表面等离子体检测装置及方法

    公开(公告)号:CN107249758A

    公开(公告)日:2017-10-13

    申请号:CN201580076236.6

    申请日:2015-12-04

    Inventor: 金起范

    Abstract: 所公开的技术涉及使用表面等离子体共振技术检测分子的方法、装置和系统,更具体地涉及采用在基底上形成的金属纳米颗粒的表面等离子体共振技术。在一个方面,制备金属纳米颗粒层的方法包括提供包含粘合剂聚合物和溶剂的液体组合物,以及将包括聚合物表面的制品至少部分浸入到液体组合物中,其中所述聚合物表面包括聚合材料并且不包括无机玻璃或晶体材料。该方法另外包括向液体组合物施加气相等离子体,以促进粘合剂聚合物与所述聚合物表面的聚合材料之间的化学反应,从而在制品的聚合物表面上形成粘合剂层。该方法还包括将金属纳米颗粒施加到粘合剂层上,以在粘合剂层上形成金属纳米颗粒层。

    环状薄膜的沉积方法
    34.
    发明公开

    公开(公告)号:CN103026471A

    公开(公告)日:2013-04-03

    申请号:CN201180036295.2

    申请日:2011-08-01

    Inventor: 金海元 禹相浩

    Abstract: 本发明提供一种可以具有优异的膜性能和阶梯覆盖的环状薄膜的沉积方法。本发明一个实施例的环状薄膜的沉积方法包括:绝缘膜沉积步骤,其重复进行:通过将硅前体注入至装载了基底的腔室内部而将硅沉积在基底上的步骤;从腔室内部移除未反应的硅前体和反应副产物的第一清洗步骤;通过向腔室内部提供第一反应气体而将沉积的硅形成为含硅绝缘膜的反应步骤;和从腔室内部移除未反应的反应气体和反应副产物的第二清洗步骤;以及致密化步骤,其对通过向腔室内部提供等离子气氛来形成的含硅绝缘膜进行致密化。

    制备超高温氢分子的方法和使用超高温氢分子选择性断裂在基质表面中或基质表面上的分子的C-H和/或Si-H键的方法

    公开(公告)号:CN102414345A

    公开(公告)日:2012-04-11

    申请号:CN201080019798.4

    申请日:2010-03-03

    Abstract: 本发明公开了制备超高温分子氢的方法,以及将其用于选择性断裂C-H键或Si-H键而不断裂其它键的用途。维持氢等离子体,并使用电场抽取质子,以将它们加速至合适的动能。质子进入漂移区以与气相中的分子氢碰撞。连串碰撞产生高流量的超高温分子氢,其流量比从氢等离子体中抽取的质子流量高许多倍。通过漂移区中的氢气压力和通过漂移区的长度控制超高温分子氢相对于质子的标称流量比。由这些超高温分子分配质子的抽吸能,使得通过质子的抽吸能和标称流量比控制超高温分子氢的平均能量。由于超高温分子氢射弹不带有任何电荷,可将所述超高温氢流用以对电绝缘产品和导电产品进行工程表面改性。当将这样的产生高流量超高温分子氢的方法用于在基质上轰击具有所期待的化学官能团的有机前驱物分子(如硅酮或硅烷分子)时,由于来自超高温氢射弹对所述前驱物分子中氢原子的能量沉积的动力学选择性,C-H键或Si-H键由此优先断裂。所引起的交联反应产生稳定的分子膜,其具有可控的交联度,并保持前驱物分子的所期待的化学官能团。

    코팅
    39.
    发明公开
    코팅 审中-实审
    涂层

    公开(公告)号:KR1020160127053A

    公开(公告)日:2016-11-02

    申请号:KR1020167026122

    申请日:2015-02-24

    CPC classification number: B05D7/22 B05D1/62 B05D3/0493 B05D3/145

    Abstract: 하우징내에포함된하나이상의부품을포함하는장치에코팅을적용하는방법이다. 하우징의내면의적어도일부및/또는하나이상의부품의적어도일부에액체코팅전구체를적용한다. 액체코팅전구체를증발시키기위해충분한저압조건을폐쇄된하우징에적용하고장치의내면의적어도일부에코팅을형성하기위해액체코팅전구체를개시한다.

    Abstract translation: 将涂层施加到具有容纳在壳体中的一个或多个部件的装置的方法。 液体涂覆前体施加到壳体的内表面的至少一部分和/或壳体内的一个或多个部件的至少一部分。 将低压条件施加到封闭的壳体上,足以使液体涂层前体蒸发并引发液体涂覆前体,从而使涂层形成在装置的至少一些内表面上。

    플라즈마 표면 처리를 이용한 투명 기체 차단 필름의 제조방법 및 이로부터 제조된 투명 기체 차단 필름
    40.
    发明授权

    公开(公告)号:KR101013413B1

    公开(公告)日:2011-02-14

    申请号:KR1020080136382

    申请日:2008-12-30

    Inventor: 곽순종 전재호

    Abstract: 본 발명은 플라즈마 표면 처리를 이용한 투명 기체 차단 필름의 제조방법 및 이로부터 제조된 투명 기체 차단 필름에 관한 것으로, 구체적으로 a) 투명 플라스틱 필름의 표면에 유/무기 하이브리드 용액을 코팅하여 유/무기 하이브리드층을 형성하는 단계; 및 b) 상기에서 투명 플라스틱 필름 상에 형성된 유/무기 하이브리드층의 표면을 반응성 기체의 플라즈마로 처리하여 경사 조성형 계면구조를 갖는 무기층을 형성하는 단계를 포함하는 투명 기체 차단 필름의 제조방법, 및 상기 방법에 의해 제조된 유/무기 하이브리드층과 무기층 사이에 경사 조성형 계면구조를 갖는 투명 기체 차단 필름에 관한 것이다. 본 발명의 제조방법은 고진공 하에서의 증착공정을 사용하지 않고 플라즈마 표면 처리를 통해 기체 차단 박막을 형성하기 때문에 기체 차단 효과가 우수한 투명 기체 차단 필름을 간단한 공정에 의해 경제적으로 대량 생산할 수 있다. 또한 본 발명의 방법에 따라 제조된 투명 기체 차단 필름은 경사 조성형 계면구조로 인해 유/무기 하이브리드층과 무기층 사이의 계면에서 크랙(crack) 및 층간 박리현상이 유발되지 않으면서 기체 차단 효과가 탁월하여 각종 디스플레이 패널용으로 유용하게 사용될 수 있다.
    투명 기체 차단 필름, 경사 조성형 계면구조, 졸-겔 코팅, 플라즈마, 표면처 리, 디스플레이

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