公开(公告)号：JP2006245072A

公开(公告)日：2006-09-14

申请号：JP2005055097

申请日：2005-02-28

Applicant: Canon Inc ,  キヤノン株式会社

Inventor： TOKITA TOSHINOBU ,  OTA HIROHISA ,  KAWAKAMI EIGO ,  HARUMI KAZUYUKI ,  NAKAMURA TAKU

IPC: H01L21/027 ,  B81C99/00

CPC classification number: B82Y10/00 ,  B81C99/009 ,  B81C2201/0152 ,  B81C2201/036 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To make easily and certainly a mold release starting point, in a pattern transfer that uses a mold.
SOLUTION: The mold used for a transferring device transfers a pattern to an optical curing resin, while stiffening this optical curing resin, by bringing a mold 1 in which the pattern is formed into contact to the optical curing resin 8 on a substrate 2, and a light is irradiated. In the transfer device using this, a second region 1b is formed to the exterior of the first region 1a, in which this pattern is formed in the bottom in which the pattern in the mold, is formed. The second region is referred to as a mold release shape 1c for making a part which makes the mold, photocuring resin after curing and secession start.
COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Abstract translation: 要解决的问题：使用模具的图案转印中，易于确定脱模起点。 解决方案：用于转印装置的模具将图案转移到光固化树脂，同时通过使形成图案的模具1与基板上的光固化树脂8接触而使该光固化树脂硬化 2，照射光。 在使用它的转印装置中，第二区域1b形成在第一区域1a的外部，其中形成有模具中的图案的底部形成图案。 第二区域被称为用于制造使模具的一部分，固化和分离开始后的光固化树脂的脱模形状1c。 版权所有（C）2006，JPO＆NCIPI

公开(公告)号：KR101399440B1

公开(公告)日：2014-05-28

申请号：KR1020120066177

申请日：2012-06-20

Applicant: 한국기계연구원

Inventor： 이응숙 ,  정주연 ,  최준혁 ,  한재원

IPC: G03F7/00 ,  H01L21/027 ,  G03F7/20 ,  B29C33/42

CPC classification number: B32B37/26 ,  B81C99/009 ,  B81C2201/0152 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002 ,  G03F7/0017 ,  G03F7/2004

Abstract: 본 발명은 플라즈모닉 나노리소그래피 장치용 스탬프 제조방법에 관한 것이며, 본 발명의 플라즈모닉 나노리소그래피 장치용 스탬프 제조방법은 기판 상에 플라즈모닉 공명(plasmonic resonance) 특성을 갖는 소재로 마련되는 금속패턴을 형성하는 금속패턴 형성단계; 상기 기판 및 상기 금속패턴의 외면에 소수성 박막을 코팅하여 소수성 처리하는 소수성 처리단계; 상기 금속패턴의 외면만 선택적으로 친수성 처리하는 친수성 처리단계; 상기 기판 및 상기 금속패턴 상에 버퍼층을 적층하는 버퍼층 적층단계; 상기 금속패턴 및 버퍼층을 상기 기판으로부터 광투과성 소재의 베이스 측으로 전사시켜 결합시키는 결합단계;를 포함하는 것을 특징으로 한다.
따라서, 본 발명에 의하면, 표면 플라즈몬 에너지를 이용하여 광회절의 한계를 극복하고 미세패턴을 형성할 수 있는 플라즈모닉 나노리소그래피 장치용 스탬프 제조방법 및 플라즈모닉스 나노리소그래피 장치가 제공된다.

公开(公告)号：KR20120073388A

公开(公告)日：2012-07-05

申请号：KR20100135135

申请日：2010-12-27

Applicant: KOREA ELECTRONICS TECHNOLOGY

Inventor： LEE HYUNG MAN

IPC: G02B5/20

CPC classification number: G02B5/26 ,  B29C33/3842 ,  B29D11/00634 ,  B81C2201/0132 ,  B81C2201/0152 ,  G02B5/207 ,  G02B26/0841

Abstract: PURPOSE: An electrostatic wavelength varying filter is provided to uniformly and widely control the thickness of the electrostatic wavelength varying filter by forming a spacer layer with UV imprinting or thermal imprinting mold process. CONSTITUTION: A membrane layer(120) is formed on a first substrate(110). A first high reflection filter layer(130) and a first electrode(140) are formed on the membrane layer. A part except for the first high reflection filter layer and the first electrode is eliminated. A spacer layer(170) is formed on a second substrate(150) with an imprinting mold process. A part of the spacer layer is depressed in order to be corresponded to the first high reflection filter layer. A second electrode is formed on a projected portion of the spacer layer. A device is formed by bonding the first substrate and the second substrate.

Abstract translation: 目的：提供静电波长变化滤光片，通过用UV印迹或热压印模具工艺形成间隔层，均匀且广泛地控制静电波长变化滤光片的厚度。 构成：在第一基板（110）上形成膜层（120）。 第一高反射滤光层（130）和第一电极（140）形成在膜层上。 消除了第一高反射滤光层和第一电极之外的部分。 间隔层（170）用压印模制法形成在第二基底（150）上。 为了与第一高反射滤光层对应，间隔层的一部分被压下。 第二电极形成在间隔层的突出部分上。 通过将第一基板和第二基板接合而形成器件。