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公开(公告)号：JP5751357B1
公开(公告)日：2015-07-22
申请号：JP2014018922
申请日：2014-02-03
Applicant: トヨタ自動車株式会社
CPC classification number: F28F9/185 , C03C3/06 , C03C8/02 , C03C8/24 , C04B35/565 , C04B35/66 , C04B37/02 , F02B29/0462 , F28D21/0003 , F28D7/106 , F28F21/04 , F28F7/02 , C03C2201/06 , C03C2207/02 , C04B2235/3826 , C04B2237/10 , C04B2237/125 , C04B2237/365 , C04B2237/406 , C04B2237/59 , Y02T10/146
Abstract: 【課題】接合部の接合性を確保しつつガスに対する高い耐食性を有するセラミック部材および金属部材の接合構造を提供する。 【解決手段】セラミック部材および金属部材の接合構造(20)は、ガスが通過する部位に設置された装置(10)のセラミック部材(50)と金属部材(32a,32b)とを接合する接合構造であって、セラミック部材と金属部材とを接合する接合部(21a,21b)を備え、接合部は、ガラスによって構成されたガラス部(22a,22b)と、ガラスよりもガスに対する高い耐食性を有する金属ロウ材によって構成された金属ロウ材部(23a,23b)とを有し、金属ロウ材部のガスに接触する面積はガラス部のガスに接触する面積よりも大きいことを特徴とする。 【選択図】図3
Abstract translation: 提供陶瓷部件并且具有气体的高的耐腐蚀性，同时确保接合部的接合金属部件的接合结构。 该陶瓷构件的交界处和金属件结构（20），用于粘合上述陶瓷部件（50）和安装在所述气体通过该站点的装置的金属构件的接合结构（10）（32A，32 B） 一个是用于接合陶瓷部件和金属部件的结包括（21A，21B），该接头具有由玻璃构成的玻璃部分和（22A，22B），高腐蚀气体性比玻璃 由金属钎料的钎焊金属部分（23A，23B），并已结合在金属钎焊材料部分的气体接触的面积可大于在玻璃部与气体接触的面积大。 点域
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公开(公告)号：WO2015115593A1
公开(公告)日：2015-08-06
申请号：PCT/JP2015/052653
申请日：2015-01-30
Applicant: トヨタ自動車株式会社
CPC classification number: F28F9/185 , C03C3/06 , C03C8/02 , C03C8/24 , C03C2201/06 , C03C2207/02 , C04B35/565 , C04B35/66 , C04B37/02 , C04B2235/3826 , C04B2237/10 , C04B2237/125 , C04B2237/365 , C04B2237/406 , C04B2237/59 , F02B29/0462 , F28D7/106 , F28D21/0003 , F28F7/02 , F28F21/04 , Y02T10/146
Abstract: セラミック部材および金属部材の接合構造（２０）は、ガスが通過する部位に設置された装置（１０）のセラミック部材（５０）と金属部材（３２ａ，３２ｂ）とを接合する接合構造であって、セラミック部材と金属部材とを接合する接合部（２１ａ，２１ｂ）を備え、接合部は、ガラスによって構成されたガラス部（２２ａ，２２ｂ）と、ガラスよりもガスに対する高い耐食性を有する金属ロウ材によって構成された金属ロウ材部（２３ａ，２３ｂ）とを有し、金属ロウ材部のガスに接触する面積はガラス部のガスに接触する面積よりも大きいことを特徴とする。
Abstract translation: 提供一种陶瓷构件的接合结构（20）和与陶瓷构件（50）和设置在气体通过的位置的装置（10）的金属构件（32a，32b）接合的金属构件，其中： 所述结构（20）包括接合所述陶瓷构件和金属构件的接合部（21a，21b） 接合部分包括由玻璃构成的玻璃部分（22a，22b）和由与玻璃相比对气体具有较高耐腐蚀性的钎焊金属材料构成的钎焊金属材料部分（23a，23b）; 并且与气体接触的钎焊金属材料部分的面积大于与气体接触的玻璃部分的面积。
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公开(公告)号：WO2009007146A1
公开(公告)日：2009-01-15
申请号：PCT/EP2008/054287
申请日：2008-04-09
Applicant: EVONIK DEGUSSA GMBH , OSWALD, Monika , SCHULZE-ISFORT, Christian , SCHUMACHER, Kai , HOFMANN, Ralph , KISSNER, Corinna
Inventor： OSWALD, Monika , SCHULZE-ISFORT, Christian , SCHUMACHER, Kai , HOFMANN, Ralph , KISSNER, Corinna
CPC classification number: C03B19/1005 , C03C1/006 , C03C3/06 , C03C3/083 , C03C12/00 , C03C2201/06 , C03C2201/14 , C03C2201/28 , C03C2201/31 , C03C2201/32 , C03C2201/34 , C03C2201/40 , C03C2201/42 , C03C2201/50 , C03C2203/20 , C04B35/14 , C04B35/62655 , C04B2235/72
Abstract: Process for producing a sintered granular material containing silicon dioxide and having a BET surface area of less than 1 m 2 g and a proportion of impurities of less than 50 ppm, in which a mixture which contains silicon dioxide powder and a metal compound is intensively mixed in an atmosphere having a relative atmospheric humidity of from 1.0 to 100% at temperatures of from 0 to 50°C by means of a dispersing apparatus, the crumbly mass is divided into pieces, subsequently dried, purified 'and sintered. The moisture content of the silicon dioxide powder and/or the atmospheric humidity are/is at least sufficient to hydrolyse the metal compound completely.
Abstract translation: 制备含有二氧化硅并且BET表面积小于1m 2 g的烧结颗粒材料和小于50ppm的杂质比例的方法，其中含有二氧化硅粉末和金属化合物的混合物在 气氛通过分散装置在0至50℃的温度下具有1.0至100％的相对大气湿度，将碎屑块分成几块，随后干燥，纯化并烧结。 二氧化硅粉末和/或大气湿度的水分含量至少足以使金属化合物完全水解。
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公开(公告)号：US09746773B2
公开(公告)日：2017-08-29
申请号：US13920628
申请日：2013-06-18
Applicant: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
Inventor： Shigeru Maida , Hisatoshi Otsuka , Tetsuji Ueda , Masanobu Ezaki
CPC classification number: G03F7/2008 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , C03B19/1423 , C03B19/1453 , C03B2201/21 , C03B2201/23 , C03B2201/42 , C03B2207/06 , C03B2207/12 , C03B2207/36 , C03C3/06 , C03C2201/06 , G03F1/24
Abstract: Methods for selecting titania-doped quartz glass which experiences a reduction in OH group concentration of less than or equal to 100 ppm upon heat treatment at 900° C. for 100 hours as suitable material for the EUV lithography member.
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公开(公告)号：US20130283858A1
公开(公告)日：2013-10-31
申请号：US13920628
申请日：2013-06-18
Applicant: Shigeru Maida , Hisatoshi Otsuka , Tetsuji Ueda , Masanobu Ezaki
Inventor： Shigeru Maida , Hisatoshi Otsuka , Tetsuji Ueda , Masanobu Ezaki
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/2008 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , C03B19/1423 , C03B19/1453 , C03B2201/21 , C03B2201/23 , C03B2201/42 , C03B2207/06 , C03B2207/12 , C03B2207/36 , C03C3/06 , C03C2201/06 , G03F1/24
Abstract: Methods for selecting titania-doped quartz glass which experiences a reduction in OH group concentration of less than or equal to 100 ppm upon heat treatment at 900° C. for 100 hours as suitable material for the EUV lithography member.
Abstract translation: 用于选择在900℃热处理100小时时氧化铝基团浓度小于或等于100ppm的掺杂二氧化钛的石英玻璃作为EUV光刻元件的合适材料的方法。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：US20040071432A1
公开(公告)日：2004-04-15
申请号：US10658606
申请日：2003-09-08
Inventor： Mara Bagnasco , Valeria Gusmeroli
IPC: G02B006/16 , G02B006/34
CPC classification number: G02B6/02114 , C03C13/046 , C03C25/6226 , C03C2201/06 , C03C2201/12 , C03C2201/31 , G02B6/02123 , G02B6/443
Abstract: The present invention provides an optical fiber providing high photosensitivity in the absence of hydrogen loading as well as a low numerical aperture. One aspect of the present invention relates to an optical fiber including a core, the core comprising silica doped with at least about 6 mol % germania and at least about 0.9 wt % fluorine; and a cladding surrounding the core. The optical fiber of the present invention is suitable for the production of fiber Bragg gratings.
Abstract translation: 本发明提供了一种在不存在氢负载和低数值孔径的情况下提供高光敏性的光纤。 本发明的一个方面涉及一种包括芯的光纤，所述芯包括掺杂有至少约6mol％的氧化锗和至少约0.9wt％的氟的二氧化硅; 以及围绕芯的包层。 本发明的光纤适用于制造光纤布拉格光栅。
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公开(公告)号：US20030039865A1
公开(公告)日：2003-02-27
申请号：US10177579
申请日：2002-06-20
Applicant: Isonics Corporation
Inventor： Vic Kelsey , James E. Alexander , Stephen J. Burden
IPC: B32B009/04
CPC classification number: C03C4/0042 , C03C3/06 , C03C2201/06 , C03C2203/42 , G02B1/00
Abstract: The present invention is directed to isotopically enriched optical materials and methods of producing the same. The optical materials provide high isotopic purity silica, calcium, zinc, gallium and germanium materials with increased resistance to optical damage which can be used alone or in combination with other means of preventing damage to decrease lens degradation caused by energy-induced compaction during use.
Abstract translation: 本发明涉及同位素富集的光学材料及其制造方法。 光学材料提供高同位素纯度的二氧化硅，钙，锌，镓和锗材料，具有增加的抗光损伤性，可以单独使用或与其他防止损伤的方法相结合，减少在使用过程中由能量引起的压实引起的晶状体降解。
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公开(公告)号：US06490399B1
公开(公告)日：2002-12-03
申请号：US09403476
申请日：2000-07-11
Applicant: Walter Heitmann , Karl-Friedrich Klein
Inventor： Walter Heitmann , Karl-Friedrich Klein
IPC: G02B600
CPC classification number: C03C4/0071 , C03C3/06 , C03C2201/06 , C03C2201/31 , G02B6/02
Abstract: Optical waveguides made of quartz glass with reduced infrared absorption and reduced attenuation coefficients are made of glass material composed of atoms having mass numbers higher than that of the natural isotope distribution. The quartz glass or doped quartz glass is made of silicon atoms, of which most or all have the mass numbers 29 and/or 30, as well as of oxygen atoms, of which most or all are composed of isotopes with the mass numbers 17 and/or 18. Atoms of the 76Ge isotope are preferably used for doping with germanium atoms having higher mass numbers than in the natural isotope mixture. Glass with atoms of preferably 30Si and/or 18O are preferably used for optical waveguides based on quartz glass having attenuation coefficients below 0.15 dB/km. As indicated, such optical waveguides are also suitable for transmitting high-energy, pulsed or continuous laser light in a wavelength range from 2.0 to 3.0 &mgr;m. These optical waveguides are also suitable for transmitting holmium laser light at 2.1 &mgr;m and Er laser light with a wavelength of 2.79 and 2.94 &mgr;m.
Abstract translation: 由石英玻璃制成的光波导具有降低的红外吸收和减小的衰减系数由由质子数高于天然同位素分布的原子组成的玻璃材料制成。 石英玻璃或掺杂的石英玻璃由硅原子制成，其大部分或全部具有质量数29和/或30以及氧原子，其中大部分或全部由质量数17的同位素组成， /或18.76Ge同位素的原子优选用于掺杂质子数高于天然同位素混合物的锗原子。 具有优选30Si和/或18O原子的玻璃优选用于基于衰减系数低于0.15dB / km的石英玻璃的光波导。 如所指出的，这种光波导也适用于在2.0-3.0μm的波长范围内传输高能，脉冲或连续的激光。 这些光波导也适用于传输波长为2.79和2.94 mum的2.1 mum的钬激光和Er激光。
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公开(公告)号：US5152819A
公开(公告)日：1992-10-06
申请号：US750561
申请日：1991-08-26
Applicant: Jeffery L. Blackwell , Michael S. Dobbins , Robert E. McLay , Carlton M. Truesdale
Inventor： Jeffery L. Blackwell , Michael S. Dobbins , Robert E. McLay , Carlton M. Truesdale
IPC: C03B37/018 , C03B8/04 , C03B19/14 , C03B20/00 , C03B37/014 , C03C3/06 , C07F7/08 , C07F7/10 , G02B6/00
CPC classification number: C03B37/01413 , C03B19/1415 , C03B37/014 , C03B37/01446 , C03C3/06 , C03B2201/02 , C03B2201/10 , C03B2201/28 , C03B2201/30 , C03B2201/31 , C03B2201/32 , C03B2201/34 , C03B2201/40 , C03B2201/42 , C03B2201/50 , C03B2201/54 , C03B2207/06 , C03B2207/32 , C03B2207/50 , C03B2207/52 , C03B2207/85 , C03C2201/02 , C03C2201/06 , C03C2201/28 , C03C2203/40 , Y10S65/90 , Y10S65/901
Abstract: This invention relates to the production of high purity fused silica glass through oxidation and/or flame hydrolysis of a halide-free, organosilicon-R compound in vapor form having the following properties:(a) producing a gas stream of a halide-free silicon-containing compound in vapor form capable of being converted through thermal decomposition with oxidation or flame hydrolysis to SiO.sub.2 ;(b) passing said gas stream into the flame of a combustion burner to form amorphous particles of fused SiO.sub.2 ;(c) depositing said amorphous particles onto a support; and(d) either essentially simultaneously with said deposition or subsequently thereto consolidating said deposit of amorphous particles into a virtually nonporous body; the improvement comprising utilizing a halide-free, organosilicon-R compound in vapor form having the following properties:(1) a Si--R bond dissociation energy that is no higher than the dissociation energy of the Si--O bond;(2) a boiling point no higher than 350.degree. C.; and(3) which, upon pyrolysis and/or hydrolysis, will produce decomposition products beside SiO.sub.2 which are deemed to be environmentally safe or the emissions are below acceptable governmental standards.
Abstract translation: 本发明涉及通过氧化和/或火焰水解无蒸气的蒸气形式的有机硅-R化合物生产高纯度熔融石英玻璃，其具有以下特性：（a）产生无卤化硅的气流 的蒸汽形式的化合物，其能够通过氧化或火焰水解的热分解转化为SiO 2; （b）将所述气流送入燃烧器的火焰中以形成熔融SiO 2的无定形颗粒; （c）将所述无定形颗粒沉积到载体上; 和（d）基本上与所述沉积物同时或随后将所述无定形颗粒沉积物固结成几乎无孔的体; 该改进包括利用具有以下性质的蒸气形式的无卤化物的有机硅-R化合物：（1）不高于Si-O键的解离能的Si-R键离解能; （2）沸点不高于350℃。 和（3）在热解和/或水解后，将在SiO2之外产生被认为是环境安全的或排放低于可接受的政府标准的分解产物。
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公开(公告)号：US3678144A
公开(公告)日：1972-07-18
申请号：US3678144D
申请日：1970-06-12
Applicant: CORNING GLASS WORKS
Inventor： SHOUP ROBERT D
CPC classification number: C03C1/006 , C03B19/12 , C03C3/06 , C03C2201/06 , C03C2201/10 , C03C2201/28 , C03C2201/30 , C03C2201/31 , C03C2201/32 , C03C2201/80 , C03C2203/22 , C03C2203/24 , C03C2203/30 , Y10S65/901
Abstract: This invention relates to the discovery of a method for incorporating various oxides into silica-containing porous and nonporous glass materials by dissolving soluble compounds of the additive oxides, characterized as MxOy, into solutions, colloidal solutions, or suspensions of soluble silicates, reacting the mixture with an organic compound, and then firing the thus-formed body at temperatures below the softening point of the particular glass composition for a sufficient length of time to produce the porous body or non-porous glass body containing the added oxides intimately bonded to the silica network.
Abstract translation: 本发明涉及将各种氧化物掺入含二氧化硅的多孔和无孔玻璃材料中的方法的发现，通过将以MxOy为特征的添加剂氧化物的可溶性化合物溶解在可溶性硅酸盐的溶液，胶体溶液或悬浮液中，使混合物 与有机化合物反应，然后在低于特定玻璃组合物的软化点的温度下焙烧如此形成的本体足够长的时间以产生包含与二氧化硅紧密结合的添加氧化物的多孔体或无孔玻璃体 网络。
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