公开(公告)号：KR1020070015201A

公开(公告)日：2007-02-01

申请号：KR1020067024014

申请日：2006-03-17

Applicant: 안리츠 코포레이션

Inventor： 모리히로시

IPC: H01S3/10

CPC classification number: H01S5/06256 ,  G01J3/027 ,  G01J3/10 ,  G01J3/42 ,  G01N21/39 ,  G01N2021/399 ,  H01L2224/48091 ,  H01S5/02208 ,  H01S5/02248 ,  H01S5/02415 ,  H01S5/02438 ,  H01S5/026 ,  H01S5/0425 ,  H01S5/0612 ,  H01S5/06258 ,  H01S5/1203 ,  H01S5/2231 ,  H01S5/227 ,  H01L2924/00014

Abstract: A variable wavelength semiconductor laser element comprising a wavelength control region formed in an optical waveguide including an active layer formed above a semiconductor substrate and guiding light generated in the active layer and provided, at least partially, with a diffraction grating for selecting light having a predetermined wavelength from among light generated in the active layer, first and second driving electrodes having a clad layer and an insulation layer formed above the clad layer and being formed below the semiconductor substrate and above the clad layer, a heating section formed above the insulation layer and heating the wavelength control region at least partially, first and second heating terminals provided at the heating section, and first and second connection lines for connecting the first and second driving electrodes in series through a power supply. The variable wavelength semiconductor laser can control the wavelength of light being led out from the optical waveguide by varying a current being supplied from the power supply to the first and second connection lines substantially connected in series through the heating section. ® KIPO & WIPO 2007

Abstract translation: 一种可变波长半导体激光元件，包括形成在包括在半导体衬底上形成的有源层的光波导中的波长控制区域，并且引导在有源层中产生的光并且至少部分地设置有用于选择具有预定 在有源层中产生的光中的波长，在覆盖层的上方形成有覆盖层和绝缘层的第一和第二驱动电极，形成在半导体衬底的下方和覆盖层的上方，在绝缘层的上方形成有加热部， 至少部分地加热波长控制区域，设置在加热部分的第一和第二加热端子，以及用于通过电源串联连接第一和第二驱动电极的第一和第二连接线。 可变波长半导体激光器可以通过将从电源提供的电流改变为通过加热部分基本上串联连接的第一和第二连接线来控制从光波导引出的光的波长。 ®KIPO＆WIPO 2007

公开(公告)号：KR1020010040418A

公开(公告)日：2001-05-15

申请号：KR1020007008162

申请日：1999-01-26

Applicant: 메사추세츠 인스티튜트 오브 테크놀로지 ,  더 브리검 앤드 우먼즈 하스피털, 인크.

Inventor： 왕,토마스,디. ,  펠드,마이클,에스. ,  왕,양 ,  반담,재크 ,  풀검,스티븐에프.

IPC: A61B1/00

CPC classification number: G01J3/4406 ,  A61B1/00009 ,  A61B1/0005 ,  A61B1/043 ,  A61B1/05 ,  A61B1/07 ,  A61B5/0071 ,  A61B5/0084 ,  A61B5/415 ,  A61B5/418 ,  G01J3/02 ,  G01J3/0232 ,  G01J3/10 ,  G01N21/6456 ,  G01N2021/6417 ,  G01N2021/6421 ,  G01N2021/6484

Abstract: 본발명은형광성을이용한내시경의이미지화시스템(40)에관한것이다. 본발명의시스템은제 1 및제 2 광원(60,61)을사용하여시험되는조직(16)의형광이미지및 반사이미지를제공한다. 내시경(54)의말단부에부착되어있는이미지화디바이스(72)는형광이미지와반사이미지둘 모두를수집하는데사용된다.

公开(公告)号：KR101842639B1

公开(公告)日：2018-05-14

申请号：KR1020160155690

申请日：2016-11-22

Applicant: 한국해양과학기술원

Inventor： 오상우 ,  이문진

IPC: G01J3/10 ,  G01J3/443

CPC classification number: G01J3/10 ,  G01J3/443 ,  G01J2003/106

Abstract: 본발명은해양유출유등의측정대상물의농도에따라광원의개수를조절하여최적화된측정결과를얻을수 있도록하는다중광원구조를이용한광분석장치및 그방법에관한것이다. 상기다중광원구조를이용한광분석장치는, 측정대상물의농도에따라광량의조절을위해선택적으로조명되는광원을각각구비한다수의광원부를구비한다중광원부; 상기광원부의개수 + 1 개의면을가지며, 각각의면에는상기광원부각각이대면하고나머지하나의면으로는측정대상물에서발생한반응광이방출되도록각 기둥으로형성되어상기측정대상물이위치되는큐벳을포함하는큐벳부; 상기큐벳을통해방출되는반응광을검출하는광센서부; 및상기다중광원부를구성하는광원부들의조명을제어하는제어부;를포함하여구성될수 있다.

公开(公告)号：KR101854593B1

公开(公告)日：2018-05-04

申请号：KR1020160035523

申请日：2016-03-24

Applicant: 베러티 인스트루먼트, 인코퍼레이티드

Inventor： 불럭래리알로스 ,  콜레스존디. ,  멜로니마크앤쏘니 ,  웰란마이크

IPC: G01J3/26 ,  G01J3/10 ,  H01J61/80

CPC classification number: H05B41/30 ,  G01J3/0205 ,  G01J3/027 ,  G01J3/10 ,  G01J3/26 ,  G01J2003/1278 ,  G01N21/84 ,  G01N2201/061 ,  G01N2201/0696

Abstract: 플래시램프제어시스템에는고 전압전원공급장치에정적으로전기적으로연결된커패시터가제공되며, 전류감지구성요소가그 후정적커패시터에대한충전전류및/또는방전전류를모니터링하기위해정적커패시터및 디지털제어전자장치에전기적으로연결된다. 동적으로스위칭가능한커패시터는또한모니터링된충전전류및/또는방전전류에기초하여고 전압전원공급장치로부터동적으로스위칭가능한커패시터를분리하기위해고 전압전원공급장치및 디지털제어전자장치에전기적으로연결될수 있다. 공기갭, 확산균질요소, 이미징요소, 비-이미징요소또는광 파이프균질요소로이루어진하나이상의균질요소가, 광학신호의변화의계수를시간적으로든스펙트럼으로든또는양쪽모두에서감소하기위해, 다채널분배기가있다면그와같이플래시램프에근접한광 경로에배치될수 있다.

公开(公告)号：KR20180032595A

公开(公告)日：2018-03-30

申请号：KR20187004622

申请日：2016-07-21

Applicant: INSTR SYSTEMS OPTISCHE MESSTECHNIK GMBH

Inventor： FRANK FELIX ,  ESTERMANN MARKUS ,  KAPPEL CHRISTOPH ,  SCHEWE FLORIAN ,  HARING RETO ,  WINKLER AMY ,  GREAVES CORIN MICHAEL RICARDO

IPC: G01J3/02 ,  G01J3/10 ,  G01J3/18 ,  G02B19/00 ,  G02B27/10

CPC classification number: G01J3/10 ,  G01J3/0218 ,  G01J3/0297 ,  G01J3/18 ,  G01J2003/104 ,  G01J2003/1286 ,  G02B19/0066 ,  G02B27/1086 ,  G02B27/425

Abstract: 본발명은, 광을발생시키는장치에관한것으로, - 복수의광원들(light soucrces)(1), - 상기광원들(1)을구동하는제어디바이스(contral device)(2), 및 - 상기광원들(1)에의해방출된광을출구개구(exit opening)(3)에서중첩시키는중첩광학유닛(superimposition optical unit)을포함한다. 본발명의목적은종래기술에비해개선된장치를제공하는것이다. 이러한목적을위하여본 발명은다음과같은중첩광학유닛을제안한다. 상기중첩광학유닛은, - 상기광원들(1)이위치된초점평면에있는제1 오목거울(4), - 상기광원들(1)에의해방출된광(6)이상기제1 오목거울(4)에의해반사되어도달되는광학격자(optical grating)(5), 및 - 제2 오목거울(7)을포함하고, 상기제2 오목거울(7)은상기광학격자(5)에서회절된광(8)을상기제2 오목거울(7)의초점에위치된출구개구(3) 상으로반사시키는것이다.

Abstract translation: 本发明涉及一种装置，用于产生光; - 一多个光源（光soucrces）（1）， - 控制设备（CONTRAL装置）（2），用于驱动所述光源（1），以及 - 所述光源 以及叠加光学单元，用于将光源（1）发射的光叠加在出口（3）处。 本发明的目的是提供一种比现有技术更好的装置。 为此目的，本发明提出如下的叠加光学单元。 叠加光学单元，所述，在光的位置上机构焦平面（6）由所述光源（1）中，第1凹面镜发射光源（1）的第一凹面镜（4）（4 以及由第一凹面镜7和第二凹面镜7反射并到达的光栅5.第二凹面镜7包括光栅5， ）到位于第二凹面镜（7）的焦点处的出口（3）。

公开(公告)号：KR1020170023628A

公开(公告)日：2017-03-06

申请号：KR1020150119044

申请日：2015-08-24

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 엄근선

IPC: G01N21/3563 ,  A61B5/00

CPC classification number: G01J3/42 ,  G01J3/027 ,  G01J3/10 ,  G01J3/28 ,  G01J2003/2873 ,  G01J2003/425

Abstract: 시료측정에유리하도록분광기의파라미터를조정하고, 레퍼런스물질의반사도를조절하여낮은반사도의스펙트럼을측정한후 100% 반사도의스펙트럼으로변환함으로써시료스펙트럼의신호대잡음비(Signal to Noise Ratio: SNR)을높일수 있는시료분석을위한레퍼런스스펙트럼측정장치및 방법, 시료분석장치및 방법이개시된다.

Abstract translation: 用于测量参考光谱的装置包括：参数调节器，被配置为调节分光镜的参数，使得样品的反射光谱的强度具有在一个范围内的值;参考材料光谱测量器，被配置为调节参考材料的反射率 因此参考物质的反射光谱的强度不饱和，并且使用具有调整参数的分光器测量参考物质的反射光谱，第一参考光谱计算器被配置为响应于参考物质的调整的反射率 材料不是百分之百，基于测量的参考材料的反射光谱计算第一参考光谱;以及第二参考光谱测量器，被配置为使用具有调整参数的分光仪，测量参考物质的第二参考光谱，当时 关闭光谱仪的光源。

公开(公告)号：KR101692653B1

公开(公告)日：2017-01-03

申请号：KR1020157011964

申请日：2013-10-23

Applicant: 피닉스 컨택트 게엠베하 & 컴퍼니 카게

Inventor： 그루너트,프레드 ,  해일러,프레드릭 ,  님즈,토마스

IPC: G01N21/88 ,  G01N21/31 ,  G01J3/10 ,  G01J3/02 ,  G01J3/42

CPC classification number: G01J3/0297 ,  G01J3/027 ,  G01J3/10 ,  G01J3/42 ,  G01N21/31 ,  G01N21/8806

Abstract: 본발명은재료의표면을조명하기위한장치에관한것으로, 보정광(105)을이용하여재료의표면(103)을조명하는조명장치(101), 상기보정광(105)에대응하여재료의표면(103)에서방출된측정광(109)을기록하는기록장치(107), 및상기재료의표면(103)의분산된스펙트럼반사율(diffuse spectral reflectance)을특징짓는, 측정광(109)의스펙트럼특성을기록하는처리장치(111)를포함하며, 상기조명장치(101)는, 측정광(109)의스펙트럼특성에부합하는스펙트럼특성을가지는, 재료의표면(103)을조명하기위한조명광(113)을생성하도록구성된다.

Abstract translation: 一种用于照射材料表面的装置，包括用校准光照射材料表面的照明装置，用于记录由材料的表面响应于校准光发射的测量光的记录装置，以及 用于记录表征材料表面的漫反射光谱反射率的表征测量光的光谱特性的处理器装置，其中所述照明装置被配置为产生用于照射具有对应于所述材料的光谱特性的所述材料的表面的照明光 到测量光的光谱特性。

公开(公告)号：KR101577490B1

公开(公告)日：2015-12-14

申请号：KR1020117028066

申请日：2010-05-18

Applicant: 인스트루먼트 시스템즈 옵티쉐 메스테크닉 게엠베하

Inventor： 나젤토마스 ,  한낙데트레프 ,  스투름시몬

IPC: G01J3/10 ,  G01J1/08 ,  G01J5/52

CPC classification number: G01J3/10 ,  F21V29/00 ,  G01J1/0252 ,  G01J1/08 ,  G01J3/0286 ,  G01J5/522 ,  H05B33/0803

Abstract: 본발명은개구(12)를갖는하우징(2), 상기하우징(2) 내에유지되는기판(22), 광비임을발생하기위해상기기판(22) 상에장착되는반도체광원(18), 상기개구(12)의영역에상기하우징(2)의외부로광 비임을방출하는광 방출개구(15)를갖는방출개구지지요소(14)를포함하는교정광원에관한것이다. 상기방출개구지지요소(14)는상기하우징(2)으로부터분리되고, 상기반도체광원(18)의기판(22)에부착된다.

公开(公告)号：KR1020150032814A

公开(公告)日：2015-03-30

申请号：KR1020140124963

申请日：2014-09-19

Applicant: 키옵티크 포토닉스 게엠베하 운트 콤파니 카게

Inventor： 에케하르트브루네 ,  디터프렉킹 ,  토마스토니베타 ,  클라우스스프러치

IPC: G01J3/10 ,  H05G2/00

CPC classification number: G02B6/0006 ,  G02B6/14 ,  G02B27/0994 ,  H01J65/04 ,  H01S3/005 ,  G01J3/10 ,  H01J2893/0063 ,  H05G2/00

Abstract: 레이저-작동 광원은 이온화 가능 가스를 수용하는 챔버 및 플라즈마를 발생시키기 위하여 챔버내의 가스를 이온화하는 점화원을 포함한다. 또한, 광원은 플라즈마내로 레이저 에너지를 입력하는 레이저를 포함하고, 레이저광선의 충돌하에서 플라즈마는 유용한 광을 방출하고 이는 광원의 출력 신호를 형성한다. 여기서, 유용한 광을 전달 광 섬유내로 커플링하기 위한 수단이 제공된다. 본 발명에 따른 광원의 경우, 적어도 하나의 모드 스크램블러가 광 섬유 또는 광 섬유들에 할당된다.

Abstract translation: 本发明涉及一种激光操作光源。 激光操作光源包括用于容纳可电离气体的室和用于电离室中的气体以产生等离子体的点火源。 此外，光源包括用于将激光能量输入到等离子体中的激光，使得在激光辐射的冲击下，等离子体发射形成光源的输出信号的有用光，其中提供用于 将有用的光耦合到转移光纤中。 在根据本发明的光源的情况下，至少一个模式扰频器被分配给光纤或光纤。

公开(公告)号：KR1020140114447A

公开(公告)日：2014-09-26

申请号：KR1020147023627

申请日：2013-02-27

Applicant: 고쿠리츠다이가쿠호우징 카가와다이가쿠

Inventor： 이시마루이치로

IPC: G01N21/359 ,  A61B5/145 ,  A61B5/1455 ,  A61B5/00 ,  G01B9/02 ,  G01N21/25 ,  G01N21/45 ,  G01N21/49

CPC classification number: A61B5/1455 ,  A61B5/14532 ,  A61B5/6887 ,  A61B5/7257 ,  A61B2562/0233 ,  G01B9/02041 ,  G01B9/02049 ,  G01B9/0207 ,  G01J3/0205 ,  G01J3/0229 ,  G01J3/0256 ,  G01J3/0272 ,  G01J3/10 ,  G01J3/18 ,  G01J3/4532 ,  G01J3/4535 ,  G01J2003/102 ,  G01J2003/4538 ,  G01N21/255 ,  G01N21/359 ,  G01N21/45 ,  G01N21/49 ,  G01N21/9501 ,  G01N2201/0612

Abstract: 본 발명은 측정 대상으로부터 발사된 측정광을 고정 미러부와 가동 미러부에 입사시켜, 상기 고정 미러부에 의해서 반사된 측정광과 상기 가동 미러부에 의해서 반사된 측정광의 간섭광을 형성한다. 이때, 상기 가동 미러부를 이동시킴으로써 측정광의 간섭광 강도 변화를 얻고, 이 변화에 기초하여 측정광의 인터페로그램을 구한다. 또, 동시에, 측정광의 파장 대역의 일부인 협대역의 파장의 참조광을, 상기 고정 미러부와 상기 가동 미러부에 입사시켜, 그 고정 미러부에 의해서 반사된 참조광과 그 가동 미러부에 의해서 반사된 참조광의 간섭광을 형성한다. 이때, 상기 가동 미러부를 이동시킴으로써 참조광의 간섭광 강도 변화의 진폭, 및 상기 측정광 중 상기 참조광과 같은 파장의 측정광과 상기 참조광의 위상차에 기초하여 상기 측정광의 인터페로그램을 보정하고, 보정 후의 인터페로그램에 기초하여 상기 측정광의 스펙트럼을 구한다.