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公开(公告)号:FR3012672A1
公开(公告)日:2015-05-01
申请号:FR1360742
申请日:2013-10-31
Applicant: ST MICROELECTRONICS ROUSSET
Inventor: LA ROSA FRANCESCO , NIEL STEPHAN , DELALLEAU JULIEN , REGNIER ARNAUD
IPC: H01L27/115 , H01L29/788
Abstract: L'invention concerne une cellule mémoire (C31) comprenant une grille de sélection verticale (SG) s'étendant dans une tranchée (10) pratiquée dans un substrat, une grille flottante (FG) s'étendant au-dessus du substrat, et une grille de contrôle horizontale (CG) s'étendant au-dessus de la grille flottante (FG), dans laquelle la grille flottante (FG) s'étend également au-dessus d'une partie de la grille de sélection verticale (SCG) sur une distance de recouvrement (Dov) non nulle. Application notamment à la réalisation d'une cellule mémoire à grille divisée programmable par injection d'électrons chauds.
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公开(公告)号:DE602006003605D1
公开(公告)日:2008-12-24
申请号:DE602006003605
申请日:2006-09-22
Inventor: BOUCHAKOUR RACHID , BIDAL VIRGINIE , CANDELIER PHILIPPE , FOURNEL RICHARD , GENDRIER PHILIPPE , LAFFONT ROMAIN , MASSON PASCAL , MIRABEL JEAN-MICHEL , REGNIER ARNAUD
IPC: H01L29/423 , H01L29/788
Abstract: The memory point has a floating gate (103) placed above a P-type semiconductor substrate (100) and comprising a central portion (110) and end portions (111, 112) respectively insulated from the substrate by a thin insulating layer (102) and an insulating area (107). The central portion is by majority doped with P-type doping and the end portions comprise N-type doped zone constituting a part of a PN junction. The end portions form electron wells so that electrons injected into the gate are stored at level of the end portions.
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公开(公告)号:FR2891398A1
公开(公告)日:2007-03-30
申请号:FR0552849
申请日:2005-09-23
Inventor: BOUCHAKOUR RACHID , BIDAL VIRGINIE , CANDELIER PHILIPPE , FOURNEL RICHARD , GENDRIER PHILIPPE , LAFFONT ROMAIN , MASSON PASCAL , MIRABEL JEAN MICHEL , REGNIER ARNAUD
IPC: H01L27/115 , H01L21/8247
Abstract: L'invention concerne un point mémoire non volatil incluant une grille flottante placée au-dessus d'un substrat semiconducteur, la grille flottante comprenant des portions actives isolées du substrat par des couches isolantes fines, et des portions inactives isolées du substrat par des couches isolantes épaisses non traversables par des électrons, les portions actives étant majoritairement dopées de type P et les portions inactives comprenant au moins une zone dopée de type N constituant une partie d'une jonction PN.
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