf einer Trägeroberseite (20) angebracht. Der Halbleiterchip (1) weist eine n-Kontaktstelle (51) und eine p-Kontaktstelle (55) zum elektrischen Kontaktieren auf. Ferner beinhaltet der Halbleiterchip (1) zumindest zwei oder drei elektrische Leiterbahnen (4). In Draufsicht gesehen ist die Halbleiterschichtenfolge (3) in wenigstens zwei nebeneinander angeordnete Emitterbereiche (36) strukturiert. Die Emitterbereiche (36) sind über die Leiterbahnen (4) elektrisch in Serie geschaltet. Es befinden sich die Leiterbahnen (4) an einer dem Träger (2) abgewandten Seite der Halbleiterschichtenfolge (3).
Abstract:
In verschiedenen Ausführungsbeispielen wird eine optoelektronische Bauelementevorrichtung bereitgestellt die optoelektronischen Bauelement aufweisend: eine erste Gruppe optoelektronischer Bauelemente (106, 410-n) mit wenigstens einem ersten optoelektronischen Bauelement, wobei das wenigstens eine, erste optoelektronische Bauelement zum Bereitstellen elektromagnetischer Strahlung einer ersten Farbvalenz (212) eingerichtet ist; eine zweite Gruppe optoelektronischer Bauelemente (102, 410-1) mit wenigstens einem zweiten optoelektronischen Bauelement, wobei das wenigstens eine, zweite optoelektronische Bauelement zum Bereitstellen elektromagnetischer Strahlung einer zweiten Farbvalenz (210) eingerichtet ist; und einen Phasen-Dimmer (406), wobei der Phasen-Dimmer (406) derart eingerichtet ist, dass ein erster Betriebsmodus mit einem ersten Grad der Dimmung und ein zweiter Betriebsmodus mit einem zweiten Grad der Dimmung bereitgestellt wird, wobei der Phasen-Dimmer (406) die erste Gruppe optoelektronischer Bauelemente (106, 410-n) und die zweite Gruppe optoelektronischer Bauelemente (102, 410-1) derart ansteuert, dass im ersten Betriebsmodus ein erster Bereich optoelektronischer Bauelemente der optoelektronischen Bauelementevorrichtung bestromt wird und im zweiten Betriebsmodus ein zweiter Bereich optoelektronischer Bauelemente der optoelektronischen Bauelementevorrichtung bestromt wird; wobei bezüglich der Gesamtintensität der bereitgestellten elektromagnetischen Strahlung der optoelektronischen Bauelementevorrichtung der Anteil der elektromagnetischen Strahlung der ersten Farbvalenz (212) im ersten Betriebsmodus kleiner ist als im zweiten Betriebsmodus und der Anteil der elektromagnetischen Strahlung der zweiten Farbvalenz (210) im ersten Betriebsmodus größer ist als im zweiten Betriebsmodus.