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公开(公告)号：CN101827781A
公开(公告)日：2010-09-08
申请号：CN200780101155.2
申请日：2007-10-31
Applicant: 富士通株式会社
IPC: B81B3/00
CPC classification number: B81B3/0086 , B81B2201/033 , B81B2201/042 , B81B2203/0136 , B81B2203/058 , G02B26/0841
Abstract: 提供一种适于抑制驱动特性的劣化的微型可动元件以及包括这种微型可动元件的微型可动元件阵列。本发明的微型可动元件(X1)包括：具有第一驱动电极的可动部；第二驱动电极，用于在与第一驱动电极之间产生静电引力；第一导体部(22c)，其与第一驱动电极电连接；第二导体部(22b)，其与第二驱动电极电连接；以及第三导体部(21a)，其不与第一和第二驱动电极电连接，并且经由绝缘膜(23)与第一导体部(22c)接合且经由绝缘膜(23)与第二导体部(22b)接合。
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公开(公告)号：CN100532248C
公开(公告)日：2009-08-26
申请号：CN200480027286.7
申请日：2004-09-21
Applicant: 松下电工株式会社
CPC classification number: G02B26/0816 , B81B3/0086 , B81B2201/033 , B81B2201/045 , B81C1/00484 , B81C2201/0109 , B81C2201/019 , G02B6/3516 , G02B6/3518 , G02B6/3546 , G02B6/355 , G02B6/357 , G02B6/3584 , H02N1/008
Abstract: 一种用于制造包括固定地支撑在底座上的固定元件和可动地支撑在所述底座上的可动元件的微机电系统(MEMS)的方法。所述方法采用与下衬底分离的上衬底。所述上衬底在其顶层被选择性蚀刻以在其中形成多个柱，所述柱从所述上衬底的底层一起突出。所述柱包括将被固定到所述下衬底的所述固定元件和仅弹性地支撑于一个或多个所述固定元件以相对于所述固定元件可移动的所述可动元件。所述下衬底在其顶表面形成有至少一个凹陷。然后所述上衬底颠倒结合到所述下衬底的顶部，使得把所述固定元件直接设置在所述下衬底上，并把所述可动元件设置在所述凹陷上方。最后，除去所述上衬底的底层，以从所述底层释放所述可动元件，从而把所述可动元件浮置在所述凹陷上，并允许它们相对于所述下衬底移动，同时保持所述固定元件固定到所述下衬底的顶部。
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公开(公告)号：CN100410724C
公开(公告)日：2008-08-13
申请号：CN200610059745.0
申请日：2006-03-06
Applicant: 富士通株式会社
IPC: G02B26/08 , H01L29/84 , G01P15/125 , G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: B81C1/00547 , B81B2201/033
Abstract: 本发明提供梳齿电极对的制造方法，由材料衬底制造一对梳齿电极，材料衬底包括第一、第二导电层和位于它们之间的绝缘层。梳齿电极包括第一和第二梳齿电极。第一梳齿电极包括由第一导电层得到的第一导体、由第二导电层得到的第二导体和由绝缘层得到的绝缘体。第二梳齿电极由第二导电层得到。在第一导电层上形成预备第一掩模图案；在预备第一掩模图案和第一导电层上形成第二掩模图案；进行蚀刻以由预备第一掩模图案形成第一掩模图案；进行蚀刻以在第一导电层中形成第一导体和第一剩余掩模部分；进行蚀刻以在绝缘层中形成绝缘体和第二剩余掩模部分；去除第二掩模图案；进行蚀刻以去除第一剩余掩模部分并在第二导电层中形成第二导体和第二梳齿电极。
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公开(公告)号：CN101196613A
公开(公告)日：2008-06-11
申请号：CN200710195158.9
申请日：2007-11-30
Applicant: JDS尤尼弗思公司
Inventor： 阿卜杜·贾里尔·K.·穆伊杜
CPC classification number: G02B26/0841 , B81B3/0062 , B81B2201/033 , B81B2201/045 , B81B2203/058
Abstract: 一种用于关于两个垂直轴旋转二维微电机械微镜装置的混合静电致动器，包括用于关于倾斜轴旋转微镜的垂直梳齿驱动器和用于关于滚动轴旋转微镜的平行板驱动器。梳齿驱动器的转子梳齿指针从微镜的只关于倾斜轴可旋转的子框架延伸，而平行板电极中的一个固定在包围子框架的主平台的下面。垂直梳齿驱动器旋转关于倾斜轴子框架和主平台，而平行板驱动器只旋转关于滚动轴主平台。
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公开(公告)号：CN1490240A
公开(公告)日：2004-04-21
申请号：CN03155680.9
申请日：2003-09-02
Applicant: 三星电子株式会社
CPC classification number: B81B3/0062 , B81B2201/033 , B81B2201/042 , B81B2203/058 , B81C2201/019 , G02B26/0841 , H02N1/008
Abstract: 本发明公开了一种激励器，包括具有第一方向和垂直第一方向的第二方向并围绕垂直于第一方向和第二方向的第三方向相对沿第一方向的中心轴往复运动的平台。第一支撑部分支撑平台的往复运动。基体在平台下面对平台并由第一支撑部分支撑。平台驱动部分具有第一驱动梳状电极和与第一驱动梳状电极对应的第一静止梳状电极，位于平台的下表面和基体面对平台的上表面上。第二支撑部分支撑第一支撑部分，使得第一支撑部分相对于沿该第二方向设置的旋转中心轴往复运动。第一支撑部驱动部分具有设置在第一支撑部分处的第二驱动梳状电极和固定地处于第二驱动梳状电极对应位置处的第二静止梳状电极从而产生第一支撑部分的往复运动。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN108495810A
公开(公告)日：2018-09-04
申请号：CN201680069999.2
申请日：2016-09-29
Applicant: 麦穆斯驱动有限公司
IPC: B81C1/00
CPC classification number: B81C1/00476 , B81B2201/033 , B81C1/00484 , B81C1/00515 , B81C1/00619 , B81C99/0095 , B81C2201/0132 , B81C2201/056
Abstract: 提供了一种简化的MEMS制造工序和MEMS装置，允许制造更便宜和更轻的MEMS装置。该工序包括将多个孔或其它特征图案蚀刻到MEMS装置中，然后蚀刻掉下面的晶片，使得在蚀刻工序之后，MEMS装置是所需的厚度并且单独的模具被分离，从而避免晶片减薄和模具切割的额外步骤。通过将沟槽蚀刻到衬底晶片中，并用MEMS基材将其填充，具有较大力的精密较高的MEMS装置可以被制造。
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公开(公告)号：CN105209370B
公开(公告)日：2018-01-19
申请号：CN201480026711.4
申请日：2014-03-14
Applicant: 数位光学MEMS有限公司
CPC classification number: H02N1/008 , B81B3/0051 , B81B2201/033 , G02B7/08
Abstract: 在一个实施方案中，致动器包括移动框架，其通过多个细长的平行运动屈曲部耦联到固定框架以相对于固定框架在制造位置和展开位置之间进行大致平行的运动。屈曲部布置成当移动框架布置在制造位置中时，相对于垂直于移动框架和固定框架延伸的线呈第一角度，并且当移动框架布置在展开位置中时，相对于同一线呈第二角度。通过将第一角度的值约束成小于第一和第二角度总和的大约一半，来控制第一框架相对于第二框架的弧形运动。
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公开(公告)号：CN105453408A
公开(公告)日：2016-03-30
申请号：CN201480044811.X
申请日：2014-07-30
Applicant: 国立大学法人静冈大学 , 欧姆龙株式会社 , 株式会社鹭宫制作所
IPC: H02N1/00
CPC classification number: H02N1/008 , B81B3/0054 , B81B2201/018 , B81B2201/0292 , B81B2201/033 , B81B2201/036 , B81B2201/047 , B81B2203/0109 , B81B2203/0163 , B81B2203/051 , F16K31/02 , G02B26/02 , H01H59/00
Abstract: 驱动器具备：具备固定电极及可动电极的静电驱动机构；由静电驱动机构驱动的第一可动部；弹性支撑第一可动部的第一弹性支撑部；形成于固定电极及可动电极的至少一方的驻极体；以及控制向静电驱动机构的电压施加的驱动控制部。在驱动器上，在由驻极体引起的静电力与第一弹性支撑部的弹性力平衡的稳定位置或设于其附近的稳定位置设定多个对第一可动部进行定位的稳定状态。通过对静电驱动机构施加电压，能够使第一可动部从任意的稳定位置向其他稳定位置移动。
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公开(公告)号：CN104684841A
公开(公告)日：2015-06-03
申请号：CN201380042767.4
申请日：2013-05-31
Applicant: 普渡研究基金会
Inventor： J·V·克拉克
CPC classification number: G01P15/125 , B81B3/0051 , B81B2201/0235 , B81B2201/033 , B81C99/003 , B81C99/0045 , G01C19/5755 , G01K11/00 , G01P15/097 , G01P21/00 , G01P2015/0871 , G01Q20/00 , G01Q40/00
Abstract: 测量微电子机械系统(MEMS)中的可移动质量的位移的方法包括抵靠着两个位移停止表面驱动所述质量以及测量诸如梳齿的感测电容器的对应差动电容。描述了具有位移停止表面的MEMS装置。在测量具有悬臂和偏转传感器的原子力显微镜(AFM)的属性的方法中、或者在具有用于感测被允许沿着位移轴振动的可移动质量的位移感测单元的温度传感器中，能够使用这种MEMS装置。运动测量装置能够包括90°异相地驱动的加速计和回转仪对。
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公开(公告)号：CN102119118B
公开(公告)日：2014-06-11
申请号：CN200980131329.9
申请日：2009-07-06
Applicant: 罗伯特·博世有限公司
IPC: B81C1/00
CPC classification number: B81C1/00166 , B81B2201/033 , B81C2201/014
Abstract: 本发明涉及一种用于微机械部件(100)的制造方法，包括以下步骤：在基本衬底上形成第一蚀刻停止层，第一蚀刻停止层被这样地构造，使得它具有穿透的留空的第一图案；在第一蚀刻停止层上形成第一电极材料层；在第一电极材料层上形成第二蚀刻停止层，第二蚀刻停止层被这样地构造，使得它具有穿透的留空的与第一图案不同的第二图案；在第二蚀刻停止层上形成第二电极材料层；在第二电极材料层上形成结构化的掩膜；和在第一方向上执行第一蚀刻步骤并且在与第一方向相反指向的第二方向上执行第二蚀刻步骤，以便由第一电极材料层蚀刻出至少一个第一电极单元及由第二电极材料层蚀刻出至少一个第二电极单元。本发明还涉及微机械部件(100)。
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