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公开(公告)号：CN111788525B
公开(公告)日：2023-08-08
申请号：CN201980015829.X
申请日：2019-02-19
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明的课题在于，提供一种所形成的图案的LER及崩塌抑制能力优异的感光化射线性或感放射线性树脂组合物。并且，本发明的另一课题在于，提供一种使用上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物的抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法。并且，本发明的另一课题在于，提供一种能够用于上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物的树脂。本发明的感光化射线性或感放射线性树脂组合物包含通过光化射线或放射线的照射而产生酸的化合物及通过酸的作用而极性增大的树脂，其中，上述树脂包含通式(B‑1)所表示的重复单元，并且上述通式(B‑1)所表示的重复单元的含量相对于上述树脂中的所有重复单元为5～70质量％。通式(B‑1)中，R1表示氢原子或有机基团。环W1表示至少包含1个碳原子及1个氮原子，并且任选地具有取代基的环。
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公开(公告)号：CN114270264A
公开(公告)日：2022-04-01
申请号：CN202080058597.9
申请日：2020-07-28
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/039 , G03F7/038 , G03F7/004 , G03F7/09 , G03F7/00 , C07C311/51 , C07C309/06 , C07C309/17 , C07C309/12 , C07C311/14 , C07C311/48 , C07C381/12
Abstract: 本发明提供一种即使在长期保存的情况下也可得到LWR性能优异的图案的感光化射线性或放射线性树脂组合物。并且，提供一种与上述感光化射线性或放射线性树脂组合物相关的抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法。上述感光化射线性或放射线性树脂组合物含有酸分解性树脂及特定化合物，特定化合物具有2个以上的阳离子部位及与阳离子部位相同数量的阴离子部位，阳离子部位中的至少1个具有由通式(I)表示的基团。
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公开(公告)号：CN113993843A
公开(公告)日：2022-01-28
申请号：CN202080042918.6
申请日：2020-06-01
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: C07C381/12 , G03F7/004 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/20
Abstract: 本发明提供一种即使在长期保存情况下也能得到LWR性能优异的图案的感光化射线性或感放射线性树脂组合物。并且，提供一种与上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物相关的抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法。该感光化射线性或感放射线性树脂组合物包含选自由通式(1)表示的化合物、由通式(2)表示的化合物及由通式(3)表示的化合物组成的组中的1种以上的特定化合物及酸分解性树脂。
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公开(公告)号：CN113168099A
公开(公告)日：2021-07-23
申请号：CN202080006354.0
申请日：2020-01-17
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种能够形成LWR性能优异的图案的感光化射线性或感辐射线性树脂组合物。并且，提供一种使用了上述感光化射线性或感辐射线性树脂组合物的抗蚀剂膜及图案形成方法、以及包括上述图案形成方法的电子器件的制造方法。感光化射线性或感辐射线性树脂组合物包含：树脂A，通过酸的作用而极性增大；树脂B，包含选自由含有氟原子且在酸的作用下极性增大的树脂B1、含有氟原子且在碱的作用下极性增大的树脂B2、及含有氟原子且在酸的作用和碱的作用中的任一作用下极性都增大的树脂B3组成的组中的1种以上；以及化合物，通过光化射线或辐射线的照射而产生酸，通过上述光化射线或辐射线的照射而产生酸的化合物包含选自由化合物(I)～化合物(III)组成的组中的1种以上，其中，上述树脂B1～上述树脂B3不包含含有离子键合性基团的重复单元。
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公开(公告)号：CN107407887B
公开(公告)日：2021-06-08
申请号：CN201680017158.7
申请日：2016-02-02
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/11 , C08F20/36 , C08F26/02 , C08K5/32 , C08L33/10 , C08L33/16 , C08L101/00 , G03F7/32 , H01L21/027
Abstract: 一种上层膜形成用组合物，其涂布于利用感光化射线性或感放射线性树脂组合物形成的抗蚀剂膜上而形成上层膜，且含有树脂X及具有自由基捕获基的化合物A。一种图案形成方法，其具备：工序a，将感光化射线性或感放射线性树脂组合物涂布于基板上，从而形成抗蚀剂膜；工序b，通过在抗蚀剂膜上涂布上述上层膜形成用组合物，在抗蚀剂膜上形成上层膜；工序c，将形成有上层膜的抗蚀剂膜进行曝光；及工序d，使用含有有机溶剂的显影液对经曝光的抗蚀剂膜进行显影来形成图案。
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公开(公告)号：CN112639620A
公开(公告)日：2021-04-09
申请号：CN201980057549.5
申请日：2019-08-13
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明能够提供一种LER性能及崩塌抑制能力优异的感光化射线性或感放射线性树脂组合物。并且，提供一种抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法。本发明的感光化射线性或感放射线性树脂组合物包含通过酸的作用而极性增大的树脂及通过光化射线或放射线的照射产生酸的化合物，该感光化射线性或感放射线性树脂组合物中，树脂具有由通式(B‑1)表示的重复单元。
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公开(公告)号：CN111788525A
公开(公告)日：2020-10-16
申请号：CN201980015829.X
申请日：2019-02-19
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明的课题在于，提供一种所形成的图案的LER及崩塌抑制能力优异的感光化射线性或感放射线性树脂组合物。并且，本发明的另一课题在于，提供一种使用上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物的抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法。并且，本发明的另一课题在于，提供一种能够用于上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物的树脂。本发明的感光化射线性或感放射线性树脂组合物包含通过光化射线或放射线的照射而产生酸的化合物及通过酸的作用而极性增大的树脂，其中，上述树脂包含通式(B‑1)所表示的重复单元，并且上述通式(B‑1)所表示的重复单元的含量相对于上述树脂中的所有重复单元为5～70质量％。通式(B‑1)中，R1表示氢原子或有机基团。环W1表示至少包含1个碳原子及1个氮原子，并且任选地具有取代基的环。
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公开(公告)号：CN106605174B
公开(公告)日：2020-05-19
申请号：CN201580047686.2
申请日：2015-09-15
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明涉及一种负型图案形成方法、保护膜形成用组合物及电子元件制法，所述图案形成方法能够形成焦点深度及曝光宽容度优异且线边缘粗糙度得到抑制的图案。本发明的图案形成方法包括：将感光化射线性或感放射线性树脂组合物涂布于基板上而形成感光化射线性或感放射线性膜的步骤；将保护膜形成用组合物涂布于所述感光化射线性或感放射线性膜上而形成保护膜的步骤；对由保护膜被覆的感光化射线性或感放射线性膜进行曝光的步骤；以及利用包含有机溶剂的显影液，对经曝光的感光化射线性或感放射线性膜进行显影的步骤；保护膜含有：包含至少一个选自由醚键、硫醚键、羟基、硫醇基、羰基键及酯键所组成的组群中的基团或键的化合物(A)，以及树脂(X)。
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公开(公告)号：CN104380195B
公开(公告)日：2018-09-14
申请号：CN201380032035.7
申请日：2013-06-26
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明的图案形成方法包括：(i)形成包含光化射线敏感或放射线敏感树脂组合物的膜，所述光化射线敏感或放射线敏感树脂组合物含有由以下所示的通式(I)表示的化合物(A)；能够通过酸的作用降低对包含有机溶剂的显影液的溶解度的树脂(P)；以及能够通过光化射线或放射线的照射产生酸的化合物(B)；(ii)用光化射线或放射线照射所述膜；(iii)使用包含有机溶剂的显影液将用所述光化射线或放射线照射的所述膜显影。RN‑A‑X+ (I)
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公开(公告)号：CN106605174A
公开(公告)日：2017-04-26
申请号：CN201580047686.2
申请日：2015-09-15
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明涉及一种图案形成方法及该图案形成方法中适合使用的保护膜形成用组合物，所述图案形成方法能够形成焦点深度及曝光宽容度优异且线边缘粗糙度得到抑制的图案。本发明的图案形成方法包括：将感光化射线性或感放射线性树脂组合物涂布于基板上而形成感光化射线性或感放射线性膜的步骤；将保护膜形成用组合物涂布于所述感光化射线性或感放射线性膜上而形成保护膜的步骤；对由所述保护膜被覆的感光化射线性或感放射线性膜进行曝光的步骤；以及利用包含有机溶剂的显影液，对经曝光的所述感光化射线性或感放射线性膜进行显影的步骤；所述保护膜含有：包含至少一个选自由醚键、硫醚键、羟基、硫醇基、羰基键及酯键所组成的组群中的基团或键的化合物(A)，以及树脂(X)。
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